光敏性组合物、用其制备的障壁以及包含障壁的显示面板的制作方法

专利名称：：光敏性组合物、用其制备的障壁以及包含障壁的显示面板的制作方法
技术领域：
：本发明的各方面涉及光敏性糊状组合物、采用该光敏性糊状组合物制备的等离子体显示面板(PDP)的障壁(barrierrib)、和包括该障壁的PDP。更具体地，本发明的各方面涉及光敏性糊状组合物，其可用于制造具有高分辨率和高精度同时仅需要一次曝光的PDP的障壁的图案和其可用于制造与传统的障壁相比具有更高反射率的障壁，本发明还涉及采用该光敏性糊状组合物制备的PDP的障壁以及包括障壁的PDP。
背景技术：
：在PDP中，障壁是在后面板(或后基板)上形成的结构，用于限定放电空间和防止邻近放电单元之间的电或光串扰。根据PDP的类型，该障壁可具有各种形状(例如，以条纹或矩阵(matrix)的形式)并且可具有各种尺寸(根据宽度和间距的变化)。采用例如丝网印刷法、喷砂法、蚀刻、光刻等在覆盖在PDP的下基板上的地址(address)电极的介电层上形成障壁。当采用丝网印刷法形成障壁时，采用图案化的掩模和刮板(squeegee)将用于印刷的障壁糊状物印刷到基板上，并且干燥以去除溶剂。重复几次该印刷和干燥以获得具有期望厚度的膜。烧结该获得的膜，由此形成障壁。然而，该方法是耗时的，并且由于低分辨率和重复印刷产生的不对准，很难形成均匀图案化的障壁。当采用喷砂法形成障壁时，通过台式涂布机(tablecoater)将障壁糊状物一次印刷到基板上，并干燥以获得具有期望厚度的薄膜。然后将具有耐砂磨性的干燥膜抗蚀剂层压在薄膜上，并且通过曝光和显影而图案化。然后，采用干燥膜抗蚀剂图案作为掩模在高压下进行微磨损(micro-abrasive)喷砂，以获得图案化的膜。去除残留的干燥膜抗蚀剂，和将图案化的膜烧结以完成障壁。尽管与通过丝网印刷形成的障壁相比较，通过喷砂形成的障壁具有更高的分辨率，但是该喷砂方法具有缺点例如工艺复杂和由于与磨砂接触引起损害电极端子的风险。蚀刻是与喷砂相似的方法，不同之处在于采用蚀刻法，通过采用蚀刻溶液图案化烧结的膜形成障壁。采用蚀刻，高分辨率是可能的，但是制造成本高。当采用光刻形成障壁时，如例如在美国专利No.5,209,688中所公开的，将光敏性糊状物印刷并且干燥以形成具有期望厚度的膜。通过配备有光掩模的UV曝光系统将该膜曝光于UV光。将印刷、干燥和曝光重复两次。然后进行显影以选择性地去除未曝光区域，随后烧结，以获得障壁。相对于丝网印刷，光刻可形成具有更高分辨率的障壁，且不像喷砂法，不需要干燥膜抗蚀剂和砂磨处理。然而，传统的光刻法有缺点，包括需要工艺的重复且由于重复工艺产生的不对准的风险。因此，如美国专利No.6,197,480、6,507,148和6,576,391中所公开的，已开发了如下通过一次曝光光刻形成障壁的方法最小化光敏性糊状物中的无机和有机化合物的光折射率之间的差异，以最小化在曝光期间在无机和有机化合物之间的界面处辐射的光的散射和反射。上述专利中描述的大多数方法已被广泛使用。然而，上述专利中描述的方法具有以下问题。首先，为最小化无机化合物和有机化合物的光折射率之间的差异，必须使用在特定范围内具有非典型的光折射率的无机化合物或有机化合物。即，由于通常用于喷砂法、蚀刻等的障壁材料的无机化合物典型地具有1.60-1.80的光折射，和其有机化合物典型地具有1.50-1.60或更小的光折射率，所以利用用于传统的形成障壁工艺的无机化合物和有机化合物不能最小化无机化合物和有机化合物的光折射率之间的差异。