一种秸秆还田系统的制作方法

本发明涉及农业整地、盐碱地防止、秸秆粉碎、还田及改善农耕过程碳汇领域，具体涉及一种秸秆还田技术系统。

背景技术：

秸秆还田是当今世界上普遍重视的一项培肥地力的增产措施，在杜绝了秸秆焚烧所造成的大气污染的同时还有增肥增产作用。但若方法不当，也会导致土壤病菌增加，作物病害加重及缺苗(僵苗)等不良现象。

秸秆还田是把不宜直接作饲料的秸秆(玉米秸秆、高粱秸秆等)直接或堆积腐熟后施入土壤中的一种方法。可改良土壤性质、加速生土熟化、提高土壤肥力。直接耕翻秸秆时，应施加一些氮素肥料，以促进秸秆在土中腐熟，避免分解细菌与作物对氮的竞争。秸秆还田具有促进土壤有机质及氮、磷、钾等含量的增加；提高土壤水分的保蓄能力；改善植株性状，提高作物产量；改善土壤性状，增加团粒结构等优点。秸秆还田增肥增产作用显著，一般可增产5％～10％，但是要达到这样的效果，并非易事。因此采取合理的秸秆还田措施，才能起到良好的还田效果。

然而，现有的秸秆还田机由于粉碎效果不理想、没有系统的还田微生物技术、没有稳定的秸秆还田的所需要的温度湿度条件，运转稳定性较差，不能满足农业需求。于是，现亟需研发一种粉碎效果更好、能够有效提供秸秆还田微生物能量支撑体系、高效秸秆还田、改善农耕过程碳汇效益、工作稳定性更高的秸秆还田技术。

技术实现要素：

本发明所要解决的技术问题是提供一种秸秆还田系统，效率高、寿命长、体积小巧、使用方便、粉碎效果更好、工作稳定性更高。

为解决上述技术问题，本发明采用的技术方案是：

一种秸秆还田系统，在拖拉机尾部固定有秸秆粉碎装置、秸秆原位预混槽和支撑挂件；所述秸秆粉碎装置与秸秆原位预混槽之间连接有第一输送通道，在支撑挂件上固定有用于抚平土壤的复土器，在秸秆原位预混槽下部设置有用于输送粉碎秸秆的第二输送通道；还设置有开沟器，用于切割农耕地表面。

进一步的，所述第一输送通道和第二输送通道是螺旋输送通道。

另一种秸秆还田系统，在拖拉机尾部固定有秸秆原位预混槽和支撑挂件；所述支撑挂件下部固定有V型切刀连接件，V型切刀连接件下部固定有V型切刀；所述秸秆原位预混槽依次通过第二输送通道、第三输送通道连接到V型切刀。

进一步的，所述第二输送通道为螺旋输送通道，所述第三输送通道为钢管通道。

与现有技术相比，本发明的有益效果是：本秸秆还田系统，效率高、寿命长、体积小巧、使用方便、粉碎效果更好、工作稳定性更高、大幅度改善农田过程碳汇效果。

附图说明

图1是本发明一种秸秆还田系统示例图一。

图2是本发明一种秸秆还田系统示例图二。

图中：1-拖拉机；2-秸秆粉碎装置；3-第一输送通道；4-秸秆原位预混槽；5-支撑挂件；6-复土器；7-第二输送通道；8-开沟器；9-农耕地表面；10-第三输送通道；11-V型切刀；12-V型切刀连接件。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细的说明。

实施例1：

本发明提供的一种秸秆还田系统，其结构为：在拖拉机1尾部固定有秸秆粉碎装置2、秸秆原位预混槽4、支撑挂件5，所述秸秆粉碎装置2与秸秆原位预混槽4之间连接有第一输送通道3，在支撑挂件5上固定有用于抚平土壤的复土器6，在秸秆原位预混槽4下部设置有用于输送粉碎秸秆的第二输送通道7，还设置有开沟器8，用于切割农耕地表面9。

实施例2：

本发明提供的一种秸秆还田系统，其结构为：在拖拉机1尾部固定有秸秆粉碎装置2、秸秆原位预混槽4、支撑挂件5，所述秸秆粉碎装置2与秸秆原位预混槽4之间连接有第一输送通道3，在支撑挂件5上固定有用于抚平土壤的复土器6，在秸秆原位预混槽4下部设置有用于输送粉碎秸秆的第二输送通道7，还设置有开沟器8，用于切割农耕地表面9。所述第一输送通道3和第二输送通道7是螺旋输送通道。

实施例3：

本发明提供的一种秸秆还田系统，其结构为：在拖拉机1尾部固定有秸秆原位预混槽4、支撑挂件5，所述支撑挂件5下部固定有V型切刀连接件12，V型切刀连接件12下部固定有V型切刀11，所述秸秆原位预混槽4依次通过第二输送通道7、第三输送通道10连接到V型切刀11。

实施例4：

本发明提供的一种秸秆还田系统，其结构为：在拖拉机1尾部固定有秸秆原位预混槽4、支撑挂件5，所述支撑挂件5下部固定有V型切刀连接件12，V型切刀连接件12下部固定有V型切刀11，所述秸秆原位预混槽4依次通过第二输送通道7、第三输送通道10连接到V型切刀11。所述第二输送通道7为螺旋输送通道，所述第三输送通道10为钢管通道。

可以理解，本发明是通过一些实施例进行描述的，本领域技术人员知悉的，在不脱离本发明的精神和范围的情况下，可以对这些特征和实施例进行各种改变或等效替换。另外，在本发明的教导下，可以对这些特征和实施例进行修改以适应具体的情况及材料而不会脱离本发明的精神和范围。因此，本发明不受此处所公开的具体实施例的限制，所有落入本申请的权利要求范围内的实施例都属于本发明的保护范围。