压力开关斜面防水结构的制作方法

文档序号:9398109阅读:420来源:国知局
压力开关斜面防水结构的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明属于工程机械领域,具体涉及一种压力开关斜面防水结构。
【背景技术】
[0002]压力开关可以广泛用于石油、化工、冶金、电力、供水等领域中对各种气体、液体的表压、绝压的测量控制,是工业现场理想的智能化测控仪表。其主要采用高精度、高稳定性能的压力传感器和变送电路,再经专用CPU模块化信号处理技术,来实现对介质压力信号的检测、显示、报警和控制信号输出。
[0003]压力开关在工业领域中有着非常重要的用途,能预防生产工程中重要装置的损坏,避免重大生产事故的发生。因此压力开关的安全稳定性是极其重要的,而为了实现此性能,防水性是其必不可少的要求。
[0004]现有压力开关接口端普遍采用的是平面接触,如图1所示,其由密封盖①、压力开关②、密封垫③组成,这种密封结构存在如下缺点:
[0005](I)防水性低。开孔较大,且接触边缘密封不够贴合,增加进水风险。
[0006](2)积水不容易排出。平面接触,若不慎溅入水滴,因无倾斜角度导向流出,水滴会积累于接触面处形成积水。长期下去,积水会腐蚀接触面,流入壳体内,则会损坏内部元器件。

【发明内容】

[0007]本发明的目的是提供一种工程机械常用压力开关的密封结构,主要通过修改压力开关接口处密封结构,将以往普通平面接触密封修改为斜面接触密封。
[0008]本发明的技术方案是:
[0009]—种压力开关斜面防水结构,包括密封盖、压力开关、密封垫、密封圈四部分,密封盖中间开口,开口上部口径大于开口下部口径,开口上部到开口下部成斜面,所述斜面上开有密封圈槽,压力开关置于密封盖的开口内,密封垫置于压力开关和密封盖上沿之间,密封圈置于压力开关与所述斜面上的密封圈槽之间。
[0010]本发明的创新点是将原有平面密封结构进行修改,利用压力开关接口原有斜面,修改与其接触面形状为斜面,并增加密封圈来加强防水效果。
[0011]本发明具有以下有益效果:
[0012](I)减小了接口开孔尺寸,减少潜在接触面积,规则密封边缘则密封更加方便准确。
[0013](2)斜面结构,溅入水滴时,水滴会沿斜面向外流出,而不会产生积水。
(3)增加密封圈密封,防水性更高。
【附图说明】
[0014]图1为现有压力开关结构图。 图2为本发明压力开关斜面防水结构图。
【具体实施方式】
[0015]如图2所示,本发明的压力开关斜面防水结构,包括密封盖1、压力开关2、密封垫3、密封圈4四部分,密封盖中间开口,开口上部口径大于开口下部口径,开口上部到开口下部成斜面,所述斜面上开有密封圈槽401,压力开关置于密封盖的开口内,密封垫置于压力开关和密封盖上沿之间,密封圈置于压力开关与所述斜面上的密封圈槽401之间。
[0016]以上显示和描述了本发明的基本原理、主要特征和本发明的优点。本行业的技术人员应该了解,本发明不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理,在不脱离本发明精神和范围的前提下本发明还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。
【主权项】
1.一种压力开关斜面防水结构,其特征在于,包括密封盖、压力开关、密封垫、密封圈四部分,密封盖中间开口,开口上部口径大于开口下部口径,开口上部到开口下部成斜面,所述斜面上开有密封圈槽,压力开关置于密封盖的开口内,密封垫置于压力开关和密封盖上沿之间,密封圈置于压力开关与所述斜面上的密封圈槽之间。
【专利摘要】本发明公开了一种压力开关斜面防水结构,包括密封盖、压力开关、密封垫、密封圈四部分,密封盖中间开口,开口上部口径大于开口下部口径,开口上部到开口下部成斜面,所述斜面上开有密封圈槽,压力开关置于密封盖的开口内,密封垫置于压力开关和密封盖上沿之间,密封圈置于压力开关与所述斜面上的密封圈槽之间。本发明型具有以下有益效果:减小了接口开孔尺寸,减少潜在接触面积,规则密封边缘则密封更加方便准确;斜面结构,溅入水滴时,水滴会沿斜面向外流出,而不会产生积水;增加密封圈密封,防水性更高。
【IPC分类】H01H35/26
【公开号】CN105118732
【申请号】CN201510555671
【发明人】陆中华, 董树武, 池宝佳
【申请人】上海埃而生电气有限公司
【公开日】2015年12月2日
【申请日】2015年9月2日
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