专利名称：电场发光显示装置及其制造方法
技术领域：
本发明涉及提高电场发光显示装置的耐湿性的密封装置及密封装置的形成方法。
背景技术：
近年来的有机电场发光组件(Organic Electro LuminescenceDevice以下称为“有机EL组件”)为一种自发光型的发光组件。使用该有机EL组件的有机EL显示装置，已成为取代CRT或LCD的新的显示装置而受到瞩目。
由于该有机EL组件不耐水，因此在有机EL显示面板上，有提出加装涂敷有干燥剂的金属盖或玻璃盖的罩盖的方案。图8为该种现有的有机EL显示装置的剖面图。
组件玻璃基板70的表面具有形成有多个有机EL组件71显示区域。该组件玻璃基板70，使用由环氧树脂等构成的密封树脂75与用于组件密封的密封玻璃基板80贴合。在密封玻璃基板80上，与上述显示区域对应的区域通过蚀刻而形成有凹部81(以下称的为腔部81)，在该腔部81的底部涂敷有用来吸收水分等湿气的干燥剂层82。
在腔部81的底部涂敷干燥剂层82的原因，是为了确保干燥剂层82与有机EL组件71之间的空隙，避免干燥剂层82与有机EL组件71接触，而防止对有机EL组件71造成损伤。此种有机EL显示装置记载在以下的专利文献1中。
专利文献1特开2001-102166号公报。
有机EL显示面板，必须确保其耐湿性及对温度变化的可靠性。因此，本发明人对有机EL面板实施反复升温、降温的温度循环试验。结果，出现干燥剂层的一部分从密封玻璃基板剥落、浮起，或出现干燥剂层从中途断裂，致使该断裂的干燥剂片，夹置在干燥剂层与组件玻璃基板之间，而导致有机EL组件破损的情况。
发明内容
本发明人为防止上述干燥剂层82的剥落或断裂，经仔细研讨结果，而找出其产生原因。即，在面板温度迅速升高后又下降的过程中，热膨胀率大于密封玻璃基板80的干燥剂层82会产生极大的收缩。另一方面，由于密封玻璃基板80的热膨胀率小，因此两者间的热膨胀率的差异，会在干燥剂层82的粘接面产生应力。当该应力大于干燥剂层82与密封玻璃基板80的接合力时便会产生干燥剂层82的剥落或断裂。因此，只要提高干燥剂层82与密封玻璃基板80的接合力，便可避免产生干燥剂层82的剥落或断裂。
因此，本发明在对密封玻璃基板的表面施加粗面化处理使其形成凹凸后，再形成干燥剂层。通过该粗面化处理，可发挥锚固效果，以提高干燥剂层与密封玻璃基板的接合性，防止剥落等情况。
粗面化处理的方法，例如有(1)以配列成格子状的多个抗蚀膜图案做为掩模并以氢氟酸蚀刻密封玻璃基板的方法；(2)以氢氟酸蚀刻密封玻璃基板，并在进行蚀刻途中，切换成在氢氟酸中添加有可使腐蚀生成物的溶解度明显下降的物质(例如，NH4F)的蚀刻液的方法(化学研磨法)；(3)通过喷砂法喷蚀密封玻璃基板的方法(物理研磨法)；(4)使用氢氟酸蚀刻密封玻璃基板形成腔部，然后再以喷砂法形成凹凸的方法。
具体地说，一种电场发光显示装置，具有在表面具有电场发光组件的组件玻璃基板、与所述组件玻璃基板贴合的密封玻璃基板、及配置在前述密封玻璃基板的表面的干燥剂层，其特征在于，所述干燥剂层配置于经由粗面化处理在表面形成凹凸的所述密封玻璃基板的表面上。
一种电场发光显示装置，具有在表面具有电场发光组件的组件玻璃基板、与所述组件玻璃基板贴合的密封玻璃基板、及配置在所述密封玻璃基板的表面的干燥剂层，其特征在于，所述干燥剂层配置于所述密封玻璃基板的表面上，该密封玻璃基板的表面通过蚀刻在表面形成腔部且经由粗面化处理而在该腔部的底部形成凹凸。
