一种集成式进气排气装置的制作方法

本实用新型涉及半导体设备晶片烘烤工艺的进气排气装置技术领域，特别适用于一种集成式进气排气装置。

背景技术：

在半导体行业晶片烘烤单元中，进气与排气的协调性对于晶片烘烤单元的整体性能至关重要，单元内均匀的进气与排气不仅直接影响晶片烘烤工艺的指标，而且还可以将单元内产生的热量及时持续的带出单元外部，从而延长了单元内器件的使用寿命。公知的晶片烘烤单元进气装置布置在单元的上部，而排气装置布置在单元的底部，属于进气排气分体式设计，其缺点在实践中体现为占用体积大，难于拆卸，不易清洗。

技术实现要素：

为解决上述技术问题，本实用新型的目的是提供一种集成式进气排气装置，具体技术方案如下：

一种集成式进气排气装置，包括集成块、上密封圈、压板、压环、下密封圈，托板、隔板；

所述隔板安装于托板的阶梯面上，压板放置于托板的上表面，通过压环将压板压紧，并与托板固定；

所述集成块固定于压板中心表面相对位置，其中隔板与压板间形成气体流动空间，称之为排气腔；隔板与托板间形成气体流动空间，称之为进气腔；

所述集成块具有进气通道和排气通道，并且集成块的进气通道与进气腔相通，集成块的排气通道与排气腔相通；

所述进气通道与排气通道互不相通；

所述托板上设有排气槽，隔板上设有排气孔；

所述集成块与压板接触的表面开有凹槽，用于安装上密封圈，保证集成块与压板间的紧密配合，无气体泄漏；

所述托板与压板的接触面开有凹型槽，用于安装下密封圈，保证托板与压板间紧密配合，无气体泄漏；

所述压环与托板通过手动旋钮固定。

所述的一种集成式进气排气装置，其优选方案为所述进气通道和排气通道可设置在集中块的侧面或上面，且结构可多样化。

所述的一种集成式进气排气装置，其优选方案为所述压板和托板的形状可根据整体布局进行选择。

所述的一种集成式进气排气装置，其优选方案为所述排气槽的数量可根据实际需求选择，排列可圆周排列、线性排列或不规则排列，排气孔的数量与排列与排气槽一一对应，且排气孔与排气槽相通。

所述的一种集成式进气排气装置，其优选方案为所述压环为整体结构或分体结构，形状为任意形状，根据整体布局进行选择。

该装置工作时，空气经过集成块的进气通道进入到进气腔，通过托板的排气槽与隔板的排气孔进入到排气腔，再通过集成块的排气通道，空气排出装置外部。

本实用新型发明的有益效果：本实用新型的技术方案该装置可将进气通道与排气通道布置成一个整体，位于晶片烘烤单元的上方，与晶片烘烤单元的其他部件互不影响，属于独立存在的装置。利用托板与隔板间形成的进气腔和集成块的进气通道相通，隔板与压板间形成的排气腔和集成块的排气通道相通，再通过托板与隔板互通的排气槽与排气孔，从而实现气体经集成块的进气通道进入进气腔，气体均匀的吹向烘烤面，再经过排气槽与排气孔，进入排气腔，流向集成块的排气通道，从而将气体排出单元外部。可以根据实际情况，通过限制各个零部件的厚度，减小整体的高度，可以达到很薄的状态。通过各个零部件的巧妙配合，使该装置易于拆卸，并易于清洗。

附图说明

图1为一种集成式进气排气装置结构示意图；

图2为图1连接配合部件示意图。

图中，1为集成块，2为上密封圈，3为压板，4为压环，5为下密封圈，6为托板，7为隔板，8为进气通道，9为排气通道，10为排气腔，11为进气腔，12为进气通道口，13为排气槽，14为排气通道口，15为排气孔，16为凹槽，17为凹形槽，18为手动旋钮，19为配合部件。

具体实施方式

如图1-2所示一种集成式进气排气装置，其特征在于：包括集成块1、上密封圈2、压板3、压环4、下密封圈5，托板6、隔板7；

所述隔板7安装于托板6的阶梯面上，压板3放置于托板6的上表面，通过压环4将压板3压紧，并与托板6固定；

所述集成块1固定于压板3中心表面相对位置，其中隔板7与压板3间形成气体流动空间，称之为排气腔10；隔板7与托板6间形成气体流动空间，称之为进气腔11；

所述集成块1具有进气通道8和排气通道9，并且集成块1的进气通道8与进气腔11相通，集成块1的排气通道9与排气腔10相通；

所述进气通道8与排气通道9互不相通；

所述托板6上设有排气槽13，隔板7上设有排气孔15；

所述集成块1与压板3接触的表面开有凹槽16，用于安装上密封圈2，保证集成块1与压板3间的紧密配合，无气体泄漏；

所述托板6与压板3的接触面开有凹型槽17，用于安装下密封圈5，保证托板6与压板3紧机密配合，无气体泄漏；

所述压环4与托板6通过手动旋钮18固定。

所述进气通道口12和排气通道口14可设置在集中块1的侧面或上面，且进气通道8和排气通道9的结构可多样化。

所述压板3和托板6的形状可根据整体布局进行选择。

所述排气槽13的数量可根据实际需求选择，排列可圆周排列、线性排列或不规则排列，排气孔15的数量与排列与排气槽13一一对应，且排气孔15与排气槽13相通。

所述压环4为整体结构或分体结构，形状为任意形状，根据整体布局进行选择。

该装置工作时，空气经过集成块的进气通道8进入到进气腔11，通过托板6的排气槽13与隔板7的排气孔15进入到排气腔10，再通过集成块1的排气通道9，空气排出装置外部。

如图2所示：本装置在工作状态时，装置下方与配合部件配合19使用，托板6与隔板7间形成的进气腔11与配合部件19形成一封闭区域。

气体从集成块1的进气通道口12进入，经过进气通道9，进入进气腔11，在进气腔11中形成均匀的气流，之后气流通过托板6的排气槽13和隔板7的排气孔15，进入到排气腔10，再经过集成块1的排气通道9，排出装置外部，以此循环工作，保证该装置在工作中有持续的气流流动。