一种基板的支撑装置、干燥设备及相关工作方法
【专利摘要】本发明提供一种基板的支撑装置、干燥设备及相关工作方法。其中支撑装置包括：第一导轨；可在第一导轨上移动的多个第二导轨，第二导轨与第一导轨沿伸方向不同；可在第二导轨上移动的多个支撑杆，支撑杆用于支撑基板。工作方法包括：在将基板放置在支撑装置前，控制第二导轨的水平高度高于所多个支撑杆的端部的水平高度；将基板放置在第二导轨上；在基板放置在第二导轨后，控制第二导轨与支撑杆在竖直方向上发生相对运动，使至少三个支撑杆的端部的水平高度高过第二导轨的水平高度，从而支撑所述基板。本发明的方案能够根据不同基板所对应的不同支撑位置，而灵活改动支撑杆的位置，从而使支撑装置的适用性更强。
【专利说明】
一种基板的支撑装置、干燥设备及相关工作方法
技术领域
[0001]本发明涉及基板的加工领域，特别是一种基板的支撑装置、干燥设备及相关工作方法。
【背景技术】
[0002]在液晶面板的生产中，玻璃基板上的很多功能图案是通过光刻工艺来实现的。光刻工艺流程包括光刻胶的涂布、曝光和显影。光刻胶涂布完成后使用真空干燥设备进行干燥。真空干燥是指在室温下，压强降至OPa附近，使湿润的薄膜中的溶剂挥发，得到膜层均一且有一定硬度的薄膜，为曝光和显影工艺做准备。在抽真空时，湿膜层中的溶剂的饱和蒸汽压逐渐降低，使溶剂气化后抽离湿膜层，达到干燥的效果。真空干燥具有以下三个优点:①不需加热就能迅速干燥;②形成的膜层性质比较稳定;③后续的软烤工艺中不易产生升华物。
[0003]目前，工厂内Coater(涂料)设备后的真空干燥设备的台面支撑Pin(即支撑点)是固定的，产线在切换不同产品时，为了避免在真空干燥过程中由支撑Pin引起的膜厚分布不均，真空干燥设备内的基板支撑Pin的位置要顶在基板的Du_y(虚拟)区。不同基板的产品布局不同，所以需要通过人工更换支撑Pin，从而避开基板的有效显示区。
【发明内容】
[0004]本发明要目的是提供一种能够灵活改变支撑装置上的支撑点位置的技术方案。
[0005]为实现上述目的，一方面，本发明提供一种基板的支撑装置，包括:
[0006]第一导轨；
[0007]可在所述第一导轨上移动的多个第二导轨，所述第二导轨与所述第一导轨沿伸方向不同；
[0008]可在所述第二导轨上移动的多个支撑杆，所述支撑杆用于支撑基板。
[0009]可选地，所述支撑装置还包括:
[0010]驱动机构，用于控制所述支撑杆与所述第二导轨在竖直方向上发生相对运动，从而在第一支撑状态和第二支撑状态之间切换；
[0011]其中，在第一支撑状态下，所述第二导轨的水平高度高于所述多个支撑杆的端部的水平高度，所述第二导轨与基板接触以支撑所述基板;在第二支撑状态下，至少三个支撑杆的端部的水平高度高于所述第二导轨的水平高度，与基板接触以支撑所述基板。
[0012]所述第一支撑状态是指所述第二导轨支撑所述基板，所述第二支撑状态是指所述支撑杆支撑所述基板。
[0013]可选地，所述驱动机构包括:
[0014]第一升降机构，用于控制所述第二导轨在竖直方向上进行升降；
[0015]第二升降机构，用于控制所述支撑杆在竖直方向上进行升降。
[0016]可选地，所述第一升降机构包括:
[0017]支撑所述第一导轨的气囊；
[0018]和对所述气囊进行充气或放气的控制单元，在所述控制单元对所述气囊进行充气时，能够控制所述第二导轨在所述竖直方向上上升;在所述控制单元对所述气囊进行放气时，能够控制所述第二导轨在所述竖直方向上下降。
[0019]可选地，所述第二导轨为具有矩形镂空区域的支撑板，在第二支撑状态下，所述支撑杆位于所述矩形镂空区域中，并能够沿该矩形镂空区域的延伸方向移动。
[0020]可选地，所述支撑装置，还包括:
[0021]第一传动机构，用于驱动所述第二导轨以所述第一导轨的延伸方向进行移动；
[0022]第二传动机构，用于驱动所述支撑杆以所述第二导轨的延伸方向进行移动。
[0023]可选地，所述支撑装置还包括:
[0024]处理机构，用于根据所述基板的支撑位置，确定所述第一传动机构驱动所述第二导轨在所述第一导轨上的移动位置，以及所述第二传动机构驱动所述支撑杆在所述第二导轨上的移动位置。