一种电场发光显示装置的制造方法，一种具有在表面有电场发光组件的组件玻璃基板、与所述组件玻璃基板贴合的密封玻璃基板、及粘接在所述密封玻璃基板的表面的干燥剂层的电场发光显示装置的制造方法，其特征在于，包括在所述密封玻璃基板的表面，形成以预定的间隔设置的多个抗蚀膜图案的工序；通过以所述多个抗蚀膜图案做为掩模来蚀刻所述密封玻璃基板表面，而形成底面经过粗面化的腔部的工序；在所述腔部的底部粘接干燥剂层的工序；以及使用密封树脂使所述密封玻璃基板与所述组件玻璃基板贴合的工序。
一种电场发光显示装置的制造方法，一种具有在表面有电场发光组件的组件玻璃基板、与所述组件玻璃基板贴合的密封玻璃基板、及配置于所述密封玻璃基板的表面的干燥剂层的电场发光显示装置的制造方法，其特征在于，包括形成在所述密封玻璃基板的表面的要形成腔部的预定区域具有开口部的抗蚀膜图案的工序；以所述抗蚀膜图案做为掩模并使用氢氟酸蚀刻所述密封玻璃基板的表面，接着，再使用在氢氟酸中添加可明显降低腐蚀生成物的溶解度的物质而成的蚀刻液进行蚀刻，而形成底面经过粗面化的腔部的工序；于所述腔部的底部粘接干燥剂层的工序；以及使用密封树脂使所述密封玻璃基板与所述组件玻璃基板贴合的工序。
一种电场发光显示装置的制造方法，一种具有在表面有电场发光组件的组件玻璃基板、与所述组件玻璃基板贴合的密封玻璃基板、及配置于所述密封玻璃基板的表面的干燥剂层的电场发光显示装置的制造方法，其特征在于，包括有；在所述密封玻璃基板的表面，形成在所述密封玻璃基板的表面的要形成腔部的预定区域具有开口部的抗蚀膜图案的工序；以所述抗蚀膜图案做为掩模并使用喷砂法蚀刻所述密封玻璃基板的表面，以形成腔部，并将该腔部的底面粗面化的工序；于所述腔部的底部粘接干燥剂层的工序；以及使用密封树脂使所述密封玻璃基板与所述组件玻璃基板贴合的工序。
一种电场发光显示装置的制造方法，一种具有在表面有电场发光组件的组件玻璃基板、与所述组件玻璃基板贴合的密封玻璃基板、及配置于所述密封玻璃基板的表面的干燥剂层的电场发光显示装置的制造方法，其特征在于，包括在所述密封玻璃基板的表面，形成在所述密封玻璃基板的表面的要形成腔部的预定区域具有开口部的抗蚀膜图案的工序；以所述抗蚀膜图案做为掩模蚀刻所述密封玻璃基板的表面以形成腔部的工序；通过喷砂法使所述腔部的底面粗面化的工序；于所述腔部的底部粘接干燥剂层的工序；以及使用密封树脂使所述密封玻璃基板与所述组件玻璃基板贴合的工序。
图1(a)至(e)为本发明的第1实施方式的电场发光显示装置的制造过程剖面图。
图2(a)及(b)为本发明的第1实施方式的电场发光显示装置的平面图。
图3(a)至(e)为本发明的第2实施方式的电场发光显示装置的工序剖面图。
图4(a)至(d)为本发明的第3实施方式的电场发光显示装置的制造过程剖面图。
图5(a)至(e)为本发明的第4实施方式的电场发光显示装置的制造过程剖面图。
图6为显示有机EL显示装置的显示像素附近的平面图。
图7(a)及(b)为机EL显示装置的显示像素的剖面图。
图8为现有电场发光显示装置的剖面图。
符号说明10基板；12栅极绝缘膜；15层间绝缘膜；17平坦化绝缘膜；66平坦化绝缘膜；30第一TFT；33主动层；33d漏极；43d漏极；33s源极；43s源极；36漏极电极；40第二TFT；41栅极电极；43主动层；43c沟道；51栅极信号线；52漏极信号线；53驱动电源线；60有机EL组件；71有机EL组件；201有机EL组件；61阳极；62空穴输送层；63发光层；64电子输送层；65阴极；70组件玻璃基板；200组件玻璃基板；75密封树脂；80密封玻璃基板；81腔部；82干燥剂层；82A干燥剂片；100密封玻璃基板；101c密封玻璃基板；101d密封玻璃基板；101e密封玻璃基板；101a抗蚀膜图案；101b抗蚀膜图案；102铬掩模层；103腔部；110腔部；120腔部；140腔部；104凹凸；112凹凸；121凹凸；141凹凸；105干燥剂层；113干燥剂层；122干燥剂层；142干燥剂层；111腐蚀生成物；115显示像素；130微小径喷嘴；131砂；202密封树脂。
