专利名称：一种硅片扩散炉的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及扩散炉技术领域，尤其涉及一种硅片扩散炉。
背景技术：
在光伏电池行业中，硅片方块电阻的均匀性是决定太阳能电池电性能的一个重要参数。从业界情况来看，硅片片内方块电阻达到5%以上，且呈现中间大，四周小的特点。目前，太阳能行业用于扩散工艺的扩散炉的结构在炉体中，三氯氧磷气体分子，氧气和硅发生反应生成磷，磷在高温的条件下向硅里推进形成PN结。氮气的流量最大，用于将反应气 体和反应产物(废气)从炉尾带到炉口，然后废气从尾管排出。硅片片内的方阻均匀性与硅片在炉体内所处位置的气体浓度均匀性有关。目前的扩散炉进气结构使三种气体在相互垂直的进气管瞬间混合后立即进入炉体内，氧气和三氯氧磷没有充分混合均匀就开始与硅片发生反应，加上硅片之间的空间狭小，导致片内方阻均匀性很差。
发明内容本实用新型所要解决的技术问题在于，提供一种结构简单、操作性强、成本低廉的硅片扩散炉，所述硅片扩散炉能使混合气体在进入炉体前混合均匀，且能使各种气体浓度在炉体内的每个位置都保持均匀，从而保证硅片具有良好的片内方阻均匀性。为了解决上述技术问题，本实用新型提供了一种硅片扩散炉，所述硅片扩散炉包括炉体，所述炉体设有至少一个进气管；所述炉体和所述进气管之间设有气体混合室。作为上述方案的改进，所述气体混合室的直径或宽度大于所述进气管的直径。作为上述方案的改进，所述炉体设有至少两个进气管。作为上述方案的改进，所述进气管设于同一直线上。作为上述方案的改进，所述进气管设于竖直方向上。作为上述方案的改进，所述炉体为管状结构。作为上述方案的改进，所述硅片扩散炉还设有用于排废气的尾管。实施本实用新型的有益效果在硅片扩散炉技术领域，与现有技术相比，本实用新型在炉体和进气管之间设有气体混合室，且气体混合室的直径或宽度大于进气管的直径，这可以保证混合气体在进入炉体前就已经在气体混合室里混合均匀，进入炉体后，各种气体(例如氧气和三氯氧磷)的浓度在炉体内的每个位置都保持均匀，从而保证硅片具有良好的片内方阻均匀性。其次，进气管设于同一直线上，优选设于竖直方向上，可以使气体以相向对流的方式以较大的流量进入气体混合室，有效提高气体混合的均匀性，进一步保证硅片具有良好的片内方阻均匀性。
[0014]图I为本实用新型一种硅片扩散炉的结构示意图。
具体实施方式
为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本实用新型作进一步的详细描述。如图I所示，本实用新型实施例提供了一种硅片扩散炉，所述硅片扩散炉包括炉体1，所述炉体I设有至少一个进气管2 ;所述炉体I和所述进气管2之间设有气体混合室3。所述气体混合室3的直径或宽度大于所述进气管2的直径。在炉体I中，三氯氧磷气体分子，氧气和硅发生反应生成磷，磷在高温的条件下向硅里推进形成PN结。氮气的流量最大，用于将反应气体和反应产物(废气)从炉尾带到炉口，然后废气从尾管排出。硅片片内的方阻均匀性与硅片在炉体I内所处位置的气体浓度 均匀性有关。为提高硅片片内的方阻均匀性，首先需提高硅片在炉体内所处位置的气体浓度的均匀性。本实用新型通过在炉体I和进气管2之间设有气体混合室3，且气体混合室3的直径或宽度大于进气管2的直径，这可以保证混合气体在进入炉体I前就已经在气体混合室3里混合均匀，进入炉体I后，各种气体(例如氧气和三氯氧磷)的浓度在炉体内的每个位置都保持均匀，从而保证硅片具有良好的片内方阻均匀性。所述炉体I设有至少两个进气管2。优选地，所述炉体I设有两个进气管2。一个进气管用来通入氮气和氧气，另一个进气管用来通入三氯氧磷。所述进气管2设于同一直线上。优选地，所述进气管2设于竖直方向上。此进气管2的结构设计可以使气体以相向对流的方式以较大的流量进入气体混合室3，混合几分钟后，进入炉体1，有效提高气体混合的均匀性，进一步保证硅片具有良好的片内方阻均匀性。所述炉体I为管状结构。所述硅片扩散炉还设有用于排废气的尾管。在实际操作中，硅片竖直放置在硅片扩散炉的炉体I之中，氮气和氧气从进气管2由上至下地通入到气体混合室3，三氯氧磷从进气管2由下至上地通入到气体混合室3，各种气体以相向对流的方式以较大的流量进入气体混合室3中，混合几分钟后，进入炉体I。在炉体I内，三氯氧磷气体分子，氧气和硅发生反应生成磷，磷在高温的条件下向硅里推进形成PN结。氮气的流量最大，用于将反应气体和反应产物(废气)从炉尾带到炉口，然后废气从尾管排出。以上所述是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也视为本实用新型的保护范围。
权利要求1.一种硅片扩散炉，其特征在于，所述硅片扩散炉包括炉体，所述炉体设有至少一个进气管； 所述炉体和所述进气管之间设有气体混合室。
2.如权利要求I所述的硅片扩散炉，其特征在于，所述气体混合室的直径或宽度大于所述进气管的直径。
3.如权利要求2所述的硅片扩散炉，其特征在于，所述炉体设有至少两个进气管。
4.如权利要求3所述的硅片扩散炉，其特征在于，所述进气管设于同一直线上。
5.如权利要求3所述的硅片扩散炉，其特征在于，所述进气管设于竖直方向上。
6.如权利要求I所述的硅片扩散炉，其特征在于，所述炉体为管状结构。
7.如权利要求6所述的硅片扩散炉，其特征在于，所述硅片扩散炉还设有用于排废气的尾管。
专利摘要本实用新型公开了一种硅片扩散炉，所述硅片扩散炉包括炉体，所述炉体设有至少一个进气管；所述炉体和所述进气管之间设有气体混合室。所述气体混合室的直径或宽度大于所述进气管的直径。采用本实用新型，所述硅片扩散炉结构简单、操作性强、成本低廉，能使混合气体在进入炉体前混合均匀，且能使各种气体浓度在炉体内的每个位置都保持均匀，从而保证硅片具有良好的片内方阻均匀性。
文档编号C30B31/16GK202465957SQ20112055424
公开日2012年10月3日 申请日期2011年12月27日 优先权日2011年12月27日
发明者康凯, 方结彬, 班群, 陈刚 申请人:广东爱康太阳能科技有限公司