双面显示的面板结构及显示装置的制作方法

本发明涉及显示技术领域，特别是涉及双面显示的面板结构及显示装置。

背景技术

oled显示器件具有自发光、亮度高、响应速度快、宽视角、低功耗及可弯曲实现柔性显示等特性，被誉为“梦幻显示器”，得到了各大显示器厂家的青睐，已成为显示技术领域中第三代显示器件的主力军。

目前，oled主要以单面显示为主，但电子产品的形式趋于多样化，双面显示功能成为新世代电子产品的重要特色。例如，手机内部的双面显示装置可以一面显示手机主功能窗口，另一面显示时间；例如，在公共场合使用双面显示器让显示器两侧的人员都能看到展示的各种内容。

目前业界所生产的双面显示装置通常是两个单面显示面板对贴组合而成。采用两个单面显示面板背靠背对贴组装形成的双面显示装置，其结构比较厚且重量较大，制造成本高，不符合消费者期望的轻薄与高性价比的要求。

技术实现要素：

基于此，有必要提供一种双面显示面板结构，该双面显示面板结构能够在保证显示效果的同时，实现轻薄的双面显示，且制造成本低。

一种双面显示的面板结构，包括驱动电路，以及层叠设置的基板、第一电极层、第一发光层、反射像素电极层、第二发光层和第二电极层；所述驱动电路连接至所述反射像素电极层。

在其中一个实施例中，所述反射像素电极层的材料为al、al合金、ag、ag合金中的至少一种。

在其中一个实施例中，所述反射像素电极层的厚度为50-300nm。

在其中一个实施例中，所述第一电极层的材料为ito、izo中的至少一种。

在其中一个实施例中，所述第二电极层的材料为ito、izo、al、al合金、ag、ag合金中的至少一种。

在其中一个实施例中，所述第二电极层的厚度为15-25nm。

在其中一个实施例中，所述的双面显示的面板结构，还包括第一像素界定层和第二像素界定层；

所述第一像素界定层设置于所述基板上，包括用于设置所述第一电极层和第一发光层的第一像素腔；

所述第二像素界定层设置于所述第一像素界定层上，包括用于设置所述反射像素电极层、第二发光层和第二电极层的第二像素腔。

在其中一个实施例中，所述第二像素界定层的上表面还层叠有辅助电极层；所述第二电极层层叠于所述第二发光层和所述辅助电极层的表面。所述辅助电极层的材料可与所述反射像素电极层相同，以便在制作所述反射像素电极层时，同步进行图形制作。

在其中一个实施例中，所述第二像素界定层中围成所述第二像素腔的侧壁与所述第一像素界定层上用于设置所述反射像素电极层的表面之间的夹角小于90°。该夹角设置能够有效隔断发射像素电极层和所述辅助电极层。

在其中一个实施例中，所述第二像素界定层的厚度为400-600nm。为了防止后期第二电极层制作过程中发射断裂，第二像素界定层不宜过厚，太厚会导致后期第二电极层发生断裂，太薄则无法有效隔断反射像素电极层和所述辅助电极层。

在其中一个实施例中，所述驱动电路设置于所述基板上；所述第一像素界定层还设有通孔，所述通孔用于连通所述驱动电路与所述反射像素电极层。将驱动电路设置于面板结构的内部，可进一步缩小面板结构的体积，优化器件结构。

在其中一个实施例中，所述第一像素界定层的材料为疏液材料。

在其中一个实施例中，所述基板为刚性玻璃基板或柔性基板。

本发明所述第一发光层包括空穴注入层、空穴传输层、光发射层、电子传输层以及电子注入层中的一层或多层，其中必须具有光发射层，光发射层包括但不限于有机光发射层、量子点光发射层或钙钛矿光发射层。在所述通孔存在的情况下，所述第一发光层制作时可采用印刷工艺制作，从而可以防止所述通孔在第一发光层的制备过程中被发光层材料填充而无法实现有效连接。

本发明所述第二发光层包括空穴注入层、空穴传输层、光发射层、电子传输层以及电子注入层中的一层或多层，其中必须具有光发射层，光发射层包括但不限于有机光发射层、量子点光发射层或钙钛矿光发射层。第二发光层可以通过印刷或蒸镀工艺制备，采用印刷工艺需对第二像素界定层上的金属薄膜(即第二像素界定层的表面)进行疏水性处理，如cf4plasma处理，采用蒸镀工艺制备时需采用精细mask进行蒸镀制备。

本发明还提供一种显示装置，包括所述的双面显示的面板结构。

与现有技术相比，本发明具有以下有益效果：

本发明的双面显示的面板结构，合理设置各部件，其中所述第一电极层、第一发光层以及反射像素电极层组成底发射型发光元器件，第二发光层、第二电极层以及反射像素电极层组成顶发射型发光元器件，二者共用反射像素电极层，且反射像素电极层与驱动电路相连接，从而使得驱动电路可以同时控制叠加在一起的底发射型发光元器件以及顶发射型发光元器件。由此形成双面显示的面板结构，能够在保证显示效果的同时，实现轻薄的双面显示，且制造成本低。

