一种背结背接触太阳能电池的制作方法

文档序号:11102173阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种背结背接触太阳能电池,其特征在于,包括:

基片;

复合在所述基片前表面的复合层;

复合在所述基片背表面的隧穿氧化物层;

复合在所述隧穿氧化物层上的P型掺杂半导体层和N型掺杂半导体层;

设置在所述P型掺杂半导体层上的正电极;

设置在所述N型掺杂半导体层上的负电极。

2.根据权利要求1所述的太阳能电池,其特征在于,所述基片前表面的复合层包括:

复合在所述基片前表面上的前场区;

复合在所述前场区上的前表面钝化层;

复合在所述前表面钝化层上的减反射层。

3.根据权利要求1所述的太阳能电池,其特征在于,所述P型掺杂半导体层和N型掺杂半导体层相邻交替复合在所述隧穿氧化物层上,和/或所述P型掺杂半导体层和N型掺杂半导体层相隔交替复合在所述隧穿氧化物层上;

所述P型掺杂半导体层的宽度与所述N型掺杂半导体层的宽度比为(2~10):1。

4.根据权利要求3所述的太阳能电池,其特征在于,所述P型掺杂半导体层和N型掺杂半导体层相邻交替复合在所述隧穿氧化物层上时,所述正电极的宽度小于所述P型掺杂半导体层的宽度,所述负电极的宽度小于所述N型掺杂半导体层的宽度,且所述正电极不与所述N型掺杂半导体层相接触,所述负电极不与所述P型掺杂半导体层相接触。

5.根据权利要求1所述的太阳能电池,其特征在于,所述基片前表面的复合层具有绒面陷光结构。

6.根据权利要求1所述的太阳能电池,其特征在于,所述基片前表面具有绒面陷光结构。

7.根据权利要求1~6任意一项所述的太阳能电池,其特征在于,所述基片的材质包括轻掺杂的硅材料,所述轻掺杂的掺杂浓度为1013~1017cm-3;所述掺杂的类型为N型;

所述硅材料包括单晶硅、多晶硅和硅薄膜中的一种或多种;

所述掺杂的材质包括硼、磷、镓和砷中的一种或多种;

所述基片的少子寿命大于等于500μs;所述基片的电阻率为1~50Ω·cm;

所述基片的厚度为50~300μm。

8.根据权利要求1~6任意一项所述的太阳能电池,其特征在于,所述隧穿氧化物层的材质为绝缘材料;

所述绝缘材料包括二氧化硅、二氧化钛、氧化铝和氮化硅中的一种或多种;

所述隧穿氧化物层的厚度为0.3~2nm。

9.根据权利要求1~6任意一项所述的太阳能电池,其特征在于,所述P型掺杂半导体层和N型掺杂半导体层的半导体材质各自包括微晶硅、多晶硅和非晶硅中的一种或多种;所述掺杂的材质各自包括硼、磷、镓和砷中的一种或多种;

所述掺杂的浓度各自为1018~1021cm-3

所述P型掺杂半导体层和N型掺杂半导体层的厚度各自选自5nm~500nm。

10.根据权利要求2所述的太阳能电池,其特征在于,所述前场区为在基片前表面上,通过扩散磷形成的高掺杂区域;

所述前场区的厚度为0.5~2μm;

所述前表面钝化层包括氧化硅层、氮化硅层、氧化硅和氮化硅叠层或碳化硅层;

所述前表面钝化层的厚度为50~100nm;

所述减反射层的材质包括氮化硅、ITO、氧化硅和氧化钛中的一种或多种;

所述减反射层的厚度为40~100nm。

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