拆卸件包含物理气相沉积群组单元，所述物理气相沉积群组单元螺纹锁定地堆叠连接在所述外罩上，且所述物理气相沉积群组单元通过溅镀法在所述基材上成膜。
6.如权利要求5所述的模块化的等离子体处理装置，其特征在于，所述外罩包含罩底与罩环侧壁，所述物理气相沉积群组单元包含: 绝缘块，其锁接于所述罩底； 共极板，其堆叠锁接于所述绝缘块上； 磁铁座，其堆叠锁接于所述共极板上； 多个磁铁，每个所述磁铁堆叠吸附于所述磁铁座上； 靶材座，其堆叠锁接于所述磁铁座上且所述多个磁铁镶埋于所述靶材座； 靶材，其堆叠放置于所述靶材座上； 靶材盖，其盖压于所述靶材上且锁接于所述靶材座上，所述靶材座、所述靶材及所述靶材盖呈二明治结构； 垫高环，其环设于所述靶材座与所述靶材的周围，且所述垫高环堆叠锁接于所述罩环侧壁上；以及 导气盖，其堆叠锁接于所述垫高环上。
7.如权利要求1所述的模块化的等离子体处理装置，其特征在于，所述等离子体处理装置用以放置基材，其中一个所述上可拆卸件包含载片，所述载片放置在所述载座上，且所述基材放置在所述载片上，而所述下可拆卸件包含化学气相沉积群组单元，所述化学气相沉积群组单元螺纹锁定地堆叠连接在所述外罩上，且所述化学气相沉积群组单元通过化学气相沉积法在所述基材上成膜。
8.如权利要求7所述的模块化的等离子体处理装置，其特征在于，所述外罩包含罩底与罩环侧壁，所述化学气相沉积群组单元包含: 绝缘块，其锁接于所述罩底； 共极板，其堆叠锁接于所述绝缘块上； 气体分配中环，其堆叠锁接于所述共极板上； 气体分配座，其堆叠锁接于所述气体分配中环上； 气体分配板，其堆叠放置于所述气体分配座上； 气体分配罩，其盖压于所述气体分配板上且锁接于所述气体分配座，所述气体分配座、所述气体分配板及所述气体分配罩呈三明治结构；以及 垫高环，其环设于所述气体分配座与所述气体分配罩的周围，且所述垫高环堆叠锁接于所述罩环侧壁上。
9.如权利要求1所述的模块化的等离子体处理装置，其特征在于，所述上可拆卸件锁接、嵌接、卡接、扣接、粘接、贴接、组接或套接于所述上基载具，所述下可拆卸件锁接、嵌接、卡接、扣接、粘接、贴接、组接或套接于所述下基载具。
10.—种模块化的等离子体处理装置，其设置在真空腔体内，其特征在于，所述模块化的等离子体处理装置包含: 多个等离子体模块，每个所述等离子体模块包含上可拆卸件与下可拆卸件，且每个所述等离子体模块具备一个功能，这些功能彼此相异； 上基载具，其包含: 上固定座，其锁接所述真空腔体； 基轴，其具有上轴接端与下轴接端，所述上轴接端连接所述上固定座；及载座，其能够拆卸地连接所述基轴的所述下轴接端，且任一所述上可拆卸件能够依据其中一个所述功能连接所述载座；以及 下基载具，其对应于所述上基载具，所述下基载具包含: 下固定座，其锁接所述真空腔体且对应所述上固定座； 固定颈，所述固定颈的一端锁接所述下固定座； 外罩，其呈凹槽状，且所述外罩能够拆卸地连接所述固定颈的另一端，任一所述下可拆卸件能够依据其中一个所述功能连接所述外罩；及 气体导管，其具有罩接端与固接端，所述罩接端连接所述外罩，所述固接端连接所述下固定座； 其中，所述多个等离子体模块能够依据所述功能的变换而彼此置换。
11.如权利要求10所述的模块化的等离子体处理装置，其特征在于，一个所述上可拆卸件放置在所述载座上，所述载座能够拆卸地连接所述真空腔体，而所述下可拆卸件包含清洁蚀刻群组单元，所述清洁蚀刻群组单元螺纹锁定地堆叠连接在所述外罩上。
12.如权利要求11所述的模块化的等离子体处理装置，其特征在于，该等离子体处理装置中放置有基材，其中所述外罩包含罩底与罩环侧壁，所述清洁蚀刻群组单元包含: 绝缘块，其锁接于所述罩底； 共极板，其堆叠锁接于所述绝缘块上； 电极板，其堆叠锁接于所述共极板上； 载片，其堆叠锁接于所述电极板上，所述基材放置于所述载片上；以及 导气盖，其堆叠锁接于所述罩环侧壁上，且所述导气盖环绕所述载片。
