一种降低oled混色缺陷的方法及oled显示面板的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及显示屏幕制造领域，具体涉及一种降低OLED混色缺陷的方法及OLED显示面板。
【背景技术】
[0002]随着社会的不断发展，手机、电脑、电视都需要使用可视屏幕，人们对显示屏幕的需求也越来越高。OLED作为一种自发光显示器技术，采用非常薄的有机材料涂层和玻璃基板，当有电流通过时，这些有机材料就会发光，而且OLED显示屏幕可视角度大，并且能够显着节省电能，得到了广泛使用。
[0003]在OLED器件的制造过程中，玻璃基板与金属精细掩膜板之间需要留有一定的空隙，以避免金属精细掩膜板与玻璃基板直接接触而影响到发光层，进而造成成品损坏。为了实现上述的空隙，需要在金属精细掩膜板和玻璃基板之间设置有间隔层，通常间隔层的呈单颗柱状地设置于需要被蒸镀的像素区域两侧。
[0004]OLED制备过程中一般包括一蒸镀工艺，使用该工艺在像素区形成一层膜层。由于玻璃基板和金属精细掩膜板之间存在一定的空隙，而蒸镀区周围一般并没有设置用于限制蒸镀范围的阻挡物，所以根据蒸镀过程中蒸镀沿直线进行的特性，会造成在蒸镀过程中形成蒸锻区的范围扩大，从而引起蒸锻区的阴影效应(shadow effect),进而可能导致混色(color mixing)的产生风险。
[0005]如图1所示为现有技术中OLED的蒸镀时的部分示意图，基板I与金属精细掩膜板2之间有一定的间隙，在间隙内设置有柱状间隔层3。在进行蒸镀工艺时，理想的情况是在相邻间隔层3之间的基板I表面形成一有机膜层4，即在图中所示预设蒸镀区SI的基板表面形成有机膜层4，而非预设蒸镀区S2不形成相应有机膜层。
[0006]但是在实际情况中，技术人员发现很难实现上述理想的情况。如图所示，以一个蒸镀区为单位，基板I与金属精细掩膜板2之间仅通过两根柱状间隔层3进行支撑。在蒸镀过程中，蒸镀材料会随着图示箭头方向进行运动，由于预设蒸镀区SI和非预设蒸镀区S2之间是导通的，最终不仅在预设蒸镀区SI形成膜层4，同时还可能因为阴影效应在非预设蒸镀区S2留下蒸镀材料，进而产生混色情况的发生，降低器件良率。
[0007]中国专利(CN 202786401 U)公开了一种能够提高蒸镀品质的OLED蒸镀用掩膜板，该蒸镀用掩膜板包括设置在掩膜板本体上的至少一个蒸镀单元，每一个蒸镀单元包含呈规则排列的蒸镀缺口，掩膜板本体上位于其蒸镀单元处的厚度小于该掩膜板本体的外形厚度。该发明所公开的蒸镀用掩膜板通过将其蒸镀单元处的掩膜板本体的厚度设置地较小，从而减小由于重力影响而产生的下垂现象，进而减少阴影效应所导致的质量问题。
[0008]但是该专利在蒸镀过程中，仍可能发生蒸镀材料进入至非预设蒸镀区，进而导致混色的情况产生，降低OLED器件良率。
[0009]中国专利(CN 1329458 A)公开了一种有机电致发光器件的制备方法，该方法包括:在透明的玻璃基板或柔性基板上淀积透明导电薄膜氧化铟锡等作为器件的第一电极；在第一电极和电极之间的间隙上同时旋转涂覆第一绝缘层；在第一绝缘层上继续旋转涂覆第二绝缘层；对上述第二绝缘层直接进行光刻；以第二绝缘层图形为掩膜，对第一绝缘层显影形成与上述第一电极正交的多个互相平行的直线条；在第二绝缘层上及去除了两层绝缘聚合物的透明导电薄膜和透明导电薄膜线条间隙之上蒸镀有机层；在有机层上蒸镀金属层。
[0010]该专利公开的是一种有机电致发光器件的制备方法，其需要使用蒸镀工艺，而在蒸镀过程中，蒸镀材料仍可能会进入非预设蒸镀区进而在非预设蒸镀区内留下蒸镀材料，进而造成发光器件无法正常工作。
