用于发光装置的层板及其制备方法_5

文档序号:9602661阅读:来源:国知局
波长范围内 始终均匀。然而,在比较示例2的用于发光装置的层板(标记为虚线)中,波长越长,混浊 度比越低。因此,在混浊度比方面在最大值与最小值之间存在30%或更多的差异。
[0103] 图8为示出吸光度的图解。X轴示出波长(λ)且Υ轴示出吸光度(Ab,%)。在可 见光的整个波长范围内,根据本发明的用于发光装置的层板的吸光度(标记为实线)几乎 等于比较示例2的用于发光装置的层板的吸光度(标记为虚线)。
[0104] 图9为示出外部发射的光的强度分布相对于视角的图解。X轴示出自正面观察的 角(°)且Y轴示出强度(A.U.)。通过-80°至80°的视角,根据本发明的用于发光装置的层 板(标记为实线)具有几乎等于比较示例2的用于发光装置的层板(标记为虚线)的光漫 射性能。然而,在-20°至20°的视角内,根据本发明的用于发光装置的层板具有相比于比 较示例2的用于发光装置的层板优良得多的光集中度(透光率)。
[0105] 图10示出通过示例4中所述的离子交换方法用钾处理的基板(在烧结之前,左 图,图10(a))及其中在所述用钾处理的基板上施加玻璃粉层且然后通过烧结形成内部光 提取层的用于发光装置的层板(在烧结之后,右图,图10(b))的钾浓度分布。用钾处理的 基板的钾离子浓度变得在朝向表面处较高。然而,在通过于所述基板上施加玻璃粉层以及 烧结而形成内部光提取层之后,钾离子自玻璃基板的表面扩散及移动至内部光提取层。
[0106] 图11为示出在示例5中制备的用于发光装置的层板的横截面的SEM像片。该像 片示出在低折射率玻璃粉层与内部光提取层之间界面空隙层的形成。因此,可以通过于一 般玻璃基板上涂布含有钾离子的低折射率玻璃粉层的方法制备用于发光装置的层板。
[0107] 总之,包括界面空隙层的本发明的用于发光装置的层板可以将诸如吸光度等的光 学特性维持在等于或更优于使用气泡作为散射因子的用于发光装置的现有散射型层板的 水平处,相比于具有相同漫射性能的用于发光装置的常规散射型层板具有非常优良的可见 光范围中的总透射率及在竖直方向上的透光率,且在可见光的整个波长范围内具有比常规 散射型层板均匀得多的混浊度比。
[0108] 工业适用性 本发明的用于发光装置的层板可以广泛用于需要有效光提取的发光装置,且尤其适合 于光学装置的领域,诸如有机发光二极管(0LED)、背光、照明工业等,因为其具有优良光学 特性。
[0109]【符号】 ILE:内部光提取层(RI:1. 8~2. 1) G:玻璃基板V:空隙(RI~1) F:玻璃粉EC:乙基纤维素 A:空气。
【主权项】
1. 一种用于发光装置的层板,其包括: 包括钾的玻璃基板或涂布有包括钾的矿物层的玻璃基板;及 在所述玻璃基板上由玻璃粉形成的具有1. 8至2. 1的折射率(RI)的内部光提取层, 其中所述内部光提取层在与玻璃基板或矿物层的界面处包括界面空隙层。2. 根据权利要求1所述的层板,其中所述玻璃基板为钠钙玻璃基板。3. 根据权利要求1或2所述的层板,其中所述玻璃基板的表面或最外区域用钾处理。4. 根据前述权利要求中任一项所述的层板,其中所述玻璃基板或矿物层的表面以1至 15重量%、优选5重量%或更少的浓度而包括钾。5. 根据前述权利要求中任一项所述的层板,其中所述界面空隙层具有1至5μπι的厚 度,且其中所述界面空隙层具有40%至90%的空隙面积比。6. 根据前述权利要求中任一项所述的层板,其中所述玻璃粉包括基于玻璃粉的总重 量的55至84重量%的Bi203、0至20重量%的BaO、5至20重量%的ΖηΟ、1至7重量%的 Α1203、5至15重量%的Si02、5至20重量%的Β203及0· 05至3重量%的Na20。7. 根据前述权利要求中任一项所述的层板,其中所述内部光提取层具有玻璃粉单层, 其在与玻璃基板或矿物层的界面处包括所述界面空隙层。8. 根据权利要求1至6中任一项所述的层板,其中所述内部光提取层具有在与玻璃基 板或矿物层的界面处包括界面空隙层的第一玻璃粉层及覆盖且接触第一玻璃粉层的第二 玻璃粉层。9. 根据前述权利要求中任一项所述的层板,其中所述内部光提取层包括玻璃粉的单层 或双层且在最外表面、优选在距最外表面至少2Mm的最外区域处没有任何诸如空隙及粒子 的散射元件。10. 