具体实施例方式
接下来，参照附图详细说明本发明的实施方式。
第1实施方式图1顺序表示出本发明的第1实施方式的电场发光显示装置的制造过程(a)至(e)的剖面图。图2为电场发光显示装置的平面图，图2(a)的X-X线剖面图为图1(a)，图2(b)的Y-Y线剖面图为图1(e)。
以下，说明与第1实施方式有关的电场发光显示装置的制造方法。首先，如图1(a)、图2(a)所示，准备厚度0.7mm程度的密封玻璃基板100。于密封玻璃基板100的腔部的预定的形成区域(以下称之为腔部预定形成区域)中形成配列成格子状的多个抗蚀膜图案101a。然后，在腔部预定形成区域的周边形成环状抗蚀膜图案101b。在抗蚀膜图案101a、101b的底层优选地形成铬掩模层102。其理由为了在后述的密封玻璃基板100蚀刻时，能够提高掩模的耐蚀性。此外，多个抗蚀膜图案101a的宽度以及间隔，要形成的凹凸的高度的2倍左右，优选为例如在100μm左右。
接着，如图1(b)所示，以抗蚀膜图案101a、101b，铬掩模层102做为掩模，用氢氟酸蚀刻密封玻璃基板100的表面。由于湿蚀刻的原因，蚀刻以等方的方式进行，会在抗蚀膜图案101a、101b，铬掩模层102的下方进行侧蚀刻。即，在邻接的抗蚀膜图案101a、101a之间的区域形成凹部，而在抗蚀膜图案101a所在的区域形成凸部。
然后，如图1(c)所示，继续进行蚀刻，而形成腔部103。腔部103的深度例如为0.1mm～0.3mm。抗蚀膜图案101a，通过侧蚀刻的进行而剥落去除，在腔部103的底部形成反映多个抗蚀膜图案101a的多个的凹凸104。凹凸104的高低差h视抗蚀膜图案101a的疏稀而定，其高低差大于1μm而小于腔部103的深度。但优选为在1μm～300μm之间。而最优选为1μm～50μm。此有利于获得后述的锚固效果。
接着，如图1(d)所示，去除残存的抗蚀膜图案101b及铬掩模层102。然后，在腔部103涂敷形成用来吸收水分的干燥剂层105。干燥剂层105，例如在将粉末状的氧化钙、氧化钡等以及做为粘合剂的树脂溶解于溶剂的状态下，涂敷于腔部103的底部，再通过UV照射或加热处理使其硬化，使其与腔部103的密封玻璃基板100接合。由于通过上述的粗面化处理凹凸104形成于腔部103的底部(即，密封玻璃基板100的表面)，因此可通过锚固效果，提高干燥剂层105的接合力，防止干燥剂层105的剥离等情形。
然后，如图1(e)所示，准备组件玻璃基板200。组件玻璃基板200(显示面板)的厚度约为0.7mm。组件玻璃基板200具有显示区域。该显示区域有多个像素配置成矩阵状，且各像素中配置有EL组件201。该像素的详细构造如后文所述。接着，在N2气体环境的处理室内，使用由环氧树脂所形成的密封树脂202将组件玻璃基板200与密封玻璃基板100予以贴合。
第二实施方式图3顺序表示出本发明的第二实施方式的电场发光显示装置的制造过程的剖面图。此外，图中，与图1相同的构成部分标示相同的符号。
首先，如图3(a)所示，准备厚度0.7mm程度的密封玻璃基板100。并形成在密封玻璃基板100的腔部的预定形成区域(以下称之为腔部预定形成区域)具有开口部的抗蚀膜图案101c。抗蚀膜图案101c为环状的抗蚀膜图案，形成于腔部预定形成区域的周边。与第一实施方式相同，优选为在抗蚀膜图案101c的底层形成铬掩模层102。此外，也可用耐氢氟酸膜来形成图案。
