专利名称：气流磨清洗盘的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种气流磨部件,尤其是涉及一种密封性好的气流磨清 洗盘。
背景技术：
气流磨中的物料分级中，分选轮与清洗盘之间是动密封结构，为防止 磨室内的磁粉进入清洗盘间隙中，主要是靠清洗压力吹洗，以往，与过粉 管道密封面相接触的气流磨清洗盘密封面是靠平面的无间隙密封，为了达 到密封效果，要求加工表面有很高的光滑渡和平面度，同时由于清洗盘密 封面与为过粉管道密封面之间平行度的微小变化或清洗盘的安装不合适， 经常会因为气流磨清洗盘的密封性不好而造成清洗压力泄漏、清洗压力变 小，造成分选轮与清洗盘抱死或粗粉进入成品粉中，严重影响产品质量。
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题在于针对上述现有技术中的不足，提 供一种气流磨清洗盘，其结构简单，在降低成本的同时，彻底解决了由此 处导致的清洗压力泄漏问题。
为解决上述技术问题，本实用新型采用的技术方案是 一种气流磨清洗 盘，其特征在于所述气流磨清洗盘的密封面上开有多个密封槽，所述密 封槽中设置有密封垫圈。
所述密封槽的数量为两个。 本实用新型与现有技术相比具有以下优点降低对两个密封面加工 精度和光洁度要求，降低成本，确保两密封面对气道的有效密封，同时便 于每次安装的可重复性，彻底解决了由此处导致的清洗压力泄漏问题。下面通过附图和实施例，对本实用新型的技术方案做进一步的详细描述。
图l为本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
如图l所示，本实用新型气流磨清洗盘1的密封面上开有两个密封槽，
各密封槽中均设置有密封垫圈3。密封垫圈3的材料是橡胶、聚氨酯、氟 橡胶、尼龙等。密封垫圈3的设计，确保了气流磨清洗盘1的密封面和过 粉管道2的密封面的有效密封，从而不再要求对以上两个密封面的加工精 度和光洁度高要求，降低成本，节约工时和劳动强度，彻底解决了由此处 导致的清洗压力泄漏问题。
以上所述，仅是本实用新型的较佳实施例，并非对本实用新型作任何限
以及等效结构变换，均仍属于本实用新型技术方案的保护范围内。
权利要求1. 一种气流磨清洗盘，其特征在于所述气流磨清洗盘(1)的密封面上开有多个密封槽，所述密封槽中均设置有密封垫圈(3)。
2. 按照权利要求l所述的气流磨清洗盘，其特征在于所述密封槽的 数量为两个。
专利摘要本实用新型公开了一种气流磨清洗盘，气流磨清洗盘的密封面上开有多个密封槽，密封槽中均设置有密封垫圈。本实用新型结构简单，在降低成本，节约工时和劳动强度的同时，彻底解决了由此处导致的清洗压力泄漏问题。
文档编号B02C23/00GK201283310SQ200820222080
公开日2009年8月5日 申请日期2008年10月27日 优先权日2008年10月27日
发明者邹光荣 申请人:西安西工大思强科技有限公司