低含水性软质眼用透镜及其制备方法

低含水性软质眼用透镜及其制备方法
【专利摘要】本发明提供在可大幅减少或规避佩戴时透镜粘附于角膜的现象的同时，可抑制擦洗低含水性软质眼用透镜时的涂布层性能降低的低含水性软质眼用透镜及其制备方法。低含水性软质眼用透镜在含有聚硅氧烷化合物的基底表面的至少一部分具有由亲水性聚合物构成的层，该层内的至少一部分交联。
【专利说明】低含水性软质眼用透镜及其制备方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及低含水性软质眼用透镜及其制备方法。
【背景技术】
[0002]市售的软质眼用透镜的代表性实例有软性接触镜片。市售的软性接触镜片通常使用具有25%左右10%左右的含水率的水凝胶原料。但是，由水凝胶原料构成的含水性软性接触镜片因含有水而产生水由接触镜片蒸发的现象。因此，有一定比例的接触镜片佩戴者感觉比裸眼时有更强的干燥感，有感到不适的情况。其中亦存在诉说有所谓接触镜片干眼症的症状的人。另外，由水凝胶原料构成的含水性软性接触镜片易被泪液中的成分污染，并且由于含有大量的水，所以有细菌繁殖风险。
[0003]另一方面，作为高氧透过性的低含水性软性接触镜片，已知例如向用乙烯基甲基甲硅烷基封闭分子链双末端的聚二甲基硅氧烷与甲基氢聚硅氧烷的混合物中加入钼类催化剂，通过采用模制法加热固化的方法得到的硅酮橡胶透镜(参照专利文献I)。
[0004]另外，在专利文献2飞等中亦记载了以具有多个聚合性官能团的聚硅氧烷为主体的氧透过性高的接触镜片材料。其中，在专利文献6中公开了由2官能团有机硅氧烷大分子单体单独或与其它单体共聚而得的聚合物构成的接触镜片材料，作为用于共聚的单体，公开了丙烯酸氟烷基酯或甲基丙烯酸氟烷基酯和丙烯酸烷基酯或甲基丙烯酸烷基酯。
[0005]但是，在现有的高氧透过性的低含水性软性接触镜片中亦发现以下问题。首先，就硅酮橡胶透镜而言，存在为改善透镜表面的疏水性而施加的亲水化处理层剥离或因弹性过大而发生与角膜的粘附等缺点，无法实现广泛应用。
[0006]另外，以具有多个聚合性官能团的聚硅氧烷为主体的材料因氧透过性高、亦兼具柔软性而被认为是适合 接触镜片的材料之一。但是，由于在聚合后的透镜表面残留粘着性，所以有粘附于角膜的担忧，另外透镜的柔软性与耐弯曲性等机械物性的平衡不足。
[0007]关于将软质眼用透镜的表面改性的方法，已知各种方法，其中已知分层涂布二种以上聚合材料层进行层压的方法(例如参照专利文献疒9)。其中将交替涂布各I层的具有两种相反电荷的聚合物材料的方法称为LbL法等，认为材料的各自的层与不同材料的其它层以非共价键键合。但是，证明此方法的有用性的高氧透过性软质眼用透镜只是由硅酮水凝胶原料构成的透镜，未知对低含水性软质眼用透镜的有用性。另外，现有的LbL涂布以4层~20层左右的多层进行，制备工序延长，有导致制备成本增大之虞。
[0008]另外，关于眼用透镜表面的其它改性方法，在专利文献10中公开了在使特定的氧化乙烯衍生物与透镜接触的状态下照射辐射线，在透镜表面固定的方法。另外，在专利文献11中公开了将眼用透镜浸溃于含有水溶性过氧化物的亲水性化合物溶液中进行接枝聚合的方法。此外，在专利文献12中公开了将水凝胶基底浸溃于高分子化合物的溶液中，照射Y射线的方法。
[0009]但是，在这些专利文献10-12中均完全未公开用以减少或规避在佩戴时粘附于角膜的现象的表面处理。[0010]另一方面，在专利文献13中公开了通过在软质眼用透镜基底表面的至少一部分形成由酸性聚合物和碱性聚合物构成的层(以下称涂布层)，可大幅减少或规避在佩戴时粘附于角膜的现象，并且可通过简便的工艺廉价地制备的软质眼用透镜的制备方法。
