硅片预清洗剂的制作方法
【专利摘要】本发明公开了一种硅片预清洗剂，由以下组分按照重量配比份组成：15份~20份的表面活性剂，25份~40份的硝酸，2份~5份的三乙醇胺，2份的柠檬酸，1份的氢氟酸，2份的双氧水，其余为去离子水。本发明得到的硅片预清洗剂，结合有机清洗剂与无机清洗剂的特点，能够有效的去除硅片表面的各种污染物，为硅片的制绒工艺创造了良好的条件，从而提高了太阳能电池片的优质率与效率。
【专利说明】硅片预清洗剂
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种清洗剂，特别是硅片预清洗剂。
【背景技术】
[0002]通常情况下，硅片表面会存在各种污染物，即硅片表面沾污，包括硅表面上沉积的粒子、金属、有机物、湿气分子和自然氧化物等。这些污染物是当硅棒切割成硅片时，由于切割线与硅片磨损产生的金属颗粒、硅颗粒，切割过程中使用的辅助剂、粘合剂残留而形成的。另外在硅片储存、运输的过程中，由于污染物残留在硅片表面的时间过长，污染物发生氧化，氧化污染物强力吸附在硅片表面，通过目前的清洗方式无法彻底清洗干净。这些污染物的存在将会影响后期的加工工艺，使制绒时硅片表面残留的化合物、金属污染物与酸碱残留过多，使硅片表面出现白斑，产生色差现象，降低太阳能电池的转换效率，影响成品率及产品质量。
【发明内容】
[0003]本发明的目的是为了解决上述现有技术的不足而提供一种能有效去除太阳能硅片上的有机物、金属、尘埃及其它颗粒沾污的硅片预清洗剂。
[0004]为了实现上述目的，本发明所设计的硅片预清洗剂，由以下组分按照重量配比份组成:15份~20份的表面活性剂，25份~40份的硝酸，2份~5份的三乙醇胺，2份的柠檬酸，1份的氢氟酸，2份的双氧水，其余为去离子水；所述表面活性剂为十二烷基苯磺酸钠和脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸钠，比例为1:1 ;所述硝酸的浓度为25%，柠檬酸的浓度为5%。
[0005]本发明的硅片预清洗剂的使用方法，包括如下步骤:· (1)用去离子水浸泡清洗硅片，浸泡时间控制在3分钟飞分钟；
(2)采用上述硅片预清洗剂浸泡清洗硅片，浸泡温度为20°C~30°C，浸泡时间为2分钟^4分钟。
[0006]上述浸泡过程中都可以选择在超声波清洗机中进行，从而提高清洁效率。
[0007]下面对本发明做进一步的解释和说明:为了防止硅片表面附着颗粒，则加入适当的表面活性剂，从而使得当活性剂分子被硅片表面吸附时，其极性亲水基会与硅片产生多点吸附，使硅片与颗粒的吸附力不断减弱，最终将整个颗粒从硅片表面分离开，活性剂分子在硅片和颗粒表面形成致密的质点保护层，防止了颗粒与硅片再次吸附；同时螯合剂的加入是为了去除金属污染物，因为螯合剂不仅可以与金属离子形成络合物，而且可以吸附在硅片表面，使金属离子不易在表面吸附和反应。
[0008]另外在该硅片预清洗剂加入硝酸，双氧水和氢氟酸是利用硝酸的强氧化性和强酸性来腐蚀掉硅片表面的胶水、合成蜡、油脂等污染物；通过双氧水与硅片发生反应，在硅片表面形成一层二氧化硅薄层，同时硝酸也能够与硅片反应生成二氧化硅，最后在氢氟酸的作用下，反应生成的二氧化硅薄层不断溶解，吸附在硅片表面的污染物随之从硅片表面剥离落入溶液中。这样不仅完成了硅片的清洗过程，同时为后续的制绒打下了基础。[0009]本发明得到的硅片预清洗剂，结合有机清洗剂与无机清洗剂的特点，能够有效的去除硅片表面的各种污染物，为硅片的制绒工艺创造了良好的条件，从而提高了太阳能电池片的优质率与效率。
【具体实施方式】
[0010]下面结合实施例对本发明进一步说明。
[0011]实施例1:
本发明提供的硅片预清洗剂，由以下组分按照重量配比份组成:15份的表面活性剂，25份的硝酸，2的三乙醇胺，2份的柠檬酸，1份的氢氟酸，2份的双氧水，其余为去离子水；所述表面活性剂为十二烷基苯磺酸钠和脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸钠，比例为1:1 ;所述硝酸的浓度为25%，柠檬酸的浓度为5%。
[0012]本发明的硅片预清洗剂的使用方法，包括如下步骤:
(1)用去离子水浸泡清洗硅片，浸泡时间控制在3分钟飞分钟；
(2)采用上述硅片预清洗剂浸泡清洗硅片，浸泡温度为20°C~30°C，浸泡时间为2分钟^4分钟。
[0013]上述浸泡过程中都可以选择在超声波清洗机中进行，从而提高清洁效率。
[0014]利用本实施例得到的硅片预清洗剂来清洗硅片，不仅能够使得硅片的清洁度达到99%以上，而且可以有效的去除硅片表面的各种污染物，为硅片的制绒工艺创造了良好的条件，从而提闻了太阳能电池片的优质率与效率。
[0015]实施例2:
本实施例提供的硅片预清洗剂，由以下组分按照重量配比份组成:20份的表面活性剂，40份的硝酸，5份的三乙醇胺，2份的柠檬酸，1份的氢氟酸，2份的双氧水，其余为去离子水；所述表面活性剂为十二烷基苯磺酸钠和脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸钠，比例为1:1 ;所述硝酸的浓度为25%，柠檬酸的浓度为5%。
[0016]利用本实施例得到的硅片预清洗剂，其使用方法和上述实施例1相同。另外用其来清洗硅片，也能够使得硅片的清洁度达到99%以上。
【权利要求】
1.一种硅片预清洗剂，其特征在于它由以下组分按照重量配比份组成:15份~20份的表面活性剂，25份~40份的硝酸，2份~5份的三乙醇胺，2份的柠檬酸，1份的氢氟酸，2份的双氧水，其余为去离子水。
2.根据权利要求1所述的硅片预清洗剂，其特征在于:所述表面活性剂为十二烷基苯磺酸钠和脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸钠，比例为1:1。
3.根据权利要求1或2所述的硅片预清洗剂，其特征在于:所述硝酸的浓度为25%，柠檬酸 的浓度为5%。
【文档编号】C11D3/39GK103666784SQ201310620153
【公开日】2014年3月26日 申请日期:2013年11月29日 优先权日:2013年11月29日
【发明者】孙爱玲 申请人:孙爱玲