技术特征：
技术总结
本发明涉及显示技术领域，公开了一种薄膜晶体管及制备方法、阵列基板及显示装置，该薄膜晶体管的制备方法包括在衬底基板上通过构图工艺形成遮光层图案和有源层图案，其中，有源层图案位于遮光层图案背离衬底基板的一侧，遮光层图案的材料为树脂；在有源层图案上形成栅绝缘层，栅极图案，层间绝缘层和源漏电极。该方式不仅减少了工艺步骤，节省了成本，而且减少了遮光层图案与源漏电极之间的电容和感应电荷，从而提高了使用该方法制成的阵列基板的薄膜晶体管的稳定性和偏压信赖性。
技术研发人员：汪建国;李海旭
受保护的技术使用者：京东方科技集团股份有限公司
技术研发日：2017.09.11
技术公布日：2018.01.12