[0011]但是，在佩戴2周或佩戴I个月的一次性眼用透镜的情况下，在佩戴过程中或眼用透镜的擦洗过程中，上述涂布层的性能有降低的可能性，认为需要改善。
[0012]先前技术文献 专利文献
专利文献1:日本特开昭54-81363号公报 专利文献2:日本特开昭54-24047号公报 专利文献3:日本特开昭56-51715号公报 专利文献4:日本特开昭59-229524号公报 专利文献5:日本特开平2-188717号公报 专利文献6:日本特开平5-5861号公报 专利文献7:日本特表2002-501211号公报 专利文献8:日本特表2005-538418号公报 专利文献9:日本特表2009-540369号公报 专利文献10:日本特开2005-309228号公报 专利文献11:日本特开2000-10055号公报 专利文献12:日本特开2008-122937号公报 专利文献13:国际公开 第2011/102356号。

【发明内容】

[0013]发明所要解决的课题
本发明鉴于上述情况而实施，其目的在于，提供在可大幅减少或规避佩戴时透镜粘附于角膜的现象的同时，可抑制擦洗时的涂布层性能降低的低含水性软质眼用透镜及其制备方法。另外，本发明的目的在于，通过简便的工艺廉价地制备这样的低含水性软质眼用透镜。
[0014]解决课题的手段
为解决上述课题，达成目的，本发明具有下列组成。
[0015]本发明所涉及的低含水性软质眼用透镜为含有基底的低含水性软质眼用透镜，其特征在于，在该基底表面的至少一部分形成由亲水性聚合物构成的层，至少该层内的一部分交联。
[0016]另外，本发明所涉及的低含水性软质眼用透镜优选具备:形成透镜形状的含硅基底和通过对上述含硅基底实施涂布在上述含硅基底表面的至少一部分形成的由亲水性聚合物构成的层，上述亲水性聚合物含有氮原子，并且不含硅原子，在将上述涂布前的透镜表面的N/Si元素含量比计为X，将上述涂布后、且擦洗前的透镜表面的上述N/Si元素含量比计为Y，进而将擦洗后的透镜表面的上述N/Si元素含量比计为Z时,满足Y-X > 0.05且Z-X ^ 0.04，其中，该N/Si元素含量比为上述氮原子含有率相对于硅原子含有率的比例。
[0017]需说明的是，上述X与“上述基底未实施涂布部分的作为氮原子含有率相对于硅原子含有率的比例的N/Si元素含量比”同义。
[0018]另外，本发明所涉及的低含水性软质眼用透镜优选具备:形成透镜形状的含硅基底和在上述含硅基底表面的至少一部分形成的由亲水性聚合物构成的层，上述亲水性聚合物含有氮原子，并且不含硅原子，在将擦洗前的透镜表面的N/Si元素含量比计为Y，将擦洗后的透镜表面的上述N/Si元素含量比计为Z时,满足Y-Z ≤ 0.05,其中，该N/Si元素含量比为上述氮原子含有率相对于硅原子含有率的比例。
[0019]在上述低含水性软质眼用透镜中，上述亲水性聚合物优选为酸性聚合物和/或碱性聚合物。
[0020]在上述低含水性软质眼用透镜中，优选在上述基底与上述层之间至少一部分交联。
[0021]在上述低含水性软质眼用透镜中，优选上述层内的一部分通过在至少附着有上述酸性聚合物和/或上述碱性聚合物的状态下对上述基底照射辐射线而交联。
[0022]在上述低含水性软质眼用透镜中，其特征在于，上述基底以下列成分A的聚合物或下列成分A和成分B的共聚物为主要成分:成分A:每I分子具有多个聚合性官能团，数均分子量为6000以上的聚硅氧烷化合物；成分B:具有氟烷基的聚合性单体。
[0023]在上述低含水性软质眼用透镜中，优选上述层通过进行I次或2次的利用酸性聚合物溶液的处理和I次或2次的利用碱性聚合物溶液的处理，共进行3次处理而形成。
