基于微尺寸近临界密度等离子体的伽马射线源及产生方法与流程

技术特征：
1.基于微尺寸近临界密度等离子体的伽马射线源，其特征在于：包括真空靶室系统(101)及设置在所述的真空靶室系统(101)内侧的复合结构靶(104)，所述的复合结构靶(104)包括靶框(202)及设置在靶框(202)一侧的金属钽柱(203)，在所述的靶框(202)远离所述的金属钽柱(203)一端覆盖有低密度碳氢层(201)，在所述的金属钽柱(203)与所述的靶框(202)之间设置有密闭空腔，所述的低密度碳氢层(201)厚度为10μm，平均密度为5mg/cm3，所述的靶框(202)为非金属制成。2.根据权利要求1所述的基于微尺寸近临界密度等离子体的伽马射线源，其特征在于：所述的金属钽柱(203)的直径为0.5mm，厚度为0.5mm。3.根据权利要求1或2所述的基于微尺寸近临界密度等离子体的伽马射线源，其特征在于：所述的靶框(202)厚度为100-200μm。4.根据权利要求1或2所述的基于微尺寸近临界密度等离子体的伽马射线源，其特征在于：所述的真空靶室系统(101)包括铅屏蔽层(102)及设置在所述的铅屏蔽层(10...