用于等离子体处理的双区式加热器的制作方法

技术特征：

技术总结
本申请公开了用于等离子体处理的双区式加热器。提供了一种用于基座的方法和装置。在一个实施例中，所述基座包括：包含陶瓷材料并且具有凸缘的主体；嵌入在主体中的一或多个加热元件；耦接到凸缘的第一轴；以及耦接到第一轴的第二轴；其中第二轴包括在所述第二轴中形成的多个流体通道，所述流体通道在所述第二轴中终止。

技术研发人员：周建华;R·萨卡拉克利施纳;J·C·罗查-阿尔瓦雷斯;X·林
受保护的技术使用者：应用材料公司
技术研发日：2016.02.05
技术公布日：2017.10.03