接着，如图3(b)所示，以抗蚀膜图案101c、铬掩模层102做为掩模，用氢氟酸蚀刻密封玻璃基板100的表面，形成腔部110。腔部110的深度在0.1mm～0.3mm的程度。接着，使用在氢氟酸中添加可明显降低腐蚀生成物(例如氟硅氧化物)的溶解度的物质(例如NH4F)而成的蚀刻液进行蚀刻。
由此，如图3(c)所示，腐蚀生成物111(例如氟硅氧化物)附着于腔部110的底部，且腐蚀生成物111的溶解度明显下降。未附着腐蚀生成物111的部分，密封玻璃基板100的蚀刻速度较为快速。如此，即可在腔部110的底部形成凹凸112。此凹凸的112的高低差，可通过改变切换成添加明显降低腐蚀生成物111的溶解度的物质而成的蚀刻液后的蚀刻时间来控制，但为获得锚固效果，凹凸的高低差大于1μm而小于腔部110的深度。而优选为1μm～300μm，但最优选为1μm～50μm。
接着，如图3(d)所示，去除残存的抗蚀膜图案101c以及铬掩模层102。接着，在该腔部110涂敷形成用来吸收水分等湿气的干燥剂层113。干燥剂层113，例如在将粉末状的氧化钙、氧化钡等以及做为粘合剂的树脂溶解于溶剂的状态下，涂敷于腔部110的底部，再通过UV照射或加热处理使其硬化，使其与腔部110的密封玻璃基板100接合。由于凹凸112通过上述的粗面化处理而形成于腔部110的底部(即，密封玻璃基板100的表面)上，因此通过锚固效果，可提高干燥剂层113的接合力，防止干燥剂层113的剥落等情形。
然后，如图3(e)所示，准备组件玻璃基板200。并在N2气体环境的处理室内，使用由环氧树脂等所形成的密封树脂202将组件玻璃基板200与密封玻璃基板100予以贴合。
第三实施方式图4顺序表示出本发明的第三实施方式的电场发光显示装置的制造过程的剖面图。此外，图中与图1相同的构成部分标示相同的符号。
首先，如图4(a)所示，准备厚度0.7mm程度的密封玻璃基板100。并形成在密封玻璃基板100的腔部的预定形成区域(以下称的为腔部预定形成区域)具有开口部的抗蚀膜图案101d。抗蚀膜图案101d为环状的抗蚀膜图案，形成于腔部预定形成区域的周边。可在抗蚀膜图案101d的下方形成铬掩模层102。此外，也可用耐氢氟酸膜来形成图案。
如图4(b)所示，使用喷砂法蚀刻密封玻璃基板100的表面来形成腔部120。与此同时，在腔部120底部的密封玻璃基板100的表面上形成凹凸121。喷砂法为一面使微小径喷嘴130沿着玻璃密封基板100移动，一面利用高压使砂131从微小径喷嘴130的喷出口喷出，利用砂131的物理冲击对密封玻璃基板100的表面进行蚀刻的方法。此外，若能够精确设定微小径喷嘴130的移动范围的位置，即可省略抗蚀膜图案101d以及铬掩模层102的掩模处理。
另外，凹凸121的高低差，可依砂131的种类、粒径、微小径喷嘴130的砂喷出压力来加以控制，但为提高锚固效果，与前述相同，优选为将其设定在1μm至300μm之间，但最优选为设定在1μm至50μm之间。
然后，图4(c)所示，在该腔部120的底部(经过蚀刻的密封玻璃基板100的表面)涂敷形成用来吸收水分等湿气的干燥剂层122。干燥剂层122，例如在将粉末状的氧化钙、氧化钡等以及做为粘合剂的树脂溶解于溶剂的状态下，涂敷于腔部120的底部，接着再通过UV照射或加热处理使其硬化，使之与腔部120的密封玻璃基板100接合。由于凹凸121通过上述粗面化处理而形成于腔部120的底部，因此可通过锚固效果，提高干燥剂层122的接合力，防止干燥剂层122的剥落等情况。
然后，如图4(d)所示准备组件玻璃基板200。并在N2气体环境的处理室内，使用由环氧树脂等所形成的密封树脂202将组件玻璃基板200与密封玻璃基板100予以贴合。