[0024]在上述低含水性软质眼用透镜中，优选上述层通过进行2次的利用2种酸性聚合物溶液的处理和I次的利用碱性聚合物溶液的处理而形成。
[0025]在上述低含水性软质眼用透镜中，优选形成上述层的至少I种亲水性聚合物为具有选自羟基和酰胺基的基 团的聚合物。
[0026]本发明所涉及的低含水性软质眼用透镜的制备方法的特征在于，依次包括下列工序I~工序4:
〈工序1>
将单体的混合物聚合，得到低含水性软质的透镜形状的成形物的工序；
〈工序2>
在将成形物与碱性聚合物溶液接触后，洗涤除去剩余的该碱性聚合物溶液的工序； 〈工序3>
在将成形物与酸性聚合物溶液接触后，洗涤除去剩余的该酸性聚合物溶液的工序；
<工序4>
对成形物照射辐射线的工序。
[0027]本发明所涉及的低含水性软质眼用透镜的制备方法优选包括:对形成透镜形状的含硅基底，在该含硅基底表面的至少一部分通过涂布形成由酸性聚合物和碱性聚合物构成的层的工序，上述碱性聚合物和酸性聚合物中的至少I种聚合物含有氮原子，并且不含硅原子，在将上述涂布前的透镜表面的N/Si元素含量比计为X，将上述涂布后、且擦洗前的透镜表面的上述N/Si元素含量比计为Y，进而将擦洗后的透镜表面的上述N/Si元素含量比计为Z时，满足Y-X≥0.05且Z-X≥0.04，其中，该N/Si元素含量比为上述氮原子含有率相对于硅原子含有率的比例。
[0028]另外，本发明所涉及的低含水性软质眼用透镜的制备方法优选包括:对形成透镜形状的含硅基底，在该含硅基底表面的至少一部分通过涂布形成由酸性聚合物和碱性聚合物构成的层的工序，上述碱性聚合物和酸性聚合物中的至少I种聚合物含有氮原子，并且不含硅原子，在将上述涂布后的透镜表面的N/Si元素含量比计为Y，进行将擦洗后的透镜表面的上述N/Si元素含量比计为Z时,满足Y-Z ( 0.05,其中该N/Si元素含量比为上述氮原子含有率相对于硅原子含有率的比例。
[0029]在上述低含水性软质眼用透镜的制备方法中，优选上述单体的混合物为含有成分A和成分B的混合物，所述成分A为每I分子具有多个聚合性官能团，数均分子量为6000以上的聚硅氧烷化合物，所述成分B为具有氟烷基的聚合性单体。
[0030]上述低含水性软质眼用透镜的制备方法优选进一步包括在上述涂布后对上述层照射辐射线的工序。
[0031]在上述低含水性软质眼用透镜的制备方法中，优选上述辐射线的照射量为IkGy以上且40kGy以下。
[0032]在上述低含水性软质眼用透镜的制备方法中，优选上述辐射线为Y射线或电子束。
[0033]在上述低含水性软质眼用透镜的制备方法中，优选上述辐射线为照射量为IkGy以上且25kGy以下的Y射线或照射量为IkGy以上且40kGy以下的电子束。
[0034]发明的效果
根据本发明的低含水性软质眼用透镜，可大幅减少或规避在现有低含水性软质眼用透镜中视为问题的佩戴时粘附于角膜的现象。另外，根据本发明的低含水性软质眼用透镜，由于含水量低，所以可降低细菌繁殖风险。另外，根据本发明的优选实施方案，可提供具有高的氧透过性，水润湿性优异，柔软、佩戴感优异，而且耐弯曲性等机械物性优异的低含水性软质眼用透镜。另外，本发明的低含水性软质眼用透镜还具有可通过简便的工艺廉价地制备的优点。另外，本发明的低含水性软质眼用透镜由于在表面的至少一部分形成由亲水性聚合物构成的层，至少该层内的一部分交联，所以具有涂布层的耐久性提高的优点。
【专利附图】

【附图说明】
[0035][图1]图1为测定样品薄膜与人造皮革之间的动摩擦力的装置的示意图。
[0036]实施发明的最佳方式
以下对本发明所涉及的低含水性软质眼用透镜及其制备方法的实施方案进行说明。需说明的是，本发明并不因该实施方案而受到限定。