因此，由于典型地用于形成障壁的无机化合物具有高光折射率，和典型地用于形成障壁的有机材料具有较低的光折射率，为了最小化无机化合物和有机化合物的光折射率之间的差别，必须开发和使用具有低光折射率的无机材料，或者具有高折射率的有机化合物。其次，已使用或提出的具有高折射率的特定有机材料具有缺点。特别地，含有Br原子的粘合剂是不利的，因为该材料可对人体有害。此外，因为昂贵，含S单体是不利的。第三，在喷砂法、蚀刻等中，为了保持障壁的形状和提高障壁反射率或在烧结工艺中使障壁着色，以预定量使用粉末例如氧化钛、氧化铝、二氧化硅、氧化锆、氧化钇、氧化镁、氧化锌、氧化锰、氧化铁、氧化锡、氧化铜、氧化铅等。然而，在上述专利申请中公开的涉及一次曝光光刻的方法中，不能使用具有这样组分的粉末。这是因为具有这样组分的粉末具有非常高的光折射率，且由此不能最小化有机化合物和该粉末之间的光折射率的差异。该粉末干扰在曝光期间辐射的紫外线的透射率，使得障壁不能通过一次曝光形成。由于这些问题，具有上述专利申请中使用具有高熔点和低光折射率且对于紫外线是透明的玻璃代替通常使用的具有上述组分的粉末。结果，采用上述专利中公开的方法制备的障壁具有低反射率。因此，当PDP工作时发出的可见光线的反射率降低，导致与采用喷砂法或蚀刻制备的障壁相比，亮度降低更多。因此，为补偿这些缺点，使用补偿降低的亮度的方法，通过使障壁的宽度比采用其它方法制备的障壁窄，且因此，涂布有磷光体的面积最大化。最后，采用在上述专利中公开的方法制备的障壁与采用其它方法制备的障壁相比较具有较高的膜的表面粗糙度。原因如下为通过一次曝光形成障壁，在曝光期间辐射的紫外线必须到达底表面。为使这变得可能，不仅必须最小化无机化合物和有机化合物的光折射率的差异，而且必须使用与在其它方法(砂磨或蚀刻)中使用的相比较具有相对较大粒径的无机化合物。此外，在显影过程中通过显影液一点一点地去除曝光以固化的部分的表面，因此表面变得粗糙。粗糙的表面在烧结之后趋于保持它的形状，尽管它取决于烧结的程度。因此，最后制备的障壁与采用其它方法制备的障壁相比具有较高的表面粗糙度。当障壁的膜变粗糙时，对于可见光线的反射效率降低，因此除了亮度降低之外，还引发放电单元之间的串扰，且面板的断裂强度降低或可产生由上和下基板的振荡导致的噪音。为提高障壁的反射率以克服上述专利的问题，日本专利公开No.1999-102645公开了采用预定量的二氧化钛、氧化铝、氧化锆或二氧化硅粉末的方法。然而，当使用这些组分时，这些组分和有机化合物之间光折射率的差异增加，或不能透射辐射的紫外线，因此曝光敏感度显著降低。因此，具有期望形状的障壁不能通过一次曝光制备。此外，日本专利公开No.2000-290040描述了使用5-80nm的二氧化钛、氧化铝、二氧化硅、氧化锆、氧化钇等。而且，日本专利公开No.2004-318116公开了通过添加5-80nm的二氧化钛、氧化铝、二氧化硅、氧化锆、氧化钇、氧化镁、氧化锌、氧化锰、氧化铁、氧化锡、氧化铜或氧化铅来提高障壁的反射率的方法。当使用具有与在曝光期间辐射的光波长相比的非常小直径的颗粒时，该颗粒不导致对于光的散射、反射等，和导致有机化合物的光折射率增加，以及不需要使用具有低折射率的无机化合物和具有高折射率的有机化合物。然而，当通过简单添加上述5-80nm的粒状组分、混合、3-辊研磨等制备障壁时，该粒状分不以单独的颗粒状态分散在糊状物中且变得彼此聚集。因此，日本专利公开No.2000-290040中公开的方法具有与日本专利公开No.1999-102645中示出的方法相似的问题。日本专利公开No.2002-122985公开了采用含金属氧化物溶胶的光敏性糊状物制备PDP障壁的方法。然而，忽视金属氧化物溶胶组分影响有机化合物折射率的事实，且不顾金属氧化物溶胶的折射率，仅意在最小化有机化合物和无机化合物之间折射率的差异。因此，该方法仍具有与上述的美国专利No.6,197,480、6,507,148和6,576,391所示的相同问题。