第四实施方式图5顺序表示出本发明的第三实施方式的电场发光显示装置的制造过程的剖面图。此外，图中与图1相同的构成部分标示相同符号。
首先，如图5(a)所示，准备厚度0.7mm程度的密封玻璃基板100。并形成在密封玻璃基板100的腔部的预定形成区域(以下称之为腔部预定形成区域)具有开口部的抗蚀膜图案101e。抗蚀膜图案101e为环状的抗蚀膜图案，形成于腔部预定形成区域的周边。可在抗蚀膜图案101e的下方形成铬掩模层102。
其次，如图5(b)所示，将抗蚀膜图案101e、铬掩模层102做为掩模，用氢氟酸蚀刻密封玻璃基板100的表面，形成腔部140。腔部140的深度约在0.1mm～0.3mm的程度。
图5(c)所示，使用喷砂法，进一步蚀刻密封玻璃基板100的表面，在腔部140底部的密封玻璃基板100的表面形成凹凸141。
凹凸141的高低差，与第三实施方式相同，可通过砂(sand)131的种类、粒径、微小径喷嘴130的砂喷出压力来加以控制，但为提高锚固效果，与前述相同，可将其设定在1μm～300μm之间，但最好设定在1μm～50μm之间。
如图5(d)所示，在该腔部140的底部涂敷形成用来吸收水分等湿气的干燥剂层142。干燥剂层142，例如在将粉末状的氧化钙、氧化钡等以及做为粘合剂的树脂溶解于溶剂的状态下，涂敷于腔部140的底部，接着再通过UV照射或加热处理使其硬化，使之与腔部140的密封玻璃基板100接合。腔部140的底部，通过上述粗面化处理，形成凹凸141，因此通过锚固效果，可提高干燥剂层142的接合力，并防止干燥剂层142产生剥落等现象。
如图5(e)所示准备组件玻璃基板200。并在N2气体环境下的处理室内，使用由环氧树脂所形成的密封树脂202将组件玻璃基板200与密封玻璃基板100予以贴合。
图6表示有机EL显示装置的显示像素附近的平面图，图7(a)表示沿着图6的A-A线的剖面图，图7(b)表示沿着图6的B-B线的剖面图。
如图6与图7所示，在由栅极信号线51与漏汲信号线52所围成的区域中形成显示像素115，使显示像素115配置成矩阵状。
在该显示像素115中，配置有本身为自发光组件的有机EL组件60、用来控制对该有机EL组件60供给电流时序的开关用TFT30、使电流供给至该有机EL组件60的驱动用TFT40及保持电容。此外，有机EL组件60，由作为第一电极的阳极61、发光材料所形成的发光组件层以及作为第二电极的阴极65所构成。
即，两信号线51，52的交点附近具有作为开关用TFT的第一TFT30，该TFT30的源极33s除了兼做为与保持电容电极线54之间形成电容的电容电极55之外，也与作为EL组件驱动用TFT的第二TFT40的栅极电极41连接，第二TFT的源极43s与有机EL组件60的阳极61连接，另一方的漏汲43d则与驱动电源线53连接，其中驱动电源线53作为供给电流给有机EL组件60的电流源。
此外，保持电容电极线54与栅极信号线51平行配置。该保持电容电极线54由铬等所形成，而隔着栅极绝缘膜12和电容电极55之间形成可蓄积电荷的电容，该电容电极55与TFT的源极33s连接。该保持电容，为了保持施加于第二TFT40的栅极电极41的电压而设置。
如图7所示，有机EL显示装置，在玻璃或合成树脂等所形成的基板、或具有导电性的基板、或是半导体基板等基板10上依序叠层形成TFT及有机EL组件。但是，使用具有导电性的基板以及半导体基板做为基板10时，先在这些基板10上形成SiO2或SiN等绝缘膜，再在其上形成第一、第二TFT及有机EL组件。不论第一或第二TFT，均为顶栅(topgate)型构造者，也即其栅极电极隔着栅极绝缘膜而位于主动层的上方。
首先，针对作为开关用TFT的第一TFT30进行说明。