[0037]在本发明的低含水性软质眼用透镜中，低含水性指含水率为10质量％以下。另外，软质指拉伸弹性模量为IOMPa以下。
[0038]在这里，含水率例如可根据接触镜片形状的试验片在干燥状态下的质量和擦拭由硼酸缓冲液造成的湿润状态的试验片表面水分时的质量(湿润状态下的质量)，通过[K湿润状态下的质量)-(干燥状态下的质量)}/湿润状态下的质量](质量％)求得。
[0039]在本说明书中，湿润状态指将样品在室温(23°C?25°C )的纯水或硼酸缓冲液中浸溃24小时以上的状态。湿润状态下的物性值的测定可在将样品由纯水中或硼酸缓冲液中取出后尽快实施。
[0040]另外，在本说明书中，干燥状态指将湿润状态的样品于40°C真空干燥16小时的状态。该真空干燥的真空度设为2hPa以下。干燥状态下的物性值的测定可在上述真空干燥后尽快实施。
[0041]在本说明书中硼酸缓冲液为日本特表2004-517163号公报的实施例1中记载的“盐溶液”。具体而言为将8.48g的氯化钠、9.26g的硼酸、1.0g的硼酸钠(四硼酸钠十水合物)和0.1Og的乙二胺四乙酸溶于纯水后制成1000mL而得的水溶液。
[0042]本发明的低含水性软质眼用透镜由于为低含水性，所以具有佩戴者的眼睛的干燥感弱、佩戴感优异的特征。另外，本发明的低含水性软质眼用透镜由于为低含水性，所以具有细菌繁殖风险低的优点。含水率更优选5质量％以下，进一步优选2质量％以下，最优选I质量％以下。若含水率过高，则导致眼用透镜佩戴者的眼睛的干燥感增强，或细菌繁殖风险升闻等，故不优 选。
[0043]本发明的低含水性软质眼用透镜的拉伸弹性模量下限优选0.01MPa以上，更优选0.1以上。另一方面，本发明的低含水性软质眼用透镜的拉伸弹性模量上限优选5MPa以下，更优选3MPa以下，进一步优选2MPa以下，更进一步优选IMPa以下，最优选0.6MPa以下。若拉伸弹性模量过小，则过软，操作有变难的趋势。另一方面，若拉伸弹性模量过大，则过硬，佩戴感有变差的趋势。若拉伸弹性模量为2MPa以下，则可得到良好的佩戴感，若为IMPa以下，则可得到更良好的佩戴感，故优选。拉伸弹性模量可使用由硼酸缓冲液造成的湿润状态的样品测定。
[0044]本发明的低含水性软质眼用透镜的拉伸伸长率(断裂伸长率)优选1009^1000%，更优选200%~700%。若拉伸伸长率过小，则低含水性软质眼用透镜易破损，故不优选。当拉伸伸长率过大时，低含水性软质眼用透镜有易变形的趋势，不优选。拉伸伸长率可使用由硼酸缓冲液造成的润湿状态的样品测定。
[0045]眼用透镜优选动态接触角(前进时，浸溃速度:0.lmm/sec)为100°以下，更优选90°以下，进一步优选80°以下。从防止粘附于佩戴者角膜的观点出发，动态接触角优选更低，优选65°以下，更优选60°以下，进一步优选55°以下，更优选50°以下，最优选45°以下。动态接触角可使用由硼酸缓冲液造成的湿润状态的样品，相对于硼酸缓冲液进行测定。
[0046]另外，从防止粘附于佩戴者角膜的观点出发，优选眼用透镜表面的液膜保持时间长。在这里，液膜保持时间为将浸溃于硼酸缓冲液中的眼用透镜由液体中捞出，在空中保持使直径方向垂直时，眼用透镜表面的液膜未破裂而保持的时间。液膜保持时间优选5秒以上，进一步优选10秒以上，最优选20秒以上。在这里，直径为眼用透镜的边缘构成的圆的直径。
[0047]从防止粘附于佩戴者角膜的观点出发，优选眼用透镜的表面具有优异的易滑性。作为表示易滑性的指标，优选通过本说明书的实施例中示出的方法测定的摩擦小。摩擦优选60gf (0.59N)以下，更优选50gf (0.49N)以下，进一步优选40gf (0.39N)以下，最优选30gf (0.29N)以下。另外，若摩擦极小，则脱戴使用时的操作有变难的趋势，所以摩擦优选为5gf (0.049N)以上、优选IOgf (0.098N)以上。摩擦可使用由硼酸缓冲液造成的湿润状态的样品测定。