发明内容本发明的一方面提供光敏性糊状组合物，其可用于形成具有高分辨率和高精度的等离子体显示面板(PDP)的障壁。该障壁可以包括仅曝光一次光敏性糊状物的方法形成。该光敏性糊状组合物提供具有比传统障壁高的反射率的障壁。根据本发明的一方面，提供光敏性糊状组合物，其包含金属氧化物溶胶和无机材料，其中金属氧化物溶胶的平均光学折射率(N1)和无机材料的平均光学折射率(N2)满足以下的方程式1方程式1-0.2≤N1-N2≤0.2根据本发明的另一方面，提供一种采用该光敏性糊状组合物制备的PDP的障壁。根据本发明的另一方面，提供一种包含该障壁的PDP。根据本发明的另一方面，提供形成等离子体显示面板的障壁的方法，该方法包括利用光敏性糊状组合物涂布基板，该组合物包含金属氧化物溶胶材料和无机材料，该溶胶材料包含分散在有机混合物中的金属氧化物，其中金属氧化物溶胶的平均光学折射率(N1)和无机材料的平均光学折射率(N2)满足下面方程式1方程式1-0.2≤N1-N2≤0.2；通过光敏性糊状组合物的光刻在基板上形成障壁图案；和焙烧在其上形成有障壁图案的基板以形成障壁。根据本发明的另一方面，提供包括至少一个障壁的等离子体显示面板，其中至少一个障壁如下形成用光敏性糊状组合物涂布基板，该组合物包含包括分散在有机混合物中的金属氧化物的金属氧化物溶胶材料和无机材料，其中金属氧化物溶胶的平均光学折射率(N1)和无机材料的平均光学折射率(N2)满足下面方程式1方程式1-0.2≤N1-N2≤0.2；通过光敏性糊状组合物的光刻在基板上形成障壁图案；和焙烧在其上形成有障壁图案的基板以形成至少一个障壁。本发明的另外的方面和/或优点将部分地在随后的说明书中阐述，和部分地从说明书中显而易见，或可通过实践本发明而了解。结合以下附图从以下实施方案的描述，本发明的这些和/或其它方面以及优点将变得明晰和更容易理解，其中图1是根据本发明的实施方案的PDP的部分分解透视图。具体实施例方式现在详细参见本发明的实施方案，在附图中说明其实施例，其中通篇相同的附图标记表示相同的元件。下面通过参见附图描述该实施方案以说明本发明。现在更详细描述本发明的各方面。本发明的各方面提供光敏性糊状组合物，其包含金属氧化物溶胶和无机材料，其中金属氧化物溶胶的平均光学折射率(N1)和无机材料的平均光学折射率(N2)满足下面方程式1方程式1-0.2≤N1-N2≤0.2不像传统的光敏性糊状组合物，该光敏性糊状组合物含有金属氧化物溶胶。该金属氧化物溶胶为溶胶-状态材料，其中具有几到几十nm的直径的金属氧化物分散在有机混合物中。该金属氧化物以稳定态分散在有机混合物中，其中不出现例如凝聚或沉淀的现象。该金属氧化物溶胶可与无机材料组合使用。采用含金属氧化物溶胶的光敏性糊状组合物制备的障壁具有比传统的光敏性障壁高的反射率，且因此提供增加的亮度，起到支持体的作用以使障壁的形状在烧结工艺中不变形，并提供增加的障壁的紧密度(compactness)，由此降低它的表面粗糙度。金属氧化物溶胶的金属组分可以是，但不限于，选自Si、Ti、Al、Zr、Ta、Ge、Y、Zn等的至少一种金属组分。