如图7(a)所示，通过CVD法等，使非晶硅膜(以下，称之为“a-Si膜”)成膜于石英玻璃、无碱玻璃等所形成的绝缘性基板10上，并将激光照射于该a-Si膜上使其熔融再结晶化而形成多晶硅膜(以下，称之为“p-Si膜”)，而以此做为主动层33。在该主动层33之上，形成SiO2膜或SiN膜的单层或叠层体做为栅极绝缘膜12。再于其上方配置由Cr、Mo等高熔点金属所形成兼做为栅极电极31的栅极信号线51及由Al所形成的漏汲信号线52，以及作为有机EL组件的驱动电源的由Al所形成的驱动电源线53。
然后，在栅极绝缘膜12以及主动层33上的整个平面内，形成依SiO2膜、SiN膜以及SiO2膜的顺序叠层而成的层间绝缘膜15，并设置漏汲电极36，该漏汲电极36在对应漏汲33d而设的接触孔中填充Al等金属而形成，另外还在整个平面内形成由有机树脂所形成的使表面平坦的平坦化绝缘膜17。
接着，说明有机EL组件的作为驱动用TFT的第二TFT40。如图7(b)所示，在石英玻璃、无碱玻璃等形成的绝缘性基板10上依序形成将激光照射于a-Si膜而结晶化形成的主动层43；栅极绝缘膜12；以及由Cr、Mo等高熔点金属所形成的栅极电极41，该主动层43中，设有沟道43c；以及于该沟道43c两侧设置的源极43s以及漏汲43d。然后，于栅极绝缘膜12以及主动层43上的整个平面内，形成按SiO2膜、SiN膜以及SiO2膜的顺序叠层而成的层间绝缘膜15，并配置驱动电源线53，该驱动电源线53在对应漏汲43d设置的接触孔中填充Al等金属且与驱动电源连接。另外还在整个平面内具有由例如有机树脂所形成的使表面平坦的平坦化绝缘膜17。接着，于与该平坦化绝缘膜17的与源极43s对应的位置上形成接触孔，并将透过该接触孔与源极43s接触的由ITO(Indium Tin Oxide；氧化铟锡)形成的透明电极、即有机EL组件的阳极61设置于平坦化绝缘膜17上。该阳极61呈岛状分离形成于每一显示像素。
有机EL组件60，其构成为由ITO等透明电极所形成的阳极61、由MTDATA(4，4-bis(3-methylphenylphenylamino)biphenyl；4，4-双(3-甲基苯基苯胺基)联苯)所形成的第一空穴输送层、由TPD(4，4，4-tris(3-methylphenylphenylamino)triphenylain；4，4，4-参(3-甲苯基苯胺基)三苯胺)所形成的第二空穴输送层所形成的空穴输送层62、包含酮(Quinacridone)衍生物的Bebq2(10-benzo[h]quinolinol beryllium complex；10-苯并[h]羟基喹啉配位化合物)所形成的发光层63、以及由Bebq2所形成的电子输送层64、由镁-铟合金或铝、或铝合金所形成的阴极65的顺序叠层而成。
此外，平坦化绝缘膜17上形成有第二平坦化绝缘膜66。但阳极61上构成为除去第二平坦化绝缘66。
有机EL组件60中，从阳极61注入的空穴与从阴极65注入的电子在发光层内部再结合，激发形成发光层的有机分子而产生激发子。在该激发子放射钝化的过程中由发光层放出光，该光则由透明的阳极61透过透明绝缘基板放射到外部而发光。
根据本发明，由于在进行粗面化处理使密封玻璃基板的表面形成凹凸后，才形成干燥剂层，因此可通过粗面化处理发挥锚固效果，提高干燥剂层对密封玻璃基板的接合力，防止剥离等情况。由此即可大幅提高有机EL面板对温度循环的可靠性。
权利要求
1.一种电场发光显示装置，具有在表面具有电场发光组件的组件玻璃基板、与所述组件玻璃基板贴合的密封玻璃基板、及配置在前述密封玻璃基板的表面的干燥剂层，其特征在于，所述干燥剂层配置于经由粗面化处理在表面形成凹凸的所述密封玻璃基板的表面上。
