一种抗PID效应的太阳能电池片的制作方法

文档序号:11051114阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种抗PID效应的太阳能电池片,包括衬底,所述衬底的表面具有扩散发射结,其特征在于,所述扩散发射结的表面设置有第一金属离子阻挡层,所述第一金属离子阻挡层的表面设置有减反射层,所述减反射层的表面设置有第二金属离子阻挡层。

2.根据权利要求1所述的抗PID效应的太阳能电池片,其特征在于,所述第一金属离子阻挡层为二氧化硅层。

3.根据权利要求2所述的抗PID效应的太阳能电池片,其特征在于,所述第二金属离子阻挡层为二氧化硅和碳氧化硅层。

4.根据权利要求3所述的抗PID效应的太阳能电池片,其特征在于,所述减反射层为氮化硅层。

5.根据权利要求4所述的抗PID效应的太阳能电池片,其特征在于,所述第一金属离子阻挡层的厚度范围为3纳米至8纳米。

6.根据权利要求5所述的抗PID效应的太阳能电池片,其特征在于,所述第二金属离子阻挡层的厚度范围为5纳米至10纳米。

7.根据权利要求6所述的抗PID效应的太阳能电池片,其特征在于,所述减反射层的厚度范围为50纳米至70纳米。

8.根据权利要求1-7任一项所述的抗PID效应的太阳能电池片,其特征在于,所述衬底为多晶硅衬底或单晶硅衬底。

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