专利名称：壳体的制备方法及由该方法制得的壳体的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种壳体的制备方法及由该方法制得的壳体，尤其涉及一种具有黑色外观的壳体的制备方法及由该方法制得的壳体。
背景技术：
黑色涂层的应用主要是为了消除或减小光线的影响，或作为产品表面的装饰涂层。目前最常用的制备黑色涂层的方法为电化学方法，如阳极氧化黑色膜，电镀黑镍或黑铬等，但该类方法污染重不环保。PVD镀膜技术是一种较为环保的镀膜工艺。现有技术中，利用PVD镀膜技术于壳体表面形成的黑色膜层在工业上应用得较多的膜系主要是碳化钛(TiC)及碳化铬(CrC)等。在利用PVD镀膜技术制备黑色的碳化钛或碳化铬膜层的过程中，为了使膜层黑色的深度较大，即降低涂层的色度区域于CIE LAB表色系统中的L*值使其小于35，通常需通入大量的碳源反应气体，如甲烷、乙炔等，然而这些气体通入过多时，气体会与靶材反应造成靶材中
发明内容
有鉴于此，本发明提供一种有效解决上述问题的黑色外观的壳体的制备方法。另外，本发明还提供一种由上述方法所制得的壳体。一种壳体的制备方法，其包括如下步骤提供一基体；在该基体的表面形成一色彩层，该色彩层为碳化硼层，形成所述色彩层采用磁控溅射法，使用的靶材的成份为BCX，其中3 < χ < 4，溅射温度为120 150°C，所述色彩层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的I；坐标介于30至35之间，a*坐标介于_1至1之间，b*坐标介于-1至1之间。一种壳体包括基体及形成于基体表面的色彩层，该色彩层为碳化硼，该色彩层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标介于30至35之间，a*坐标介于_1至1之间，b*坐标介于-1至1之间。相较于现有技术，本发明壳体的制备方法在形成色彩层时，通过制备特殊成份的靶材和对溅射温度的控制，且在不通入碳源反应气体的情况下，使所述色彩层呈现黑色，且该色彩层的色度区域于CIE LAB表色系统的I；低于35，该色彩层使所述壳体呈现出具有吸引力的黑色的外观；且所述色彩层具有良好的抗磨损性能，可持久保持其良好的黑色的外观，同时还可有效防止基体被磨损，相应地延长了壳体的使用寿命。
图1是本发明一较佳实施例壳体的剖视图；图2是本发明一较佳实施例真空镀膜机的示意图。
主要元件符号说明壳体10基体11色彩层13真空镀膜机20镀膜室21靶材2具体实施例方式本发明一较佳实施方式的壳体10(如图1所示)的制备方法包括如下步骤提供一基体11。该基体11的材质可为金属、玻璃或陶瓷。对该基体11进行预处理，该预处理可包括抛光、乙醇中超声波清洗及烘干等步
马聚ο在基体11的表面形成一色彩层13。该色彩层13为碳化硼层，其采用磁控溅射的方式形成。制备靶材23，该靶材的成份为BCX，其中3 < χ < 4，该靶材23的制备可采用常规的粉末冶金的方法，将硼粉与石墨粉按质量比为1 3 1 4的比例混合均勻，采用冷等静压制成一坯体，再在1100 1300烧结2 3h，自然冷却后即可。形成该色彩层13的具体操作方法可为如图2所示，将基体11放入一真空镀膜机20的镀膜室21内，抽真空使该镀膜室21的本底真空度为8 X 10_3Pa，加热该镀膜室21使基体11的温度为120 150°C ；开启靶材23，设定靶材23的功率为7 10kw，设定施加于基体11的偏压为-100 -155V，占空比为40 55% ；通入工作气体氩气，氩气的流量可为200 300sCCm，沉积所述色彩层13。沉积所述色彩层13的时间可为15 25min。所述色彩层13的厚度可为400 600nm。该色彩层13于CIE LAB表色系统的L*坐标介于30至35之间，a*坐标介于_1至1之间，b*坐标介于-ι至1之间。请再一次参阅图1，由上述方法所制得的壳体10包括基体11、及形成于基体11表面的色彩层13。该色彩层13呈现黑色。基体11的材质可为金属、玻璃或陶瓷。该色彩层13为碳化硼层，其厚度可为400 600nm。该色彩层13由肉眼直观呈现黑色，而其呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的I；坐标介于30至35之间，a*坐标介于-1至1之间，b*坐标介于-1至1之间。本发明壳体10可为笔记型计算机、个人数字助理等电子装置的壳体，或为其他装饰类产品的壳体。本发明壳体10的制备方法在形成色彩层13时，通过制备特殊成份的靶材和对溅射温度的控制，且在不通入碳源反应气体的情况下，使所述色彩层13呈现黑色，且该色彩层13的色度区域于CIELAB表色系统的L*低于35，该色彩层13使所述壳体10呈现出具有吸引力的黑色的外观；且所述色彩层13具有良好的抗磨损性能，可持久保持其良好的黑色的外观，同时还可有效防止基体11被磨损，相应地延长了壳体10的使用寿命。
权利要求
1.一种壳体的制备方法，其包括如下步骤提供一基体；在该基体的表面形成一色彩层，该色彩层为碳化硼层，形成所述色彩层采用磁控溅射法，使用的靶材的成份为BCX，其中3 < X < 4，溅射温度为120 150，所述色彩层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标介于30至35之间，a*坐标介于_1至1之间，b*坐标介于-1至1之间。
2.如权利要求1所述的壳体的制备方法，其特征在于该基体的材质为金属、玻璃或陶ο
3.如权利要求1所述的壳体的制备方法，其特征在于形成该色彩层的工艺参数为靶材的功率为7 10kw，以氩气为工作气体，氩气的流量为200 300SCCm，施加于基体的偏压为-100 -155V，占空比为40 55%，镀膜时间为15 25min。
4.如权利要求1所述的壳体的制备方法，其特征在于该色彩层的厚度为400 600nmo
5.如权利要求1所述的壳体的制备方法，其特征在于该色彩层呈现黑色。
6.如权利要求1所述的壳体的制备方法，其特征在于制备所述靶材采用如下方式实现采用粉末冶金法，将硼粉与石墨粉按质量比为1 3 1 4的比例混合均勻，采用冷等静压制成一坯体，再在1100 1300烧结2 3h。
7.一种由权利要求1-6中的任一项所述的方法制得的壳体。
全文摘要
本发明提供一种具有黑色外观的壳体的制备方法，其包括如下步骤提供一基体；在该基体的表面形成一色彩层，该色彩层为碳化硼层，形成所述色彩层采用磁控溅射法，使用的靶材的成份为BCx，其中3＜x＜4，溅射温度为120～150℃，所述色彩层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标介于30至35之间，a*坐标介于-1至1之间，b*坐标介于-1至1之间。本发明在形成色彩层时，通过制备特殊成份的靶材和对溅射温度的控制，且在不通入碳源反应气体的情况下，使所述色彩层呈现黑色，且该色彩层的色度区域于CIE LAB表色系统的L*低于35。本发明还提供一种由上述方法制得的壳体。
文档编号G12B9/02GK102568616SQ20101058496
公开日2012年7月11日 申请日期2010年12月13日 优先权日2010年12月13日
发明者张新倍, 李聪, 蒋焕梧, 陈文荣, 陈正士 申请人:鸿富锦精密工业(深圳)有限公司, 鸿海精密工业股份有限公司