通常如下制备金属氧化物溶胶采用水解和缩合(condensation)，由醇盐或卤化物化合物制备金属氧化物前体，且将制备的金属氧化物前体分散在有机混合物中。在此，在制备金属氧化物前体的过程中，可自由地额外引入表面改性剂。在金属氧化物前体的制备中，通过水解和缩合的程度确定金属氧化物的平均粒径。作为非限制的实例，该金属氧化物可优选具有1-60nm的平均粒径。作为更具体的非限制性实例，该金属氧化物可具有2-40nm的平均粒径。作为还更具体的非限制性实例，该金属氧化物可具有4-20nm的平均粒径。当金属氧化物的平均粒径小于1nm时，其制备困难且金属氧化物很难均匀分散在有机混合物中。当金属氧化物的平均粒径大于60nm时，曝光时该金属氧化物散射光，且因此干扰光透射率。金属氧化物前体的金属氧化物的平均光折射率可在1.3-3.0的范围内。通过在有机混合物中分散金属氧化物前体制备的金属氧化物溶胶的平均光折射率可在1.4-2.0的范围内。当金属氧化物前体和金属氧化物溶胶的平均光折射率不在这些范围内时，难以制备折射率在上述方程式1中给定的折射率范围内的光敏性糊状组合物。术语“金属氧化物溶胶的平均光折射率”指的是无溶剂存在时测量的平均光折射率。采用光折射率测量装置，通过将金属氧化物溶胶涂布到透明膜或玻璃基板上，并然后在80-100℃范围内的温度下干燥该涂布的金属氧化物溶胶几到几十分钟，来测量金属氧化物溶胶的光折射率。此外，在通过将金属氧化物前体分散在有机混合物中来制备金属氧化物溶胶中，相对于100体积份的有机混合物，金属氧化物的量可以为5-50体积份。当相对于100体积份的有机混合物，金属氧化物的量小于5体积份时，障壁的反射率的增加不大。当相对于100体积份的有机混合物，金属氧化物的量大于50体积份时，当曝光金属氧化物溶胶时交联反应不充分地进行，因此该障壁不能具有期望的形状。当金属氧化物溶胶与无机材料混合时，考虑两种混合比。一种是金属氧化物溶胶和无机材料的折射率的混合比。特别地，作为非限制性实例，金属氧化物溶胶和无机材料的折射率值可以满足上述给定的方程式1。作为更具体的非限制性的实例，金属氧化物溶胶和无机材料的折射率值可满足下面方程式2。作为还更具体的非限制性的实例，金属氧化物溶胶和无机材料的折射率值可满足下面方程式3。方程式2-0.1≤N1-N2≤0.1方程式3-0.05≤N1-N2≤0.05其中N1和N2的每个与方程式1中定义的相同。当金属氧化物溶胶和无机材料的折射率之间的关系在方程式1所给定的范围之外时，曝光期间辐射的光的透射率降低使得不能一次曝光形成障壁。当金属氧化物溶胶和无机材料的折射率之间的关系在上述的方程式3的范围内时，曝光敏感性极好，且辐射光的散射降低使得障壁图案的平直度(straightness)也极好。当确定金属氧化物溶胶与无机材料的混合比时，还应该考虑相对于光敏性糊状组合物中的无机材料，金属氧化物溶胶中的金属氧化物的量。作为非限制性的实例，相对于100体积份的无机材料，金属氧化物的量可以为3-30体积份。作为更具体的非限制性的实例，相对于100体积份的无机材料，金属氧化物的量可以为5-20体积份。当相对于100体积份的无机材料，金属氧化物的量小于3体积份时，障壁的反射率的增加不大。当相对于100体积份的无机材料，金属氧化物的量大于30体积份时，无机材料不能充分烧结，因此障壁的紧密度降低。金属氧化物和无机材料的平均热膨胀系数α可满足下面方程式4。方程式4基板的热膨胀系数×0.9≤α≤基板的热膨胀系数当金属氧化物和无机材料的平均热膨胀系数在方程式4的范围之外时，在严重的情况下，在烧结之后基板弯曲或断裂。