提供一基板I，优选的，该基板为玻璃基板。
[0043]基板I表面形成有间隔层3，该间隔层3临近预设蒸镀区SI，优选的，该间隔层为光致抗蚀剂，且该间隔层3为环形并将预设蒸镀区SI予以包围，其中，该预设蒸镀区SI面积小于等于该间隔层3环形包围的面积。
[0044]提供一具有蒸镀孔的掩膜板2，该掩膜板2与间隔层形成接触，并将将掩膜板2的蒸镀孔对准所述预设蒸镀区SI，蒸镀源在该间隔层3环形包围的区域内形成像素薄膜4，进一步来说，该间隔层3环形包围的区域包含预设蒸镀区SI以及部分非预设蒸镀区S2。优选的，该掩膜板为金属精细掩膜板，材质为因瓦合金(Invar);同时，该金属精细掩膜板形成的开口呈喇叭状，靠近基板的底部开口要小于顶部开口尺寸，在蒸镀时，可保证蒸镀材料更加集中地在预设蒸镀区SI形成像素薄膜。
[0045]在蒸镀的过程中，蒸镀的方向是沿蒸镀源辐射状沿直线向外，在现有技术中，由于预设蒸镀区SI和非预设蒸镀区S2之间为导通的，蒸镀材料会进入非预设蒸镀区S2并在该区域的基板表面留下蒸镀材料，进而造成阴影及混色效应，影响OLED屏幕的良率。而本发明通过采用环状间隔层3将预设蒸镀区SI包围起来形成一闭合的区域，在蒸镀过程中间隔层3起到阻挡的作用，限制了蒸镀材料进入到非预设蒸镀区S2的区域，进而避免造成混色及阴影情况的发生。
[0046]同于本发明还提供了一种环状间隔层的制备方法，包括以下步骤:
[0047]首先提供一基板1，优选的，该基板I为玻璃基板，如图4所示。
[0048]然后使用光阻涂布机在基板I表面均勻涂覆一层有机物，优选的，在玻璃基板I表面涂覆一层厚度均匀光阻剂5，如图5所示。然后采用一定制的遮光罩6进行曝光，选用具有环状图案的遮光罩6进行曝光，如图6所示；之后继续进行显影工艺在基板I上形成环状的剩余光致抗蚀剂作为间隔层。如图7所示，采用定制的遮光罩进行曝光并显影后，可在玻璃基板I表面形成环状的光致抗蚀剂作为间隔层6'。然后在间隔层之上再放置金属精细掩膜板，并使得环状的间隔层围成的区域暴露在金属精细掩膜板所围成的开口，该环状的间隔层围成的区域包含所需预设蒸镀区SI，即OLED的像素区以及部分非预设蒸镀区S2。由于环状的间隔层3很好的限制及缩小非预设蒸镀区S2区域，可阻挡蒸镀材料大量延伸到非预设蒸镀区S2，避免造成混色的情况产生。
[0049]由于本发明采用以上技术方案，在玻璃基板I与金属精细掩膜板2之间制备出环状的间隔层将像素区包围起来，而相邻像素间则被环状间隔层3所隔开。在进行蒸镀时，蒸镀材料通过金属精细掩膜板2之间的开口，对环状间隔层3包围的区域进行镀膜，即在基板I表面的间隔层3包围的区域内形成一膜层4，由于相邻像素间被环状间隔层3所隔开，进而蒸镀材料不会蒸镀到乡林像素，避免造成混色效应。
[0050]本发明还提供了一种OLED显示面板，如图8所示，包含多个OLED像素(图中未示出)，各OLED像素均位于一基板I之上，每个OLED像素包含OLED材料并蒸镀在基板I上的预设蒸镀区SI内，邻近各OLED材料包含一间隔层3 ;其中，间隔层3将OLED材料予以包围。
[0051]进一步的，请继续参阅图8，本发明还提供了一种OLED间隔层，该间隔层3为环形并将基本I表面的预设蒸镀区SI及部分非预设蒸镀区S2予以包围，其材质为光致抗蚀剂。在进行OLED蒸镀时，提供一具有蒸镀孔的金属精细掩膜板，并将蒸镀孔对准基板表面的预设蒸镀区SI (具体可参照本发明说明附图2)，蒸镀源在预设蒸镀区SI及部分非预设蒸镀区S2形成一像素薄膜，此薄膜面积受到环状间隔层的限制。由于本发明提供的OLED间隔层3为环形并将蒸镀区SI完全包围，在进行蒸镀时，间隔层3形成阻挡的作用，使得蒸镀材料只在单一像素范围形成像素薄膜，而在其相邻的非像素区域则不会形成像素薄膜，避免混色的情况广生，提闻了广品良率。