[0048]眼用透镜的防污性可通过粘蛋白附着、脂质(软脂酸甲酯)附着和人工泪液浸溃试验来评价。通过这些评价得到的附着量越少，不仅佩戴感越优异，而且可降低细菌繁殖风险，故优选。粘蛋白附着量优选5 μ g/cm2以下,更优选4 μ g/cm2以下,最优选3 μ g/cm2以下。
[0049]从来自于大气的对眼用透镜佩戴者眼睛的氧供给的观点出发，低含水性软质眼用透镜优选具有高的氧透过性。氧透过系数[X10_n (cm2/sec) mL02/(mL.hPa)]优选50~2000，更优选100~1500，进一步优选200~1000，最优选300~700。若过度增大氧透过性，则有对机械物性等其它物性产生不良影响的情况，不优选。氧透过系数可使用干燥状态的样品测定。
[0050]本发明的低含水性软质眼用透镜为:含有透镜形状的成形物(以下称为基底)，在该基底表面的至少一部分形成由亲水性聚合物构成的层的低含水性软质眼用透镜，至少该层内的一部分交联。上述亲水性聚合物例如为酸性聚合物和/或碱性聚合物。
[0051]为了具有高的氧透过性和为了与在表面涂布的聚合物之间不通过共价键而得到牢固的粘附性，基底优选含有5质量％以上的硅原子。以下将含有5质量％以上的硅原子的基底称为含硅基底。
[0052]硅原子的含量(质量％)可以干燥状态的基底质量为基准(100质量％)算出。基底的硅原子含有率优选5质量%~36质量％，更优选7质量%~30质量％，进一步优选10质量%~30质量％，最优选12质量%~26质量％。当硅原子的含有率过大时，有拉伸弹性模量增大的情况，不优选。[0053]基底的硅原子含量可通过以下方法测定。在钼坩埚中称取充分干燥的基底，加入硫酸，用热板和燃烧器加热灰化。将灰化物用碳酸钠熔化，加入水，在加热溶解后，加入硝酸，用水定容。针对此溶液，通过ICP发射光谱分析法测定硅原子，求得基底中的含量。
[0054]基底优选以成分A的聚合物或上述成分A和不同于成分A的化合物的共聚物为主要成分，所述成分A为每I分子具有多个聚合性官能团，数均分子量为6000以上的聚硅氧烷化合物，所述不同于成分A的化合物为具有聚合性官能团的化合物。在这里，主要成分指以干燥状态的基底质量为基准(100质量％)含有50质量％以上的成分。在这里，聚硅氧烷化合物为具有以S1-O-S1-O-Si表示的键的化合物。
[0055]在本发明中，亲水性聚合物为满足以下任一条件的聚合物。
[0056](I)在25°C以0.01质量％以上的浓度溶于水的聚合物。其中，在溶解过程中可加热。
[0057](2)在形成涂布层时，在25°C该涂布层的含水率为10质量％以上的聚合物。其中，以该涂布层的干燥质量为基准。在这里，含水率为不包含附着于表面的水的质量的值。
[0058]由于含硅基底含有硅、碳、氧原子等，所以若进行基底表面的元素分析，则可检测出S1、C、0等元素。另一方面，在本发明中为形成涂布层而使用的酸性聚合物和碱性聚合物等亲水性聚合物为有机化合物，至少其中I种聚合物含有氮原子，并且不含硅原子。此外，若使用涂布层的氮元素含有率与含硅基底中含有的氮元素含有率相比增多的聚合物，则进行涂布后，每个单位区域的氮元素含有率增加。此时，可通过氮元素含有率的增加量评价涂布层的附着量。
