技术总结
一种阵列基板的制造方法，包括：利用现有的加工方法在一衬底基板上形成阳极和位于阳极上的有机膜层；由加工出的衬底基板上获取各像素单元内有机膜层的膜厚均一区域的宽度及膜厚均一区域相对于阳极的偏移量；根据得到的各个像素单元内有机膜层膜厚均一区域的宽度和膜厚均一区域相对于阳极的偏移量，调整加工阳极的遮光罩上的开口位置及开口宽度，得到改进后的加工阳极膜层的遮光罩，使得利用该遮光罩加工出的阳极区域的中心与有机膜层膜厚均一区域的中心重合，从而避免了利用现有方法所造成的有机发光层的膜厚均一区域偏离阳极区域的问题。
技术研发人员：王卫卫;王会;何麟
受保护的技术使用者：昆山国显光电有限公司
文档号码：201710049282
技术研发日：2017.01.23
技术公布日：2017.05.31