根据本发明的各方面所使用的光敏性糊状组合物的无机材料可具有1.5-1.8的平均光折射率。当无机材料的平均光折射率在该范围之外时，无机材料的光折射率和金属氧化物溶胶的光折射率之间的差异太大，使得不能通过一次曝光形成障壁。该无机材料含有具有低熔点的玻璃粉和具有高熔点的玻璃粉。在烧结过程中烧结无机材料的具有低熔点的玻璃粉，由此形成致密的障壁膜，和在烧结过程中具有高熔点的玻璃粉保持障壁膜的形状。不具体限制具有低熔点的玻璃粉的颗粒形状，但是作为非限制性的实例，可以是球形或几乎是球形。具有低熔点的玻璃粉的颗粒形状越接近球形，对于填充比和紫外线透射率的特性改善越多。具有低熔点的玻璃粉的平均粒径可具有2-5μm的平均值D50，0.1μm的最小值Dmin和20μm的最大值Dmax。当平均值D50小于2μm，或最小值Dmin小于0.1μm时，具有低熔点的玻璃粉的分散性降低，使得印刷性能恶化，和在烧结过程中其收缩比高，使得不能获得具有期望形状的障壁。当平均值D50大于5μm，或最大值Dmax大于20um时，障壁的紧密度和平直度降低。具有低熔点的玻璃粉的软化温度Ts可满足下面方程式5。方程式5烧结温度-80℃＜Ts＜烧结温度当具有低熔点的玻璃粉的软化温度小于烧结温度减去80℃时，在烧结过程中障壁的形状变形。当具有低熔点的玻璃粉的软化温度大于烧结温度时，烧结不能充分进行。相对于100体积份的无机材料，具有低熔点的玻璃粉的量可以为70-100体积份。当相对于100体积份的无机材料，具有低熔点的玻璃粉的数量小于70体积份时，烧结不能充分进行。具有低熔点的玻璃粉的实例包括，但不限于，包含选自以下的至少三种氧化物的复合氧化物Pb、Bi、Si、B、Al、Ba、Zn、Mg、Ca、P、V、Mo、Te等的氧化物。具有低熔点的玻璃粉可单独使用或与两种复合氧化物组合使用。更具体地，具有低熔点的玻璃粉可包括选自PbO-B2O3基玻璃、PbO-SiO2-B2O3基玻璃、Bi2O3-B2O3基玻璃、Bi2O3-SiO2-B2O3基玻璃、SiO2-B2O3-A12O3基玻璃、SiO2-B2O3-BaO基玻璃、SiO2-B2O3-CaO基玻璃、ZnO-B2O3-Al2O3基玻璃、ZnO-SiO2-B2O3基玻璃、P2O5基玻璃、SnO-P2O5基玻璃、V2O5-P2O5基玻璃、V2O5-Mo2O3基玻璃和V2O5-P2O5-TeO2基玻璃的化合物。不具体限制具有高熔点的玻璃粉的颗粒形状，但是作为非限制性的实例，可以是球形或几乎是球形。具有高熔点的玻璃粉的颗粒形状越接近球形，对于填充比和紫外线透射率的特性改善越多。具有高熔点的玻璃粉的平均粒径可具有1-4μm的平均值，0.1μm的最小值和20μm的最大值。当平均值小于1μm，或最小值小于0.1μm时，曝光敏感性降低和在烧结过程中收缩比高使得不能获得具有期望形状的障壁。当平均值大于5μm，或最大值大于20um时，障壁的紧密度和平直度降低。具有高熔点的玻璃粉的软化温度Ts可满足下面方程式6。方程式6Ts＞烧结温度+20℃当具有高熔点的玻璃粉的软化温度小于烧结温度+20℃时，在烧结过程中障壁的形状变形。相对于100体积份的无机材料，具有高熔点玻璃粉的量可以为0-30体积份。当相对于100体积份的无机材料，具有高熔点玻璃粉的量大于30体积份时，烧结不能充分进行。具有高熔点玻璃粉的实例包括，但不限于，包含选自以下的至少三种氧化物的复合氧化物Si氧化物、B氧化物、Al氧化物、Ba氧化物、Zn氧化物、Mg氧化物、Ca氧化物等。具有高熔点的玻璃粉可单独使用或与两种复合氧化物组合使用。