心花钻石及其亭部结构的制作方法

本实用新型涉及钻石工艺及结构，特别涉及一种心花钻石及其亭部结构。

背景技术：

现有的圆钻加工方法为57个切割面的加工方法，57个切割面的加工方法加工出的钻石的切割面少，光线经钻石透射、折射次数较少，形成的图案较为传统、简单，光芒较为黯淡。现有的钻石切割面形成的图案多为菱形所形成的发散图案，形成的图案虽然也比较丰富，但依然是一种常规化的形状，从而形成的折射效果、得到的光芒都较为黯淡。

技术实现要素：

本实用新型第一个目的是为了克服现有技术的不足，提供一种钻石亭部结构，其能增加钻石的切割面，增加钻石的闪烁度。

本实用新型第二个目的是为了提供一种心花钻石。

为了达到上述目的，本实用新型采用以下技术方案：

作为优选，一种钻石的亭部结构，包括纵向布局的若干底瓣层，所述若干底瓣层包括心形底瓣层及花形底瓣层；所述心形底瓣层包括至少一个瓣面；所述花形底瓣层包括至少一个瓣面。

作为优选，所述心形底瓣层与所述花形底瓣层由下往上依次设置，所述心形底瓣层为位于最底层的底瓣层。

作为优选，所述心形底瓣层包括若干瓣面，所述花形底瓣层包括若干瓣面。

作为优选，还包括箭面底瓣层；所述箭面底瓣层位于所述花形底瓣层以上且与所述花形底瓣层相邻；所述箭面底瓣层包括若干瓣面，所述瓣面为具有锐角的箭形瓣面，所述箭形瓣面的尖头部靠近钻石的腰部。

作为优选，所述心形底瓣层包括若干瓣面，所述心形底瓣层的瓣面的两棱之间的夹角为 29.5～31度；所述花形底瓣层包括若干瓣面，所述花形底瓣层的瓣面的两棱之间的夹角为 37.5～39度。

作为优选，所述心形底瓣层及所述花形底瓣层皆具有以下结构：每层底瓣层皆具有偶数个瓣面；每层底瓣层中，每2个瓣面为一组，各组瓣面的两棱之间的夹角角度不同；每组瓣面中的两个瓣面互为镜像。

作为优选，所述花形底瓣层与所述心形底瓣层皆具有20个瓣面。

作为优选，所述心形底瓣层的横截面的最大直径与所述腰部圆直径的比值为14％-16％；所述花形底瓣层的横截面的最大直径与所述腰部圆直径的比值为33％-37％。

作为优选，所述花形底瓣层与邻接于其上方的底瓣层的交线为若干相同、大致呈弧形的边连接而成。

一种心花钻石，包括钻石主体，所述钻石主体包括冠部、腰部及亭部；所述亭部的结构为所述的钻石的亭部结构。

与现有技术相比，本实用新型具有以下有益效果：

通过以上结构，使钻石表面形成相对于传统数目更为多的切割面数，从而使光线经钻石透射、折射次数较多，形成的图案较为新颖、特别，提高了钻石的闪烁度，发出璀璨光芒。通过心形底瓣层与花形底瓣层相互配合，在钻石的亭部形成心花同体的效果，配合光照产生心花绽放的炫目光学景象，且具有箭形瓣面刻面，使台面观察出心花底瓣层与箭形瓣面层的进行光折射后的绚烂图案；由于钻石为一种光折射物，通过设置心形底瓣层与花形底瓣层配合，实现了光在特定形状的底瓣层的瓣面上的折射且配合向外折射，达到一种新折射的光路。

附图说明

图1是本实用新型所述的心花钻石的结构示意图。

图2是本实用新型所述的心花钻石的底部结构示意图。

图3是本实用新型样品1GEMEX测试数据图；

图4是本实用新型样品2GEMEX测试数据图。

图中：

1—冠部；2—腰部；3—亭部；31—箭面底瓣层；32—心形底瓣层；33—花形底瓣层；34 —基础底瓣层；4—瓣面。

具体实施方式

现结合附图与具体实施例对本实用新型作进一步说明。

本实用新型所述的一种心花钻石，包括钻石主体，钻钻石主体包括冠部1、腰部2及亭部3，冠部1的表面为圆钻冠部基本面。

亭部3包括纵向布局的若干底瓣层，由上至下包括箭面底瓣层31、花形底瓣层33及心形底瓣层32。心形底瓣层32与花形底瓣层33相邻设置，心形底瓣层32为位于最底层的底瓣层。花形底瓣层33与心形底瓣层32的中心重叠。

心形底瓣层32是指与邻接于其上方的底瓣层的交线呈心形的底瓣层。花形底瓣层33是指与邻接于其上方的底瓣层的交线呈花形的底瓣层，作为一种具体的实施例，花形底瓣层33 与邻接于其上方的底瓣层的交线为若干相同、大致呈弧形的边连接而成。