[0025]可选地，所述第一导轨的延伸方向与所述第二导轨的延伸方向垂直。
[0026]另一方面，本发明还提供一种上述支撑装置的工作方法，包括:
[0027]在将基板放置在所述支撑装置前，控制所述第二导轨的水平高度高于所述多个支撑杆的端部的水平高度；
[0028]将所述基板放置在所述第二导轨上；
[0029]在所述基板放置在所述第二导轨后，控制所述第二导轨与所述支撑杆在竖直方向上发生相对运动，使至少三个支撑杆的端部的水平高度高过所述第二导轨的水平高度，从而支撑所述基板。
[0030]可选地，所述工作方法还包括:
[0031]在将基板从所述支撑装置取走前，控制所述第二导轨与所述支撑杆发生相对运动，使所述第二导轨的水平高度高过所述支撑杆的端部的水平高度，从而支撑所述基板；
[0032]取走所述第二导轨支撑的基板。
[0033]此外，本发明还提供一种基板的干燥设备，，包括上述支撑装置。
[0034]本发明的上述技术方案的有益效果如下:
[0035]本发明的方案只需要移动第二导轨在第一导轨的位置，以及支撑杆在第二导轨的位置，即可对支撑位置进行变化。在实际应用中，能够根据不同基板的不同支撑位置灵活调节支撑设备的支撑位置，使支撑设备具有更高的适应性。
【附图说明】
[0036]图1为本发明的支撑装置的结构示意图；
[0037]图2-图5为本发明的支撑装置在具体实现应用中的详细结构示意图。
【具体实施方式】
[0038]为使本发明要解决的技术问题、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图及具体实施例进行详细描述。
[0039]针对现有技术中基板支撑装置的支撑点不易变动的问题，本发明提供一种解决方案。
[0040]—方面，本发明的实施例提供一种基板的支撑装置，包括:
[0041 ]第一导轨1(在图1中不例性具有横向的延伸方向)；
[0042]可在上述第一导轨I上移动的多个第二导轨2(在图1中示例性具有纵向的延伸方向)，该第二导轨2与第一导轨沿2的延伸方向不同；
[0043]可在第二导轨2上移动的多个支撑杆3，该支撑杆3用于支撑基板。
[0044]显然，在本实施例的支撑设备中，只需要移动第二导轨在第一导轨上的位置，以及支撑杆在第二导轨上的位置，即可对支撑位置进行灵活变化，在实际应用中，使支撑设备能够适应不同支撑要求的基板。
[0045]当然，在实际应用中，本实施例的支撑装置一般是基板生产线中的一部分。如基板干燥设备或者清洁设备上都可以配置本实施例的支撑装置。而这些设备对清洁度要求很高，若技术人员进入设备内部手动更改支撑杆的位置，很容易对腔室造成污染。为此，在上述基础之上，又进一步提供一种自动化调节支撑杆位置的技术方案。即本实施例的支撑装置还包括:
[0046]第一传动机构，用于驱动第二导轨以第一导轨的延伸方向进行移动；
[0047]第二传动机构，用于驱动支撑杆以第二导轨的延伸方向进行移动。
[0048]处理机构，用于根据基板的支撑位置，确定第一传动机构驱动第二导轨在第一导轨上的移动位置，以及第二传动机构驱动支撑杆在第二导轨上的移动位置。
[0049]作为示例性介绍，在实际应用中，本实施例的第一导轨的延伸方向与第二导轨的延伸方向垂直。
[0050]假设将第一导轨的延伸方向作为坐标系的X轴，第二导轨的延伸方向作为坐标系的y轴，处理机构可以根据基板支撑位置的坐标(x*，y*)中的横坐标X*，确定出第二导轨在第一导轨上的移动位置。同理，根据坐标(x*，y*)中的纵坐标y*，确定出支撑杆在第二导轨上的移动位置。之后基于第一传动机构和第二传动机构，将支撑杆按照对应的位置进行移动。
[0051]当然，需要指出的是，在实际应用中，基板上的支撑位置也可以是一块区域，并由多个支撑杆负责支撑，本实施例的处理机构可以基于基板支撑位置这一区域内的坐标，确定出负责支撑的每个支撑杆的移动位置，例如，让所有负责支撑的支撑杆平均分布在支撑位置上，以达到最稳定的支撑效果。
[0052]此外，针对基板的干燥设备或清洗设备，显然支撑基板的面积越小，才能具有更大的清洗面积或干燥面积，为此针对这一问题，本实施例的支撑装置还包括:
