技术总结
一种电感耦合等离子处理装置，包括：反应腔，绝缘材料窗位于反应腔顶部，一基座位于反应腔内下方用于固定基片，至少一基片设置于所述基座上，一电感线圈设置于绝缘材料窗上方，所述电感线圈包括一射频能量输入端位于绝缘材料窗中心区域上方，一匹配器包括一个壳体，壳体上包括一射频输入端连接到一个射频电源，还包括一射频输出端位于壳体底部中心，所述射频输出端通过一射频导线向下延伸与所述电感线圈的射频输入端相连接，所述壳体底部包括多个开口围绕所述射频输出端，所述开口内安装有风扇向下吹送气流到所述绝缘材料窗。
技术研发人员：倪图强;左涛涛;吴狄
受保护的技术使用者：中微半导体设备（上海）有限公司
文档号码：201510747985
技术研发日：2015.11.06
技术公布日：2017.05.17