箭面底瓣层31位于花形底瓣层33以上且与花形底瓣层33相邻；箭面底瓣层31包括若干瓣面，瓣面为具有锐角的箭形瓣面，箭形瓣面的尖头部靠近钻石的腰部2。

心形底瓣层32包括若干瓣面，该层的瓣面的两棱之间的夹角为29.5～31度；心形底瓣层 32也可以只有一个瓣面，此时该瓣面即为一个处于立体维度的心形环。花形底瓣层33包括若干瓣面，该层的瓣面的两棱之间的夹角为37.5～39度；心形底瓣层32也可以只有一个瓣面，此时该瓣面即为一个处于立体维度的花形环。

心形底瓣层32的横截面的最大直径与腰部圆直径的比值为14％-16％；花形底瓣层33的横截面的最大直径与腰部圆直径的比值为33％-37％。

作为一种优选方式，心形底瓣层32及花形底瓣层33皆具有以下结构：每层底瓣层皆具有偶数个瓣面；每层底瓣层中，每2个瓣面为一组，各组瓣面的两棱之间的夹角角度不同；每组瓣面中的两个瓣面互为镜像。作为优选，花形底瓣层33与心形底瓣层32具有相同数量的瓣面，两者的瓣面一一对应；且箭面底瓣层31具有的瓣面数量与花形底瓣层33的瓣面数量相同，与花形底瓣层33的瓣面一一对应。

实施例1

一种心花钻石，包括钻石主体，钻钻石主体包括冠部1、腰部2及亭部3，冠部1的表面为圆钻冠部基本面。

亭部3包括纵向布局的4个底瓣层，由上至下包括基础底瓣层34、箭面底瓣层31、花形底瓣层33及心形底瓣层32。心形底瓣层32与花形底瓣层33相邻设置，心形底瓣层32为位于最底层的底瓣层。花形底瓣层33与心形底瓣层32的中心重叠。

花形底瓣层33与邻接于其上方的底瓣层的交线为五个相同、大致呈弧形的边连接而成。箭面底瓣层31位于花形底瓣层33以上且与花形底瓣层33相邻；花形底瓣层33、心形底瓣层32及箭面底瓣层31皆具有20个瓣面。

心形底瓣层32包括若干瓣面，瓣面的两棱之间的夹角为29.5～31度；花形底瓣层33包括若干瓣面，瓣面的两棱之间的夹角为37.5～39度。

心形底瓣层32的横截面的最大直径与腰部圆直径的比值为15％；花形底瓣层33的横截面的最大直径与腰部圆直径的比值为35％。

心形底瓣层32及花形底瓣层33皆具有以下结构：每层底瓣层中，每2个瓣面为一组，各组瓣面的两棱之间的夹角角度不同；每组瓣面中的两个瓣面互为镜像。花形底瓣层33的瓣面与心形底瓣层32的瓣面一一对应，箭面底瓣层31的瓣面与花形底瓣层33的瓣面一一对应。

心形底瓣层32有20个瓣面，心形底瓣层32由心形的中心线分为两半底瓣部，两半底瓣部分别各具有10个瓣面；两半底瓣部的十个瓣面以心形的中心线为对称轴对称。

花形底瓣层33有20个瓣面，以心形底瓣层32的心形中心线将花形底瓣层33为两半底瓣部，两半底瓣部分别各具有10个瓣面；两半底瓣部的十个瓣面以心形的中心线为对称轴对称。

对本实用新型所述的心花钻石进行GEMEX检测，参见图3及图4，得到数据：

样品测试1

样品测试2

从上述数据可见，本实用新型所述的心花钻石在白光等级、火彩等级、闪烁等级的数值都非常高，而且从图中的可见三个指标的示意条的指示块都位于very high的等级，由此可见，本实用新型所述的心花钻石能达到优秀的闪烁度及火彩，得到高质量的钻石成品。

本实用新型所述的心花钻石，圆钻基础冠部1包括51个办面，腰部2分隔冠部1和亭部 3，亭部3包括心形底瓣层32及花形底瓣层33，各具有20个瓣面。本实用新型加工出来的钻石，从亭部观测可见两个中心重叠的双心边，呈现出花形底瓣层上绽放出心形的效果。本实用新型所述的心花钻石能炫目的变化，通过心形底瓣层32及花形底瓣层不同的折射面的角度，可获得不同的光学效果，使得，使得钻石倒影出来的成像更加生动、立体，使心花钻呈现出心花同体且交错，互为交融的图案。使得钻石的切割面得到充分的发挥，利用角度的配比，使得钻石能够在圆钻的基础上呈现出光彩夺目的图形。

本实用新型所述的钻石亭部结构具体如本实用新型所述心花钻石的亭部结构。

本实用新型并不局限于上述实施方式，如果对本实用新型的各种改动或变型不脱离本实用新型的精神和范围，倘若这些改动和变型属于本实用新型的权利要求和等同技术范围之内，则本实用新型也意图包含这些改动和变动。