[0059]上述基底或涂布后的透镜表面的元素分析可利用X射线光电子光谱法(以下简略为XPS)进行。在XPS中，对样品表面照射X射线，通过测定由此产生的光电子的能量，可分析样品的组成元素及其电子状态。更具体而言，若对样品照射X射线，则X射线侵入距样品表面数μ m深的区域，但只有当距样品表面的深度大致为数ηml数十nm的范围时光电子方可逸出。因此，仅可检测出极接近表面产生的光电子。利用该现象，可通过XPS分析纳米级的透镜表面的化学状态。在这里，激发X射线优选Al、Mg，在本发明中使用Al。另外，光电子逸出角度(检测器相对于样品表面的倾斜)设为90°。
[0060]在XPS分析中可得到特定元素含量相对于所检测的全部元素含量的比例。另外，如上所述，可得到距透镜表面数rim深的区域的数据，所以通常检测出的涂布后的硅含量与涂布前的硅含量相比减少。 [0061]因此，当利用氮的增加量单纯比较由涂布导致的亲水性聚合物层的增加量时，若将通过XPS得到的氮元素含有率(%)、硅元素含有率(%)分别计为R(N)、R(Si),则参数R(N)/R(Si)(=氮元素含有率/硅元素含有率)有用。以下将此参数称为N/Si元素含量比。
[0062]在将涂布前的N/Si元素含量比计为X，将涂布后的N/Si元素含量比计为Y时，Y与X之差(Y-X)为作为涂布层的亲水性聚合物的附着量的指标。Y-X优选0.05以上，更优选0.07以上，最优选0.08以上。
[0063]由于涂布前的透镜表面的N/Si元素含量比(X)无法由涂布后的透镜直接测定，所以可用如下测得的值代替。即，首先用锐利且清洁的刃具将涂布后的透镜2等分，露出透镜的截面。此透镜的截面为弓状。接着，通过在该截面的弓状顶点附近且截面厚度方向的中心附近的位置进行N/Si元素含量比的测定，求得X。
[0064]另外，考虑透镜的实际使用条件，将对涂布后的透镜实施按照下述条件进行的规定擦洗后的N/Si元素含量比计为Z时，Z-X为耐擦洗性的指标。Z-X优选0.04以上，更优选0.05以上，最优选0.06以上。
[0065]另外，考虑透镜的实际使用条件，上述涂布后、且擦洗前的透镜表面的N/Si元素含量比(Y)与擦洗后的透镜表面的N/Si元素含量比(Z)之差(Y-Z)优选为0.05以下，更优选为0.04以下，进一步优选为0.03以下，特别优选为0.02以下。
[0066]在这里，表示上述Y-X、Z-X、Y-Z的优选的各自范围的临界值为:测定X、Y、Z至小数点后3位，将利用这些Χ、Υ、Ζ算出的Υ-Χ、Ζ-Χ、Υ-Ζ的小数点后第3位四舍五入求得的值。
[0067]需说明的是，在本发明中硅原子的含量(质量％)以干燥状态的基底质量为基准(100质量％)算出。作为含硅基底的硅元素含量下限，如上所述优选5质量％以上，另外更优选7质量％以上，进一步优选10质量％以上，最优选12质量％以上。另外，作为上限，优选36质量％以下,更优选30质量％以下,最优选26质量％以下。当娃原子的含量过多时，有拉伸弹性模量增大的情况，不优选。
[0068]含硅基底优选以成分A的聚合物或上述成分A和不同于成分A的化合物的共聚物为主要成分，所述成分A为每I分子具有多个聚合性官能团的聚硅氧烷化合物，所述不同于成分A的化合物为具有聚合性官能团的化合物。作为不同于成分A的化合物，优选为以下成分的任意组合:
成分B:具有氟烷基的聚合性单体，
成分M:每I分子具有I个聚合性官能团和硅氧烷基的单官能团单体，
成分C:不同于成分Α、成分B、成分M的成分。
[0069]在这里，主要成分指以干燥状态的基底质量为基准(100质量％)含有50质量％以上的成分。
[0070]成分A的数均分子量优选为6000以上。本发明人发现，由于成分A的数均分子量在此范围内，可得到柔软、佩戴感优异，并且耐弯曲性等机械物性优异的低含水性软质眼用透镜。由于可得到耐弯曲性等机械物性更优异的低含水性软质眼用透镜，所以成分A的聚硅氧烷化合物的数均分子量优选8000以上。成分A的数均分子量优选在8000-100000的范围，更优选在9000-70000的范围，更优选在10000-50000的范围。当成分A的数均分子量过小时，耐弯曲性等机械物性有降低的趋势，尤其是若不足6000，则耐弯曲性降低。当成分A的数均分子量过大时，柔软性或透明性有降低的趋势，不优选。