【发明内容】
[0011]本发明提供了一种降低OLED混色缺陷的方法，通过在基板和金属精细掩膜板之间的间隔层设置为环状，在蒸镀过程中，可有效避免蒸镀材料进入临接像素的预设蒸镀区进而减少混色情况的产生，提高了产生良率，同时工艺简单，不需要额外增加设备及材料，保证了生产成本。
[0012]本发明采用的技术方案为:
[0013]一种OLED面板像素蒸镀的方法，其中，
[0014]提供一具有多个预设蒸镀区的基板，所述多个预设蒸镀区对应OLED面板的多个像素，且临近所述预设蒸镀区的基板上还设置有间隔层，所述间隔层包围所述预设蒸镀区；
[0015]采用蒸镀工艺于所述预设蒸镀区形成像素薄膜；
[0016]其中，所述像素薄膜覆盖在位于所述间隔层所包围区域中基板的表面。
[0017]上述的方法，其中，所述间隔层包围区域包含所述预设蒸镀区以及部分非预设蒸镀区。
[0018]上述的方法，其中，在进行蒸镀工艺时，提供一具有开口的掩膜板，并将所述掩膜板的开口对准所述预设蒸镀区，在所述预设蒸镀区域中形成像素薄膜；
[0019]在蒸镀过程中，所述间隔层阻挡蒸镀材料进入间隔层包围区域以外之处。
[0020]上述的方法，其中，所述掩膜板为金属精细掩膜板。
[0021]上述的方法，其中，所述金属精细掩膜板为因瓦合金。
[0022]上述的方法，其中，所述间隔层的上下两端分别接触所述掩膜板及所述基板。
[0023]上述的方法，其中，所述掩膜板的所述开口呈喇叭状，且靠近所述基板的开口尺寸小于另一端开口尺寸。
[0024]上述的方法，其中，采用以下步骤制备形成所述间隔层:
[0025]提供一基板，于所述基板表面涂布一层有机物，曝光显影后，在所述基板上形成间隔层，所述间隔层将所述预设蒸镀区予以包围。
[0026]上述的方法，其中，所述有机物为光致抗蚀剂。
[0027]上述的方法，其中，采用一具有环状图案的遮光罩进行曝光工艺。
[0028]上述的方法，其中，所述基板为玻璃基板。
[0029]同时本发明还提供了一种OLED显示面板，其中，包含多个OLED像素，位于一基板之上，所述每个OLED像素包含OLED材料蒸镀于所述基板上，邻近所述OLED材料包含一间隔层；
[0030]其中，所述间隔层将所述OLED材料予以包围。
[0031]上述的显示面板，其中，所述间隔层为环形。
[0032]由于本发明采用了以上技术方案可带来以下技术效果:
[0033]①在蒸镀过程中避免蒸镀材料进入到非蒸镀区，避免混色情况的产生，提高了OLED器件的良率；
[0034]②完全兼容于现有技术中的蒸镀工艺，无需增添额外的设备及材料，通过采用具有环状图案的遮光罩进行曝光并显影后即可制备出环状的间隔层，工艺简单。
【附图说明】
[0035]通过阅读参照以下附图对非限制性实施例所作的详细描述，本发明及其特征、夕卜形和优点将会变得更明显。在全部附图中相同的标记指示相同的部分。并未刻意按照比例绘制附图，重点在于示出本发明的主旨。
[0036]图1为现有技术中进行蒸镀工艺时的截面图；
[0037]图2为本发明进行蒸镀工艺时的截面图；
[0038]图3为本发明进行蒸镀工艺时俯视图；
[0039]图4-7为本发明制备间隔层的流程图；
[0040]图8为本发明之OLED间隔层示意图。
【具体实施方式】
[0041]下面结合附图对本发明的【具体实施方式】作进一步的说明:
[0042]本发明提供了一种降低OLED混色缺陷的方法，应用于OLED蒸镀工艺中，结合图2和图3所TK，