技术特征：
技术总结
本发明提供一种阵列基板母板的制备方法、阵列基板母板和检测方法，所述阵列基板母板的制备方法包括：在衬底基板上沉积第一薄膜，第一薄膜的边缘与衬底基板的边缘存在间隙，在第一薄膜上涂覆光刻胶，进行曝光、显影，以使光刻胶形成第一刻度图形，第一刻度图形与衬底基板的边缘平齐，且覆盖第一薄膜，从而可以通过第一刻度图形读取出第一薄膜的边缘与衬底基板的边缘的距离，相比于手动测量的方法，测量效率较高，且省时省力，而且，通过光刻工艺形成的第一刻度图形的精度为微米级，相比于现有毫米级的刻度尺，测量精度较高，测量偏差较小。
技术研发人员：付方彬;郭会斌;王守坤;韩皓;宋勇志
受保护的技术使用者：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
技术研发日：2017.06.27
技术公布日：2017.09.22