[0071]由于本发明的低含水性软质眼用透镜为光学制品，所以优选透明性高。作为透明性的标准，优选目视时透明、无浑浊。此外，在用透镜投影仪观察时，眼用透镜优选基本观察不到浑浊，最优选完全观察不到浑浊。 [0072]成分A的分散度(重均分子量除以数均分子量而得的值)优选6以下，更优选3以下，进一步优选2以下，最优选1.5以下。当成分A的分散度小时，与其它成分的互溶性提高，得到的透镜的透明性提高，产生得到的透镜中含有的可提取的成分减少、透镜成形所伴有的伸缩率减小等优点。透镜成形所伴有的伸缩率可通过透镜成形比=[透镜直径]/[模具的空隙部的直径]评价。在这里，直径为透镜的边缘构成的圆的直径。透镜成形比越接近1，越容易稳定制备高品质的透镜。成形比优选0.85^2.0的范围，更优选0.9^1.5的范围，最优选0.9fl.3的范围。
[0073]在本发明中，成分A的数均分子量为通过使用氯仿作为溶剂的凝胶渗透色谱法(GPC法)测定的换算成聚苯乙烯的数均分子量。重均分子量和分散度(重均分子量除以数均分子量而得的值)亦可通过相同的方法测定。另外，对于其它成分，亦可通过相同的方法测定数均分子量、重均分子量和分散度。
[0074]需说明的是，在本说明书中有将重均分子量用Mw、将数均分子量用Mn表示的情况。另外，有时会将分子量1000标记为lkD。例如“Mw33kD”的标记表不“重均分子量为33000”。
[0075]成分A为具有多个聚合性官能团的聚硅氧烷化合物。成分A的聚合性官能团的数量为每I分子2个以上即可，但从易得到更柔软(低弹性模量)的眼用透镜的观点出发，优选每I分子2个。特别优选分子链的双末端具有聚合性官能团的结构。
[0076]作为成分A的聚合性官能团，优选可自由基聚合的官能团，更优选具有碳碳双键的官能团。优选的聚合性官能团的实例为乙烯基、烯丙基、(甲基)丙烯酰基、α-烷氧基甲基丙烯酰基、马来酸残基、富马酸残基、衣康酸残基、巴豆酸残基、异巴豆酸残基和柠康酸残基等。其中因具有高聚合性而最优选(甲基)丙烯酰基。
[0077]需说明的是，在本说明书中(甲基)丙烯酰基的术语表示甲基丙烯酰基和丙烯酰基，(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸酯等术语也相同。
[0078]作为成分Α，优选具有下列式(Al)的结构的化合物:
[化I]
【权利要求】
1.低含水性软质眼用透镜，其为含有基底的低含水性软质眼用透镜，其特征在于， 在所述基底表面的至少一部分形成由亲水性聚合物构成的层，至少所述层内的一部分交联。
2.低含水性软质眼用透镜，其特征在于，具备 形成透镜形状的含硅基底，和 通过对上述含硅基底实施涂布，在上述含硅基底表面的至少一部分形成的由亲水性聚合物构成的层， 上述亲水性聚合物含有氮原子，并且不含硅原子， 在将上述涂布前的透镜表面的N/Si元素含量比计为X，将上述涂布后、且擦洗前的透镜表面的上述N/Si元素含量比计为Y，进而将擦洗后的透镜表面的上述N/Si元素含量比计为Z时，满足Y-X≥0.05且Z-X≥0.04，其中，所述N/Si元素含量比为上述氮原子含有率相对于硅原子含有率的比例。
3.低含水性软质眼用透镜，其特征在于，具备 形成透镜形状的含硅基底，和 在上述含硅基底表面的至少一部分形成的由亲水性聚合物构成的层， 上述亲水性聚合物含有氮原子，并且不含硅原子， 在将擦洗前的透镜表面的N/Si元素含量比计为Y，将擦洗后的透镜表面的上述N/Si元素含量比计为Z时，满足YK 0.05，其中，所述N/Si元素含量比为上述氮原子含有率相对于硅原子含有率的比例。