[0053]驱动机构，用于控制支撑杆与第二导轨在竖直方向上发生相对运动，从而在第一支撑状态和第二支撑状态之间切换;其中，第一支撑状态是指第二导轨支撑基板，第二支撑状态是指支撑杆支撑基板。
[0054]在第一支撑状态下，第二导轨的水平高度高于多个支撑杆的端部的水平高度，第二导轨与基板接触以支撑基板；由于第二导轨的支撑端面要大于支撑杆的支撑端面，因此第一支撑状态可以应用于将基板放上支撑装置或从支撑装置上取走时的场景，可避免基板移动过程中被支撑杆小面积的端面割伤。
[0055]在第二支撑状态下，至少三个支撑杆的端部高于第二导轨的水平高度，从而与基板接触，为基板提供稳定的支撑。显然，由于支撑杆的端部的面积相对较小，因此只接触到基板上一小部分区域。若本实施例的支撑装置应用在基板的清洁设备或干燥设备上，可以保证基板具有更多的清洁面积或干燥面积。
[0056]下面结合一个实现方式对本实施例的支撑装置进行详细介绍。
[0057]如2所示，本实施例的支撑设备包括:
[0058]第一导轨1、第二导轨21以及支撑杆3。
[0059]其中，第二导轨的主体机构呈一个支撑板，且该支撑板具有矩形镂空区域21。支撑杆3设置在矩形镂空区域21中，可以沿该矩形镂空区域的延伸方向移动。
[0060]进一步参考图3，在本实现方式中，用于控制支撑杆3与第二导轨2在竖直方向上发生相对运动的驱动机构包括:
[0061 ]第一升降机构5，用于控制第二导轨2在竖直方向上进行升降；
[0062]第二升降机构6，用于控制支撑杆3在竖直方向上进行升降。
[0063]作为优选方案，其中第一升降机构进一步由支撑第一导轨I的气囊，以及对该气囊进行充气或放气的控制单元组成。在控制单元对气囊进行充气时，能够控制第二导轨2在竖直方向上上升;在控制单元对气囊进行放气时，能够控制第二导轨2在竖直方向上下降。
[0064]在生产线上的机械手臂将基板4放在支撑装置上前，通过第一升降机构5和/或第二升降机构6，控制第二导轨2在水平端面上高于支撑杆3，使基板4由第二导轨2的主体结构支撑，此时机械手臂再将基板4放到第二导轨2上。在基板放上去的一瞬间，下方第一升降机构5中的气囊会对基板4形成一定的缓冲作用，可避免基板4顺坏。
[0065]进一步参考图4，在基板4放置在第二导轨2上后，通过第一升降机构5和/或第二升降机构6，控制支撑杆3高过第二导轨2，从而由支撑杆3的端面负责支撑基板4，使基板处于待加工的放置状态，后续可对基板执行清洁或干燥处理。
[0066]同理，再对基板完成待加工的相关处理，通过第一升降机构5和/或第二升降机构6，重新控制第二导轨2高过支撑杆3，使基板4重新由第二导轨2的主体结构负责支撑，此时流水线上的机械手臂从第二导轨2上取走基板4，并传输至后续节点。
[0067]以上是本实现方式的介绍，这里需要给予说明的是，本实施例的支撑装置也不限于图2-图4所示的结构。例如图5所示，本实施例的支撑装置还可以在图2所示的基础上进一步加入外围的支撑部8，该外围支撑部8上设置有支撑杆3，用于对基板的边框区域进行支撑。
[0068]综上所述，相比于现有技术，本实现方式的支撑装置具有以下优点:
[0069]I)能够根据基板支撑位置的坐标，自动化控制支撑杆的位置，解决了人工手动更换支撑杆的问题。
[0070]2)通过驱动模块实现两种支撑状态，可避免基板被支撑杆割伤。
[0071]3)第二导轨基于第一导轨下方的气囊，在竖直方向上相对支撑杆进行移动，气囊结构可对基板放在第二导轨接上的冲击力提供缓冲作用，保护基板不受到损坏。
[0072]此外，本发明的另一实施例还提供一种应用上述支撑装置的工作方法，包括:
[0073]步骤I，在将基板放置在所述支撑装置前，控制所述第二导轨的水平高度高于所述多个支撑杆的端部的水平高度；
[0074]步骤2，将所述基板放置在所述第二导轨上；
[0075]步骤3，在基板放置在所述第二导轨后，控制第二导轨与支撑杆在竖直方向上发生相对运动，使至少三个支撑杆的端部的水平高度高过第二导轨的水平高度，从而支撑所述基板。
[0076]此外，本实施例的工作方法还包括:
[0077]步骤4，在将基板从支撑装置取走前，控制第二导轨与支撑杆发生相对运动，使第二导轨的水平高度高过支撑杆的端部的水平高度，从而支撑基板；
[0078]步骤5，取走第二导轨支撑的基板。