更具体地，具有高熔点的玻璃粉可包括选自SiO2-B2O3-BaO基玻璃、SiO2-B2O3-CaO基玻璃、SiO2-B2O3-MgO基玻璃、SiO2-B2O3-CaO-BaO基玻璃、SiO2-B2O3-CaO-MgO基玻璃、SiO2-Al2O3-BaO基玻璃、SiO2-Al2O3-CaO基玻璃、SiO2-Al2O3-MgO基玻璃、SiO2-Al2O3-BaO-CaO基玻璃、SiO2-Al2O3-CaO-MgO基玻璃等的化合物。如上述具有低熔点的玻璃粉和具有高熔点的玻璃粉的平均光折射率可以在1.5-1.8的范围内。此外，具有低熔点的玻璃粉的折射率N3和具有高熔点玻璃粉的折射率N4之间的差可满足下面方程式7。作为具体的非限制性实例，具有低熔点的玻璃粉的折射率N3和具有高熔点的玻璃粉的折射率N4之间的差可满足下面方程式8。作为具体的非限制性实例，具有低熔点的玻璃粉的折射率N3和具有高熔点玻璃粉的折射率N4之间的差可满足下面方程式9。方程式7-0.2≤N3-N4≤0.2方程式8-0.1≤N3-N4≤0.1方程式9-0.05≤N3-N4≤0.05当具有低熔点的玻璃粉和具有高熔点的玻璃粉的光折射率之间的差在方程式7的范围之外时，曝光期间辐射的光的透射率降低使得不能通过一次曝光形成障壁。根据本发明的各方面所使用的有机混合物包括粘合剂、光引发剂和交联剂。此外，该有机混合物可包括用于添加剂的溶剂，其用于改善糊状物的性质和调节粘度等。对于粘合剂，一般使用具有羧基的基于丙烯酰基的树脂，其使在碱性显影液中显影成为可能且根据组分组合改变的特性调节容易。具有羧基的基于丙烯酰基的树脂使在碱性水溶液中进行显影成为可能，使无机组分在光敏性糊状组合物中分散变得更容易，且提供适当的粘度和弹性。可通过具有羧基的单体和具有乙烯不饱和基团的单体的共聚制备具有羧基的基于丙烯酰基的树脂。作为非限制性实例，具有羧基的单体可以为选自以下的至少一种丙烯酸、甲基丙烯酸、富马酸、马来酸、乙烯基乙酸、和其酐。作为具体的非限制性实例，具有乙烯不饱和基团的单体可以是选自以下的至少一种(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸异丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸仲丁酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸正戊酯、(甲基)丙烯酸烯丙基酯、(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸丁氧基乙酯、(甲基)丙烯酸丁氧基三甘醇酯、(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸二环戊基酯、(甲基)丙烯酸二环戊烯基酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸甘油酯、(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、(甲基)丙烯酸异冰片酯、(甲基)丙烯酸异癸酯、(甲基)丙烯酸异辛酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、(甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸甲氧基乙二醇酯、(甲基)丙烯酸甲氧基二甘醇酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸硬脂基酯、(甲基)丙烯酸1-萘基酯、(甲基)丙烯酸2-萘基酯、(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羟基丙酯、(甲基)丙烯酸氨基乙酯、苯乙烯、α-甲基苯乙烯、α-2-二甲基苯乙烯、3-甲基苯乙烯、4-甲基苯乙烯等。