4.权利要求广3中任一项的低含水性软质眼用透镜，其特征在于，上述亲水性聚合物为酸性聚合物和/或碱性聚合物。
5.权利要求1~4中任一项的低含水性软质眼用透镜，其特征在于，在上述基底与上述层之间至少一部分交联。
6.权利要求1~4中任一项的低含水性软质眼用透镜，其特征在于，上述层内的一部分通过在至少附着有上述亲水性聚合物的状态下对上述基底照射辐射线而交联。
7.权利要求1飞中任一项的低含水性软质眼用透镜，其特征在于，上述基底以下列成分A的聚合物或下列成分A和成分B的共聚物为主要成分: 成分A:每I分子具有多个聚合性官能团，数均分子量为6000以上的聚硅氧烷化合物； 成分B:具有氟烷基的聚合性单体。
8.权利要求广7中任一项的低含水性软质眼用透镜，其特征在于，上述层通过进行I次或2次的利用酸性聚合物溶液的处理和I次或2次的利用碱性聚合物溶液的处理，共进行3次处理而形成。
9.权利要求8的低含水性软质眼用透镜，其特征在于，上述层通过进行2次的利用2种酸性聚合物溶液的处理和I次的利用碱性聚合物溶液的处理而形成。
10.权利要求广3中任一项的低含水性软质眼用透镜，其特征在于，形成上述层的至少I种亲水性聚合物为具有选自羟基和酰胺基的基团的聚合物。
11.低含水性软质眼用透镜的制备方法，其特征在于，依次包括下列工序广工序4: 〈工序1> 将单体的混合物聚合，得到低含水性软质的透镜形状的成形物的工序；<工序2> 在将成形物与碱性聚合物溶液接触后，洗涤除去剩余的所述碱性聚合物溶液的工序； 〈工序3> 在将成形物与酸性聚合物溶液接触后，洗涤除去剩余的所述酸性聚合物溶液的工序； <工序4> 对成形物照射辐射线的工序。
12.低含水性软质眼用透镜的制备方法，其特征在于， 包括对形成透镜形状的含硅基底，在所述含硅基底表面的至少一部分通过涂布形成由酸性聚合物和碱性聚合物构成的层的工序， 上述碱性聚合物和酸性聚合物中的至少I种聚合物含有氮原子，并且不含硅原子， 在将上述涂布前的透镜表面的N/Si元素含量比计为X，将上述涂布后、且擦洗前的透镜表面的上述N/Si元素含量比计为Y，进而将擦洗后的透镜表面的上述N/Si元素含量比计为Z时，满足Y-X≥0.05且Z-X≥0.04，其中，所述N/Si元素含量比为上述氮原子含有率相对于硅原子含有率的比例。
13.权利要求11或12的低含水性软质眼用透镜的制备方法，其特征在于，上述单体的混合物为含有成分A和成分B的混合物，所述成分A为每I分子具有多个聚合性官能团，数均分子量为6000以上的聚硅氧烷化合物，所述成分B为具有氟烷基的聚合性单体。
14.权利要求12的低含水性软质眼用透镜的制备方法，其特征在于，进一步包括在上述涂布后对上述层照射辐射线的工序。
15.权利要求11或14的低含水性软质眼用透镜的制备方法，其特征在于，上述辐射线的照射量为IkGy以上且40kGy以下。
16.权利要求11、14和15中任一项的低含水性软质眼用透镜的制备方法，其特征在于，上述辐射线为Y射线或电子束。
17.权利要求15或16的低含水性软质眼用透镜的制备方法，其特征在于，上述辐射线为照射量为IkGy以上且25kGy以下的Y射线或照射量为IkGy以上且40kGy以下的电子束。
【文档编号】A61F2/14GK103748504SQ201280039912
【公开日】2014年4月23日 申请日期:2012年8月15日 优先权日:2011年8月17日
【发明者】北川瑠美子, 中村正孝, 小笠原觉 申请人:东丽株式会社