[0079]显然，本实施例的工作方法在将基板放到支撑装置或从支撑装置上取走基板的过程中，让支撑装置的第二导轨与基板一直接触，从而避免基板移动过程中被的支撑杆的端面割伤，进而提尚了基板的良品率。
[0080]此外，本发明的另一实施例还提供一种基板的干燥设备，包括有本发明的支撑装置。由于支撑杆的位置可以实现灵活调整，因此本实施例的干燥设备能够适用不同类型的基板。此外，在对基板进行干燥时，由于使用的是支撑杆来支撑基板，因此基板的支撑区域相对较小，进而能够获得更多干燥面积，实现更好的干燥效果。
[0081]以上所述是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明所述原理的前提下，还可以作出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。
【主权项】
1.一种基板的支撑装置，其特征在于，包括: 第一导轨； 可在所述第一导轨上移动的多个第二导轨，所述第二导轨与所述第一导轨沿伸方向不同； 可在所述第二导轨上移动的多个支撑杆，所述支撑杆用于支撑基板。2.根据权利要求1所述的支撑装置，其特征在于，还包括: 驱动机构，用于控制所述支撑杆与所述第二导轨在竖直方向上发生相对运动，从而在第一支撑状态和第二支撑状态之间切换； 其中，在第一支撑状态下，所述第二导轨的水平高度高于所述多个支撑杆的端部的水平高度，所述第二导轨与基板接触以支撑所述基板;在第二支撑状态下，至少三个支撑杆的端部的水平高度高于所述第二导轨的水平高度，与基板接触以支撑所述基板； 所述第一支撑状态是指所述第二导轨支撑所述基板，所述第二支撑状态是指所述支撑杆支撑所述基板。3.根据权利要求2所述的支撑装置，其特征在于，所述驱动机构包括: 第一升降机构，用于控制所述第二导轨在竖直方向上进行升降； 第二升降机构，用于控制所述支撑杆在竖直方向上进行升降。4.根据权利要求3所述的支撑装置，其特征在于，所述第一升降机构包括: 支撑所述第一导轨的气囊； 和对所述气囊进行充气或放气的控制单元，在所述控制单元对所述气囊进行充气时，能够控制所述第二导轨在所述竖直方向上上升;在所述控制单元对所述气囊进行放气时，能够控制所述第二导轨在所述竖直方向上下降。5.根据权利要求2所述的支撑装置，其特征在于， 所述第二导轨为具有矩形镂空区域的支撑板，在第二支撑状态下，所述支撑杆位于所述矩形镂空区域中，并能够沿该矩形镂空区域的延伸方向移动。6.根据权利要求2所述的支撑装置，其特征在于，还包括: 第一传动机构，用于驱动所述第二导轨以所述第一导轨的延伸方向进行移动； 第二传动机构，用于驱动所述支撑杆以所述第二导轨的延伸方向进行移动。7.根据权利要求6所述的支撑装置，其特征在于，还包括: 处理机构，用于根据所述基板的支撑位置，确定所述第一传动机构驱动所述第二导轨在所述第一导轨上的移动位置，以及所述第二传动机构驱动所述支撑杆在所述第二导轨上的移动位置。8.根据权利要求1所述的支撑装置，其特征在于， 所述第一导轨的延伸方向与所述第二导轨的延伸方向垂直。9.一种如权利要求1-8任一项所述支撑装置的工作方法，其特征在于，包括: 在将基板放置在所述支撑装置前，控制所述第二导轨的水平高度高于所述多个支撑杆的端部的水平高度； 将所述基板放置在所述第二导轨上； 在所述基板放置在所述第二导轨后，控制所述第二导轨与所述支撑杆在竖直方向上发生相对运动，使至少三个支撑杆的端部的水平高度高过所述第二导轨的水平高度，从而支撑所述基板。10.根据权利要求9所述的工作方法，其特征在于，还包括: 在将基板从所述支撑装置取走前，控制所述第二导轨与所述支撑杆发生相对运动，使所述第二导轨的水平高度高过所述支撑杆的端部的水平高度，从而支撑所述基板； 取走所述第二导轨支撑的基板。11.一种基板的干燥设备，其特征在于，包括如权利要求1-8任一项所述支撑装置。
【文档编号】H01L21/673GK106098601SQ201610510631
【公开日】2016年11月9日
【申请日】2016年6月30日
【发明人】王纯杰, 马晓峰
【申请人】京东方科技集团股份有限公司, 重庆京东方光电科技有限公司