2.一种电场发光显示装置，具有在表面具有电场发光组件的组件玻璃基板、与所述组件玻璃基板贴合的密封玻璃基板、及配置在所述密封玻璃基板的表面的干燥剂层，其特征在于，所述干燥剂层配置于所述密封玻璃基板的表面上，该密封玻璃基板的表面通过蚀刻在表面形成腔部且经由粗面化处理而在该腔部的底部形成凹凸。
3.跟据权利要求1或2所述的电场发光显示装置，其特征在于，所述凹凸的高低差为1μm～300μm。
4.一种电场发光显示装置的制造方法，一种具有在表面有电场发光组件的组件玻璃基板、与所述组件玻璃基板贴合的密封玻璃基板、及粘接在所述密封玻璃基板的表面的干燥剂层的电场发光显示装置的制造方法，其特征在于，包括在所述密封玻璃基板的表面，形成以预定的间隔设置的多个抗蚀膜图案的工序；通过以所述多个抗蚀膜图案做为掩模来蚀刻所述密封玻璃基板表面，而形成底面经过粗面化的腔部的工序；在所述腔部的底部粘接干燥剂层的工序；以及使用密封树脂使所述密封玻璃基板与所述组件玻璃基板贴合的工序。
5.一种电场发光显示装置的制造方法，一种具有在表面有电场发光组件的组件玻璃基板、与所述组件玻璃基板贴合的密封玻璃基板、及配置于所述密封玻璃基板的表面的干燥剂层的电场发光显示装置的制造方法，其特征在于，包括形成在所述密封玻璃基板的表面的要形成腔部的预定区域具有开口部的抗蚀膜图案的工序；以所述抗蚀膜图案做为掩模并使用氢氟酸蚀刻所述密封玻璃基板的表面，接着，再使用在氢氟酸中添加可明显降低腐蚀生成物的溶解度的物质而成的蚀刻液进行蚀刻，而形成底面经过粗面化的腔部的工序；在所述腔部的底部粘接干燥剂层的工序；以及使用密封树脂使所述密封玻璃基板与所述组件玻璃基板贴合的工序。
6.一种电场发光显示装置的制造方法，一种具有在表面有电场发光组件的组件玻璃基板、与所述组件玻璃基板贴合的密封玻璃基板、及配置于所述密封玻璃基板的表面的干燥剂层的电场发光显示装置的制造方法，其特征在于，包括有；在所述密封玻璃基板的表面，形成在所述密封玻璃基板的表面的要形成腔部的预定区域具有开口部的抗蚀膜图案的工序；以所述抗蚀膜图案做为掩模并使用喷砂法蚀刻所述密封玻璃基板的表面，以形成腔部，并将该腔部的底面粗面化的工序；在所述腔部的底部粘接干燥剂层的工序；以及使用密封树脂使所述密封玻璃基板与所述组件玻璃基板贴合的工序。
7.一种电场发光显示装置的制造方法，一种具有在表面有电场发光组件的组件玻璃基板、与所述组件玻璃基板贴合的密封玻璃基板、及配置于所述密封玻璃基板的表面的干燥剂层的电场发光显示装置的制造方法，其特征在于，包括在所述密封玻璃基板的表面，形成在所述密封玻璃基板的表面的要形成腔部的预定区域具有开口部的抗蚀膜图案的工序；以所述抗蚀膜图案做为掩模蚀刻所述密封玻璃基板的表面以形成腔部的工序；通过喷砂法使所述腔部的底面粗面化的工序；在所述腔部的底部粘接干燥剂层的工序；以及使用密封树脂使所述密封玻璃基板与所述组件玻璃基板贴合的工序。
全文摘要
本发明提供一种改进的电场发光显示装置及其制造方法，目的在于防止有机EL面板的干燥剂层的剥落或断裂，以提高对温度循环的可靠性，以配列成格子状的多个抗蚀膜图案(101a)做为掩模并以氢氟酸蚀刻密封玻璃基板(100)，而形成腔部(103)，在腔部(103)的底部的密封玻璃基板(100)的表面形成凹凸(104)，然后再形成干燥剂(105)层，通过粗面化处理，可发挥锚固效果，以提高干燥剂层与密封玻璃基板的接合性，以防止剥落等情况。
文档编号H05B33/04GK1536937SQ20031011888
公开日2004年10月13日 申请日期2003年12月4日 优先权日2002年12月6日
发明者小村哲司 申请人:三洋电机株式会社