此外，可以将可交联基团进一步添加到粘合剂中，该可交联基团可引起具有羧基的单体和烯属不饱和单体之间的交联反应。作为非限制性实例，该烯属不饱和单体可选自丙烯酰氯、甲基丙烯酰氯、烯丙基氯、丙烯酸缩水甘油酯、甲基丙烯酸缩水甘油酯、丙烯酸3，4-环氧环己基甲酯、甲基丙烯酸3，4-环氧环己基甲酯等。该共聚物可单独用作粘合剂。然而，为了增强有机混合物的膜流平性和/或触变性，该共聚物可与增强膜流平性和/或触变性的试剂混合。作为非限制性实例，该共聚物可以与选自以下的至少一种混合纤维素、甲基纤维素、乙基纤维素、正丙基纤维素、羟乙基纤维素、2-羟乙基纤维素、甲基-2-羟乙基纤维素、羟基丙基纤维素、羟基丙基甲基纤维素、羟基丁基甲基纤维素、羟基丙基甲基纤维素邻苯二甲酸酯、硝酸纤维素、醋酸纤维素、三乙酸纤维素、乙酸丁酸纤维素、乙酸氢邻苯二甲酸纤维素(celluloseacetatehydrogenphthalate)、乙酸丙酸纤维素、丙酸纤维素、乙酸丙酸(丙烯酰氨基甲基)纤维素、乙酸丁酸(丙烯酰氨基甲基)纤维素、氰乙基化物(cyanoethylate)纤维素、果胶酸、脱乙酰壳多糖、壳多糖、羧甲基纤维素、羧甲基纤维素钠盐、羧乙基纤维素和羧乙基甲基纤维素。该共聚物可具有500-100,000g/mol的重均分子量和50-300mgKOH/g的酸值。如果该共聚物的重均分子量小于500g/mol，那么糊状物中无机材料的分散性降低。如果该共聚物的重均分子量大于100,000g/mol，那么显影速度太低或显影不能进行。此外，如果该共聚物的酸值小于50mgKOH/g，那么显影性能恶化。如果该共聚物的酸值大于300mgKOH/g，甚至曝光区也可以显影。相对于100重量份的有机混合物，粘合剂的量可以为30-80重量份。当相对于100重量份的有机混合物，粘合剂的量小于30重量份时，糊状物的涂布性能和分散性降低。当相对于100重量份的有机混合物，粘合剂的量大于80重量份时，曝光期间不能充分进行交联反应，因此不能获得具有期望形状的图案。当曝光，例如，曝光于通过曝光设备辐射的光时，光引发剂产生自由基，且产生的自由基引发具有乙烯不饱和基团的交联剂的聚合反应以产生不溶于显影溶液的产物。由于光引发剂需要高敏感性，可将以下的光引发剂的至少两种组合。光引发剂的实例包括，但不限于，(i)基于咪唑的化合物，(ii)基于三嗪的化合物，(iii)基于氨基苯乙酮的化合物，(iv)基于二苯甲酮和苯乙酮的化合物，(v)基于苯偶姻的化合物，(vi)基于二茂钛的化合物，(vii)基于二唑的化合物，(viii)基于噻吨酮的化合物，(ix)基于(双)酰基氧化膦的化合物和(x)有机硼盐化合物的组合。作为非限制性的实例，基于咪唑的化合物可以为2，2′-双(邻-氯苯基)-4，4′，5，5′-四苯基-1，2′-二咪唑(biimidazole)、2，2′-双(邻-溴苯基)-4，4′，5，5′-四苯基-1，2′-二咪唑、2，2′-双(邻-氯苯基)-4，4′，5，5′-四(邻，对-二氯苯基)-1，2′-二咪唑、2，2′-双(邻，对-二氯苯基)-4，4′，5，5′-四(邻，对-二氯苯基)-1，2′-二咪唑、2，2′-双(邻-氯苯基)-4，4′，5，5′-四(间-甲氧基苯基)-1，2′-二咪唑、2，2′-双(邻-甲基苯基)-4，4′，5，5′-四苯基-1，2′-二咪唑等。