13.如权利要求12所述的模块化的等离子体处理装置，其特征在于，所述绝缘块具有多面绝缘侧壁、上绝缘端及下绝缘端，所述下绝缘端锁接于所述罩底，且所述罩环侧壁环绕所述多面绝缘侧壁；所述共极板具有共极侧壁、上共极端及下共极端，所述下共极端锁接于所述上绝缘端，所述罩环侧壁环绕所述共极侧壁；所述电极板具有电极侧壁、上电极端及下电极端，所述下电极端锁接于所述上共极端，所述罩环侧壁环绕所述电极侧壁；所述载片堆叠锁接于所述上电极端。
14.如权利要求10所述的模块化的等离子体处理装置，其特征在于，所述等离子体处理装置用以放置基材，其中一个所述上可拆卸件包含载片，所述载片放置在所述载座上，且所述基材放置在所述载片上，所述下可拆卸件包含物理气相沉积群组单元，所述物理气相沉积群组单元螺纹锁定地堆叠连接在所述外罩上，且所述物理气相沉积群组单元通过溅镀法在所述基材上成膜。
15.如权利要求14所述的模块化的等离子体处理装置，其特征在于，所述外罩包含罩底与罩环侧壁，所述物理气相沉积群组单元包含: 绝缘块，其锁接于所述罩底； 共极板，其堆叠锁接于所述绝缘块上； 磁铁座，其堆叠锁接于所述共极板上； 多个磁铁，每个所述磁铁堆叠吸附于所述磁铁座上； 靶材座，其堆叠锁接于所述磁铁座上且所述多个磁铁镶埋于所述靶材座； 靶材，其堆叠放置于所述靶材座上； 靶材盖，其盖压于所述靶材上且锁接于所述靶材座上，所述靶材座、所述靶材及所述靶材盖呈二明治结构； 垫高环，其环设于所述靶材座与所述靶材的周围，且所述垫高环堆叠锁接于所述罩环侧壁上；以及 导气盖，其堆叠锁接于所述垫高环上。
16.如权利要求10所述的模块化的等离子体处理装置，其特征在于，所述等离子体处理装置中放置有基材，其中一个所述上可拆卸件包含载片，所述载片放置在所述载座上，且所述基材放置在所述载片上，所述下可拆卸件包含化学气相沉积群组单元，所述化学气相沉积群组单元螺纹锁定地堆叠连接在所述外罩上，且所述化学气相沉积群组单元通过化学气相沉积法在所述基材上成膜。
17.如权利要求16所述的模块化的等离子体处理装置，其特征在于，所述外罩包含罩底与罩环侧壁，所述化学气相沉积群组单元包含: 绝缘块，其锁接于所述罩底； 共极板，其堆叠锁接于所述绝缘块上； 气体分配中环，其堆叠锁接于所述共极板上； 气体分配座，其堆叠锁接于所述气体分配中环上； 气体分配板，其堆叠放置于所述气体分配座上； 气体分配罩，其盖压于所述气体分配板上且锁接于所述气体分配座，所述气体分配座、所述气体分配板及所述气体分配罩呈三明治结构；以及 垫高环，其环设于所述气体分配座与所述气体分配罩的周围，且所述垫高环堆叠锁接于所述罩环侧壁上。
18.如权利要求10所述的模块化的等离子体处理装置，其特征在于，所述上可拆卸件锁接、嵌接、卡接、扣接、粘接、贴接、组接或套接于所述上基载具，所述下可拆卸件锁接、嵌接、卡接、扣接、粘接、贴接、组接或套接于所述下基载具。
【专利摘要】本实用新型公开了一种模块化的等离子体处理装置，其设置于真空腔体内，其包含多个等离子体模块、上基载具及下基载具。每个等离子体模块包含上可拆卸件与下可拆卸件，且每个等离子体模块具备一个功能，这些功能彼此相异。上基载具包含载座，上基载具连接真空腔体，且上可拆卸件能够依据其中一个功能连接载座。下基载具包含外罩，下基载具连接真空腔体且对应于上基载具，下可拆卸件能够依据其中一个功能连接外罩。此外，这些等离子体模块能够依据功能变换而彼此置换。借此，通过置换不同功能的等离子体模块来实现共用单一载具及多重功能，可发挥等离子体清洁、等离子体蚀刻、PVD镀膜或CVD镀膜功能。
【IPC分类】H05H1-00
【公开号】CN204559994
【申请号】CN201520299212
【发明人】李晋昭, 王世雄, 刘育杰
【申请人】俊尚科技股份有限公司
【公开日】2015年8月12日
【申请日】2015年5月11日