进一步地，通过合理控制反射像素电极层的厚度和材料，能够同时保证底发射型发光元器件以及顶发射型发光元器件的发光性能，从而获得更优的显示效果。

附图说明

图1为本发明一实施例中的双面显示的面板结构示意图；

图2为图1所示的双面显示的面板结构的制作工艺流程图；

图3为图1所示的双面显示的面板结构的制作方法中步骤s1的结构示意图；

图4为图1所示的双面显示的面板结构的制作方法中步骤s2的结构示意图；

图5为图1所示的双面显示的面板结构的制作方法中步骤s3的结构示意图；

图6为图1所示的双面显示的面板结构的制作方法中步骤s4的结构示意图；

图7为图1所示的双面显示的面板结构的制作方法中步骤s5的结构示意图；

图8为图1所示的双面显示的面板结构的制作方法中步骤s6的结构示意图。

具体实施方式

以下结合具体实施例对本发明的双面显示的面板结构及显示装置作进一步详细的说明。

为了便于理解本发明，下面将参照相关附图对本发明进行更全面的描述。附图中给出了本发明的较佳实施例。但是，本发明可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本发明的公开内容的理解更加透彻全面。

需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。

实施例

如图1所示，本实施例一种双面显示的面板结构，包括驱动电路400，以及层叠设置的基板100、第一电极层101、第一发光层102、反射像素电极层300、第二发光层202和第二电极层201。驱动电路400连接至反射像素电极层300。

该双面显示的面板结构，合理设置各部件，其中第一电极层101、第一发光层102以及反射像素电极层300组成底发射型发光元器件，第二发光层202、第二电极层201以及反射像素电极层300组成顶发射型发光元器件，二者共用反射像素电极层300，且发射像素电极300与驱动电路400相连接，从而使得驱动电路400可以同时控制叠加在一起的底发射型发光元器件以及顶发射型发光元器件。由此形成双面显示的面板结构，能够在保证显示效果的同时，实现轻薄的双面显示，且制造成本低。

其中，反射像素电极层300的材料为导电金属，优选为al、al合金、ag、ag合金中的至少一种时可获得更加的发光效果。在本实施例中，反射像素电极层300的材料为al，厚度为100nm。可理解，在其它实施例中，也可根据具体的面板结构需要进行其它反射像素电极层300的厚度设置，优选反射像素电极层300的厚度为50-300nm。

第一电极层101的材料为透明导电金属氧化物，优选为ito、izo中的至少一种。在本实施例中，第一电极层101的材料为ito。

第二电极层201的材料为透明导电金属氧化物或金属薄膜，优选为ito、izo、al、al合金、ag、ag合金中的至少一种。在本实施例中，第二电极层201的材料为al合金，厚度约15-25nm。

基板100可为刚性玻璃基板或柔性基板，在本实施例中，采用刚性玻璃基板作为基板100。

进一步地，如图1所示，本实施例的双面显示的面板结构，还包括第一像素界定层103和第二像素界定层203。第一像素界定层103设置于基板100上，包括用于设置第一电极层101和第一发光层102的第一像素腔，采用疏液材料制作；第二像素界定层203设置于第一像素界定层103上，包括用于设置反射像素电极层300、第二发光层202和第二电极层201的第二像素腔。

在本实施例中，第二像素界定层203的上表面还层叠有辅助电极层204，第二电极层201层叠于第二发光层202和辅助电极层204的表面。由此可提高第二透明电极的导电性。辅助电极层204的材料可与反射像素电极层300相同，以便在制作反射像素电极层300时，同步进行图形制作。

在本实施例中，第二像素界定层203中围成第二像素腔203的侧壁与第一像素界定层103上用于设置反射像素电极层300的表面之间的夹角小于90°。该夹角设置能够有效隔断发射像素电极300。同时，为了防止后期第二电极层201制作过程中发射断裂，第二像素界定层203不宜过厚，本实施例中设置第二像素界定层203的厚度为400-600nm，太厚会导致后期第二电极层201发生断裂，太薄则无法有效隔断反射像素电极层300。

在本实施例中，驱动电路400设置于基板100上。第一像素界定层103还设有通孔104，通孔104用于连通驱动电路400与反射像素电极层300。将驱动电路400设置于面板结构的内部，可进一步缩小面板结构的体积，优化器件结构。具体地，驱动电路400可通过黄光工艺集成在基板100上。

上述双面显示的面板结构可进行常规安装制成能够双面显示的显示装置。

上述双面显示的面板结构的制作方法，工艺流程图见图2，包括如下步骤：

s1、提供基板100，基板100上设置有驱动电路400以及第一电极层101，如图3所示；

s2、于基板100上制作第一像素界定层103，覆盖第一电极层101边缘区域，且包括用于设置第一电极层101和第一发光层102的第一像素腔，以及通孔104，如图4所示；

s3、于第一像素界定层103上制作第二像素界定层203，第二像素界定层203包括用于设置反射像素电极层300、第二发光层202和第二电极层201的第二像素腔，如图5所示；

s4、在所述第一像素腔中，第一电极层101上采用印刷工艺制备第一发光层102，如图6所示；

s5、在所述第二像素腔中，整面(包括第一发光层102、第一像素限定层103和第二像素限定层203的表面)沉积反射像素电极层材料，第二像素界定层203将其隔断图形化，形成反射像素电极层300和辅助电极204，如图7所示；

s6、在反射像素电极层300上制作第二发光层202，如图8所示；

s7、整面(包括第二发光层202和第二像素限定层203的表面)沉积第二电极层201，其中第二像素界定层203上的反射导电薄膜可以作为辅助电极204，提高第二电极层201的导电性；得双面显示的面板结构，如图1所示。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。