1.一种放射治疗装置，包括
主体支架；
治疗臂和治疗头，所述治疗臂的一端固定于所述主体支架的一侧，另一端向外延伸，所述治疗头固定于所述治疗臂的另一端，所述治疗头用于输出射束；
电磁屏蔽单元，至少部分位于所述射束的路径上。
2.如权利要求1所述的放射治疗装置，其特征在于，所述电磁屏蔽单元包括第一区域和第二区域，所述第一区域位于所述射束的路径上，所述第二区域位于所述射束的路径之外。
3.如权利要求2所述的放射治疗装置，其特征在于，所述第一区域的尺寸对应放射治疗装置的最大射野。
4.如权利要求2所述的放射治疗装置，其特征在于，所述电磁屏蔽单元包括导体，用于对电磁波进行屏蔽。
5.如权利要求4所述的放射治疗装置，其特征在于，所述第一区域内，导体之间具有间隔。
6.如权利要求4所述的放射治疗装置，其特征在于，所述第一区域内，导体成网格分布。
7.如权利要求4所述的放射治疗装置，其特征在于，所述第一区域内导体结构与所述第二区域内导体结构不同。
8.如权利要求4所述的放射治疗装置，其特征在于，还包括叉丝，所述导体和所述叉丝错开设置。
9.如权利要求8所述的放射治疗装置，其特征在于，所述叉丝和所述导体集成在透明基底上。
10.如权利要求1所述的放射治疗装置，其特征在于，所述电磁屏蔽单元包括多层不同材料的导体。