[0052]综上所述，由于本发明采用了以上技术方案，在进行蒸镀工艺时，在基板表面制备环状的间隔层能够很好的起到阻挡作用，避免蒸镀材料进入临接像素的非预设蒸镀区进而造成混色的情况，提高了 OLED器件的良率。
[0053]以上对本发明的较佳实施例进行了描述。需要理解的是，本发明并不局限于上述特定实施方式，其中未尽详细描述的设备和结构应该理解为用本领域中的普通方式予以实施；任何熟悉本领域的技术人员，在不脱离本发明技术方案范围情况下，都可利用上述揭示的方法和技术内容对本发明技术方案做出许多可能的变动和修饰，或修改为等同变化的等效实施例，这并不影响本发明的实质内容。因此，凡是未脱离本发明技术方案的内容，依据本发明的技术实质对以上实施例所做的任何简单修改、等同变化及修饰，均仍属于本发明技术方案保护的范围内。
【主权项】
1.一种OLED面板像素蒸镀的方法，其特征在于， 提供一具有多个预设蒸镀区的基板，所述多个预设蒸镀区对应OLED面板的多个像素，且临近所述预设蒸镀区的基板上还设置有间隔层，所述间隔层包围所述预设蒸镀区； 采用蒸镀工艺于所述预设蒸镀区形成像素薄膜； 其中，所述像素薄膜覆盖在位于所述间隔层所包围区域中基板的表面。2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述间隔层包围区域包含所述预设蒸镀区以及部分非预设蒸镀区。3.如权利要求1或2所述的方法，其特征在于，在进行蒸镀工艺时，提供一具有开口的掩膜板，并将所述掩膜板的开口对准所述预设蒸镀区，在所述预设蒸镀区域中形成像素薄膜； 在蒸镀过程中，所述间隔层阻挡蒸镀材料进入间隔层包围区域以外之处。4.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述掩膜板为金属精细掩膜板。5.如权利要求4所述的方法，其特征在于，所述金属精细掩膜板为因瓦合金。6.如权利要求3所述的方法，其特征在于，所述间隔层的上下两端分别接触所述掩膜板及所述基板。7.如权利要求3所述的方法，其特征在于，所述掩膜板的所述开口呈喇叭状，且靠近所述基板的开口尺寸小于另一端开口尺寸。8.如权利要求1所述的方法，其特征在于，采用以下步骤制备形成所述间隔层: 提供一基板，于所述基板表面涂布一层有机物，曝光显影后，在所述基板上形成间隔层，所述间隔层将所述预设蒸镀区予以包围。9.如权利要求8所述的方法，其特征在于，所述有机物为光致抗蚀剂。10.如权利要求8所述的方法，其特征在于，采用一具有环状图案的遮光罩进行曝光工艺。11.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述基板为玻璃基板。12.—种OLED显示面板，其特征在于，包含多个OLED像素，位于一基板之上，所述每个OLED像素包含OLED材料位于所述基板上，邻近所述OLED材料包含一间隔层； 其中，所述间隔层将所述OLED材料予以包围。13.如权利要求12所述的显示面板，其特征在于，所述间隔层为环形。
【专利摘要】本发明提供了一种降低OLED混色缺陷的方法及OLED显示面板，通过在基板上制备间隔层将每个蒸镀区包围起来，在进行OLED蒸镀过程中，蒸镀气体只在预设蒸镀区(即像素单元区)形成一层薄膜，而非预设蒸镀区(即非像素单元区)由于环状间隔层的阻挡，使得蒸镀气体不会进入到非像素单元区进而造成阴影和混色情况的发生，提高了器件良率。
【IPC分类】H01L27/32, H01L51/56
【公开号】CN105633301
【申请号】CN201410653388
【发明人】陈志豪, 胡友元, 高志豪, 黄俊杰
【申请人】上海和辉光电有限公司
【公开日】2016年6月1日
【申请日】2014年11月17日