一种硅胶发热片的制作方法

文档序号:11563061阅读:692来源:国知局

本实用新型涉及发热片技术领域,具体为一种硅胶发热片。



背景技术:

传统意义上的硅胶发热片是将发热电阻丝打好线,再将其绕在定好尺寸的硅胶片中,最后压进硅胶中,这种做法虽然简单,但是生产的硅胶发热片缺陷也同样存在,主要的缺陷在于:首先,生产的硅胶发热片的厚度较厚,能以满足实际需求的微薄结构,即只需要0.2-0.5毫米的厚度才能实现柔性结构;其次,压进的发热电阻丝为线状结构,而且在硅胶层内部的排列也不均匀,容易造成发热和传热均不均匀的问题,使得源发热面积小,受热面积小,发热功率消耗大,实际有用功率小,热传递和转换效率低下。



技术实现要素:

针对以上问题,本实用新型提供了一种硅胶发热片,整体结构均呈柔性,可以按照要求加工成任意所需的形状,发热迅速、温升快,具有发热面大、发热均匀的特点,提高热交换能力,可以有效解决背景技术中的问题。

为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种硅胶发热片,包括两张玻璃纤维布和双片硅胶层,且双片硅胶层设在两张玻璃纤维布之间,所述两张玻璃纤维布和双片硅胶层之间通过压敏胶形成一个整体,在外侧玻璃纤维布的一侧还贴有双面胶,所述双片硅胶层内部设有夹层,且在夹层内部固定安装有镍合金电阻线,且镍合金电阻线的形状制成泊状或者丝状,所述相邻镍合金电阻线间距由内自外呈等差扩大。

作为本实用新型一种优选的技术方案,所述单片玻璃纤维布和双片硅胶层的总厚度均为0.2-0.5毫米,且单片玻璃纤维布和双片硅胶层的厚度比为1:2。

作为本实用新型一种优选的技术方案,所述双片硅胶层呈波浪皱褶状,且褶皱波长为0.2mm。

作为本实用新型一种优选的技术方案,所述相邻镍合金电阻线间距为0.1-2mm,且相邻镍合金电阻线间距呈等差扩大的公差范围为0.01-0.1mm。

与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:该硅胶发热片,通过将镍合金电阻线安装在双片硅胶层中,并且所有结构均采用微薄结构,整体结构均呈柔性,可以按照要求加工成任意所需的形状,质量轻,采用的镍合金电阻线具有通电发热迅速、温升快,相邻镍合金电阻线间距由内自外呈等差扩大,具有发热面大、发热均匀的特点,压敏胶将各结构相互粘结在一起形成整体结构,提高热交换能力,而双面胶可使发热片牢牢粘在被加物体的表面,便于安装,特别是双片硅胶层的波状褶皱结构,能够给发热片一个加热空气层的空间,避免直接接触,能够有效防止热传递过程中热辐射损失,提高热传递效率。

附图说明

图1为本实用新型结构示意图;

图中:1-玻璃纤维布;2-双片硅胶层;3-压敏胶;4-双面胶;5-夹层;6-镍合金电阻线。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。

实施例:

请参阅图1,本实用新型提供一种技术方案:一种硅胶发热片,包括两张玻璃纤维布1和双片硅胶层2,且双片硅胶层2设在两张玻璃纤维布1之间,所述两张玻璃纤维布1和双片硅胶层2之间通过压敏胶3形成一个整体,在外侧玻璃纤维布1的一侧还贴有双面胶4,所述双片硅胶层2内部设有夹层5,且在夹层5内部固定安装有镍合金电阻线6,且镍合金电阻线6的形状制成泊状或者丝状,所述相邻镍合金电阻线6间距由内自外呈等差扩大。

优选的是,所述单片玻璃纤维布1和双片硅胶层2的总厚度均为0.2-0.5毫米,且单片玻璃纤维布1和双片硅胶层2的厚度比为1:2,所有结构均采用微薄结构,整体结构均由柔性;所述双片硅胶层2呈波浪皱褶状,且褶皱波长为0.2mm,能够给发热片一个加热空气层的空间,避免直接接触,能够有效防止热传递过程中热辐射损失,提高热传递效率;所述相邻镍合金电阻线6间距为0.1-2mm,且相邻镍合金电阻线6间距呈等差扩大的公差范围为0.01-0.1mm,发热面大、发热均匀。

本实用新型的优点在于:该硅胶发热片,通过将镍合金电阻线安装在双片硅胶层中,并且所有结构均采用微薄结构,整体结构均呈柔性,可以按照要求加工成任意所需的形状,质量轻,采用的镍合金电阻线具有通电发热迅速、温升快,相邻镍合金电阻线间距由内自外呈等差扩大,具有发热面大、发热均匀的特点,压敏胶将各结构相互粘结在一起形成整体结构,提高热交换能力,而双面胶可使发热片牢牢粘在被加物体的表面,便于安装,特别是双片硅胶层的波状褶皱结构,能够给发热片一个加热空气层的空间,避免直接接触,能够有效防止热传递过程中热辐射损失,提高热传递效率。

以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已,并不用以限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。

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