1.一种焦平面探测器铟柱等离子回流成球方法,其特征在于,包括以下步骤:
S1:读出电路制备底层金属;
S2:通过电阻加热蒸发铟膜,剥离制备铟柱;
S3:将制备好铟柱的读出电路放入等离子刻蚀设备中回流成球。
2.如权利要求1所述的焦平面探测器铟柱等离子回流成球方法,其特征在于,所述步骤S1中,用有机溶剂清洗读出电路芯片,清洗干净后进行光刻,然后沉积底层金属结构。
3.如权利要求2所述的焦平面探测器铟柱等离子回流成球方法,其特征在于,所述底层金属结构为Ti/Pt/Au/Cr。
4.如权利要求3所述的焦平面探测器铟柱等离子回流成球方法,其特征在于,所述步骤S2中,在有底层金属的读出电路芯片上光刻,利用电阻热蒸发的方法沉积铟膜,利用超声辅助剥离形成所需厚度的铟柱。
5.如权利要求4所述的焦平面探测器铟柱等离子回流成球方法,其特征在于,所沉积铟膜厚度为3~5um。
6.如权利要求4所述的焦平面探测器铟柱等离子回流成球方法,其特征在于,剥离形成铟柱后,涂胶保护并划片。
7.如权利要求4所述的焦平面探测器铟柱等离子回流成球方法,其特征在于,所述步骤S3中,将制备好铟柱的的读出电路芯片清洗干净后放入等离子刻蚀设备中,等离子刻蚀设备为感应耦合等离子刻蚀设备或反应离子刻蚀设备。
8.如权利要求7所述的焦平面探测器铟柱等离子回流成球方法,其特征在于,所述读出电路芯片放入等离子刻蚀设备中至后,在高真空的状态下,通入Ar和H2,调整射频功率、压强、温度、气体流量刻蚀参数以获得均匀可靠的铟球。
9.如权利要求8所述的焦平面探测器铟柱等离子回流成球方法,其特征在于,通入Ar:6sccm;H2:25sccm;等离子刻蚀设备的刻蚀参数为:射频功率为300W,压强3Pa,温度180℃,时间240S。
10.如权利要求1-9中任一项所述的焦平面探测器铟柱等离子回流成球方法,其特征在于,还包括步骤:
S4:取出已经做好回流成球的读出电路芯片进行倒装焊接
取出铟柱已回流成球的读出电路芯片,测试阵列铟球的高度和直径,高度和直径的均匀性,满足倒装焊接要求的进行倒装焊接。