一种改善刻蚀槽滴液的盖板结构的制作方法

文档序号:8698603阅读:362来源:国知局
一种改善刻蚀槽滴液的盖板结构的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种改善刻蚀槽滴液的盖板结构,属于太阳能光伏技术领域。
【背景技术】
[0002]近年来,太阳能电池片生产技术不断进步,生产成本不断降低,转换效率不断提高,使得光伏发电的应用日益普及并迅猛发展,逐渐成为电力供应的重要来源。
[0003]太阳能电池片的生产工艺主要包括:制绒、扩散、刻蚀、镀膜、印刷和烧结等。其中,刻蚀工序的作用去掉硅片背面和硅片侧面的PN结,达到正面与背面绝缘的目的。目前,RENA设备是一种常用的湿法刻蚀设备。这种设备基本结构为:刻蚀槽-水喷淋槽-碱槽-水喷淋槽-去PSG槽-水喷淋槽-吹干。该设备在使用过程中表现出许多优异的性能。然而,目前RENA刻蚀设备在生产应用中,常会出现刻蚀槽盖板出现水汽凝结的现象,它主要由于刻蚀槽后的水喷淋槽在喷淋过程中会形成大量水汽,进入到刻蚀槽中。而槽体盖板的温度是受车间的温度控制的,低于进入槽体内的水蒸气的温度,当水蒸气遇到温度较低的盖板时就发生凝结。凝结的液滴会滴落在正在生产流通的硅片表面上,与硅片上发生腐蚀反应,导致硅片的外观不良甚至片子的PN结被破坏,造成产量下降和成本浪费。

【发明内容】

[0004]本实用新型的目的是提供一种改善刻蚀槽滴液的盖板结构,盖板设计为中空结构,并在其内部安装有加热器,该结构可以有效控制盖板的温度,能够防止水汽在盖板下表面凝结,从而避免了由于液滴滴落在硅片上而造成的返工,减少成本浪费,提高了经济效益。
[0005]一种改善刻蚀槽滴液的盖板结构,包括盖板顶层,盖板底层,盖板侧壁,加热器,加热器保护材料,温度传感器,温度控制器;盖板顶层、盖板底层和盖板侧壁组合成中空盖板结构,加热器安装在盖板中空位置,加热器外围包裹有加热器保护材料,盖板中心安装有温度传感器,加热器及温度传感器由导线连接至温度控制器。
[0006]一种改善刻蚀槽滴液的盖板结构,加热器外包裹有耐高温和耐腐蚀保护材料,材质为聚四氟乙烯。
[0007]一种改善刻蚀槽滴液的盖板结构,所述温度传感器为热电偶,安装在盖板底层的中心位置,其热电偶测温点位置离盖板底层0.5-lcmo
[0008]一种改善刻蚀槽滴液的盖板结构,温度控制器可控温度范围0_100°C。
[0009]本实用新型的有益效果是:能够防止水汽在盖板下表面凝结,从而避免了由于液滴滴落在硅片上而造成的返工,减少了成本的浪费,其设计经济环保,且易于实现。
【附图说明】
[0010]图1:本实用新型盖板结构的主视图。
[0011]图2:本实用新型盖板结构的一种俯视图。
[0012]图3:本实用新型盖板结构的另一种俯视图。
[0013]附图标记:盖板顶层1、盖板底层2、盖板侧壁3、加热器4、加热器保护材料5、温度传感器6、温度控制器7。
【具体实施方式】
[0014]实施例1:
[0015]一种改善刻蚀槽滴液的盖板结构,其特征在于,包括盖板顶层1,盖板底层2,盖板侧壁3,加热器4,加热器保护材料5,温度传感器6,温度控制器7 ;盖板顶层1、盖板底层2和盖板侧壁3组合成中空盖板结构,加热器4安装在盖板中空位置,加热器外围包裹有加热器保护材料5,盖板中心安装有温度传感器6,加热器4及温度传感器6由导线连接至温度控制器7。
[0016]实施例2:
[0017]加热器外包裹有耐高温和耐腐蚀保护材料5,材质为聚四氟乙烯。
[0018]其余同实施例1。
[0019]实施例3:
[0020]温度传感器6为热电偶,安装在盖板底层2的中心位置,其热电偶测温点位置离盖板底层0.5-lcmo
[0021]其余同实施例1或2。
[0022]实施例4:
[0023]温度控制器7可控温度范围0_100°C。
[0024]其余同实施例1或2或3。
[0025]以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对本实用新型专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本实用新型的保护范围。因此,本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。
【主权项】
1.一种改善刻蚀槽滴液的盖板结构,其特征在于:包括盖板顶层(1),盖板底层(2),盖板侧壁(3),加热器(4),加热器保护材料(5),温度传感器(6),温度控制器(7);盖板顶层(1)、盖板底层(2)和盖板侧壁(3)组合成中空盖板结构,加热器(4)安装在盖板中空位置,加热器外围包裹有加热器保护材料(5),盖板中心安装有温度传感器(6),加热器(4)及温度传感器(6)由导线连接至温度控制器(7)。
2.根据权利要求1所述的一种改善刻蚀槽滴液的盖板结构,其特征在于:加热器外包裹有耐高温和耐腐蚀保护材料(5),材质为聚四氟乙烯。
3.根据权利要求1或2所述的一种改善刻蚀槽滴液的盖板结构,其特征在于:所述温度传感器(6)为热电偶,安装在盖板底层(2)的中心位置,其热电偶测温点位置离盖板底层0.5_lcm0
4.根据权利要求1所述的一种改善刻蚀槽滴液的盖板结构,其特征在于:温度控制器(7)可控温度范围0-100°C。
【专利摘要】本实用新型公开了一种改善刻蚀槽滴液的盖板结构。包括盖板顶层,盖板底层,盖板侧壁,加热器,加热器保护材料,温度传感器,温度控制器,其特征在于,盖板设计为中空结构,并在其内部安装有加热器,该结构可以有效控制盖板的温度,能够防止水汽在盖板下表面凝结,从而避免了由于液滴滴落在硅片上而造成的返工,减少成本浪费,提高了经济效益。
【IPC分类】C23F1-08, H01L21-67
【公开号】CN204407298
【申请号】CN201420746356
【发明人】杨晓琴, 陈园, 张宇, 王鹏, 柳杉, 殷建安, 梅超, 张伟
【申请人】上饶光电高科技有限公司
【公开日】2015年6月17日
【申请日】2014年12月3日
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