根据前述权利要求中任一项所述的层板,其中所述内部光提取层具有6至30μπι 的总厚度。11. 根据前述权利要求中任一项所述的层板,其中所述内部光提取层具有小于1nm的 最外表面粗糙度(Ra)。12. 根据前述权利要求中任一项所述的层板,其中钾浓度从所述玻璃基板与所述内部 光提取层之间的界面至所述内部光提取层的最外表面变得更小。13. 根据前述权利要求中任一项所述的层板,其中于所述内部光提取层的最外表面上 钾具有小于1重量%的浓度。14. 根据前述权利要求中任一项所述的层板,此外包括在用于发光装置的层板上形成 的透明电极层。15. -种制备用于发光装置的层板的方法,包括: 制备包括钾的玻璃基板; 将玻璃粉浆料(优选没有散射元件)施加到所述玻璃基板上以形成第一玻璃粉层; 干燥所述第一玻璃粉层;及 烧结所述经干燥的第一玻璃粉层以形成具有1. 8至2. 1的折射率的内部光提取层, 其中所述内部提取层在与玻璃基板的界面处包括界面空隙层。16. -种制备用于发光装置的层板的方法,包括: 制备玻璃基板; 将包括钾的玻璃粉浆料施加于玻璃基板上; 干燥及烧结经涂布有玻璃粉浆料的玻璃基板,以形成涂布有包括含钾玻璃粉的矿物层 的玻璃基板; 将玻璃粉浆料(优选没有散射元件)施加至涂布有矿物层的玻璃基板上以形成第一玻 璃粉层; 干燥第一玻璃粉层;及 在预定第一温度下烧结经干燥的第一玻璃粉层,以形成具有1. 8至2. 1的折射率的内 部光提取层, 其中所述内部提取层在与矿物层的界面处包括界面空隙层。17. 根据权利要求15或16所述的方法,此外包括: 将另一玻璃粉浆料(优选没有散射元件)施加至经烧结的第一玻璃粉层上以形成第二 玻璃粉层(优选具有无突出的表面); 干燥第二玻璃粉层;及 在预定第二温度下烧结经干燥的第二玻璃粉层,以形成用于具有1. 8至2. 1的折射率 的内部光提取层的双玻璃粉层结构。18. 根据权利要求15至17中任一项所述的方法,其中钾浓度从玻璃基板或矿物层与内 部光提取层之间的界面至内部光提取层的最外表面更小。19. 根据权利要求15至18中任一项所述的方法,其中界面空隙层具有1至5μm的厚 度,且其中界面空隙层具有40%至90%的空隙面积比。20. 根据权利要求15至19中任一项所述的方法,其中第一或第二玻璃粉层的最外表面 以小于1重量%的浓度包括钾。21. 根据权利要求15至20中任一项所述的方法,其中第一玻璃粉层在500°C与590°C 之间的第一烧结温度下被烧结。22. 根据权利要求15至21中任一项所述的方法,其中所述玻璃基板为钠钙玻璃基板。23. 根据权利要求15至22中任一项所述的方法,其中所述玻璃基板的表面或最外区域 用钾处理。24. 根据权利要求15至23中任一项所述的方法,其中玻璃基板的表面以1至15重量% 的浓度包括钾。25. 根据权利要求15至24中任一项所述的方法,其中第一玻璃粉包括基于玻璃粉的总 重量的55至84重量%的Bi203、0至20重量%的BaO、5至20重量%的ZnO、1至7重量% 的Al203、5至15重量%的Si02、5至20重量%的B203及0· 05至3重量%的Na20。26. 根据权利要求15至25中任一项所述的方法,其中所述内部光提取层具有6至30 μm的总厚度。
【专利摘要】提供了一种用于发光装置的层板。所述用于发光装置的层板包括具有钾的玻璃基板或涂布有含有钾的矿物层的玻璃基板,及所述玻璃基板上由玻璃粉形成的内部光提取层。内部光提取层在与玻璃基板或矿物层的界面处包括界面空隙层。本发明的层板特征在于具有界面空隙层,所述界面空隙层诱发光散射以用于将在基板与内部光提取层之间的界面处损失的光有效提取至外部。本发明的层板适合于光学装置的领域,诸如有机发光二极管(OLED)、背光、照明工业等。
【IPC分类】H01L51/56, H01L51/52, H05B33/22
【公开号】CN105359291
【申请号】CN201480040327
【发明人】韩镇宇, 李荣盛
【申请人】法国圣戈班玻璃厂
【公开日】2016年2月24日
【申请日】2014年7月16日
【公告号】EP3022783A1, US20160155990, WO2015009054A1
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