作为非限制性的实例，基于三嗪的化合物可以为2，4，6-三(三氯甲基)-s-三嗪、2，4，6-三(三溴甲基)-s-三嗪、2-丙酰基-4，6-双(三氯甲基)-s-三嗪、2-苯甲酰基-4，6-双(三氯甲基)-s-三嗪、2-(4-氯苯基)-4，6-双(三氯甲基)-s-三嗪、2-4-双(4-甲氧基苯基)-6-三氯甲基)-s-三嗪、2-(4-甲氧基苯基)-4，6-双(三氯甲基)-s-三嗪、2-(4-甲氧基苯乙烯基)-4，6-双(三氯甲基)-s-三嗪、2-(4-氯苯乙烯基)-4，6-双(三氯甲基)-s-三嗪、2-(4-氨基苯基)-4，6-双(三氯甲基)-s-三嗪、2，4-双(3-氯苯基)-6-三氯甲基-s-三嗪、2-(4-氨基苯乙烯基)-4，6-双(二氯甲基)-s-三嗪等。作为非限制性的实例，基于氨基苯乙酮的化合物可以为2-甲基-2-氨基(4-吗啉代苯基)乙烷-1-酮、2-乙基-2-氨基(4-吗啉代苯基)乙烷-1-酮、2-丙基-2-氨基(4-吗啉代苯基)乙烷-1-酮、2-丁基-2-氨基(4-吗啉代苯基)乙烷-1-酮、2-甲基-2-氨基(4-吗啉代苯基)丙烷-1-酮、2-甲基-2-氨基(4-吗啉代苯基)丁烷-1-酮、2-乙基-2-氨基(4-吗啉代苯基)丙烷-1-酮、2-乙基-2-氨基(4-吗啉代苯基)丁烷-1-酮、2-甲基-2-甲基氨基(4-吗啉代苯基)丙烷-1-酮、2-甲基-2-二甲基氨基(4-吗啉代苯基)丙烷-1-酮、2-甲基-2-二乙基氨基(4-吗啉代苯基)丙烷-1-酮等。作为非限制性的实例，基于二苯甲酮和苯乙酮的化合物可以为二苯甲酮、4-甲基二苯甲酮、2，4，6-三甲基二苯甲酮、邻-苯甲酰基苯甲酸甲酯、4-苯基二苯甲酮、3，3′-二甲基-4-甲氧基二苯甲酮、4-苯甲酰基-4′-甲基二苯硫醚、4，4′-双(N，N-二甲基氨基)二苯甲酮、4，4′-双(N，N-二乙基氨基)二苯甲酮、3，3′，4，4′-四(叔丁基过氧羰基)二苯甲酮、(2-丙烯酰氧乙基)(4-苯甲酰基苄基)二甲基溴化铵、4-(3-二甲基氨基-2-羟基丙基)二苯甲酮、(4-苯甲酰基苄基)三甲基氯化铵、甲氯化物一水合物、二乙氧基苯乙酮、2-羟基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、1-(4-异丙基苯基)-2-甲基丙烷-1-酮、1-羟基环己基苯基酮、4-叔丁基-三氯苯乙酮等。作为非限制性的实例，基于苯偶姻的化合物可以为苯偶姻、苯偶姻甲醚、苯偶姻乙醚、苯偶姻异丙醚、苯偶姻异丁醚等。作为非限制性的实例，基于二茂钛的化合物可以为二环戊二烯基-Ti-二氯化物、二环戊二烯基-Ti-二苯基、二环戊二烯基-Ti-双(2，3，4，5，6-五氟苯基)、二环戊二烯基-Ti-双(2，3，5，6-四氟苯基)、二环戊二烯基-Ti-双(2，4，6-三氟苯基)、二环戊二烯基-Ti-双(2，6-二氟苯基)、二环戊二烯基-Ti-双(2，4-二氟苯基)、双(甲基环戊二烯基)-Ti-双(2，3，4，5，6-五氟苯基)、双(甲基环戊二烯基)-Ti-双(2，3，5，6-四氟苯基)、双(甲基环戊二烯基)-Ti-双(2，4，6-三氟苯基)、双(甲基环戊二烯基)-Ti-双(2，6-二氟苯基)、双(甲基环戊二烯基)-Ti-双(2，4-二氟苯基)等。作为非限制性的实例，基于二唑的化合物可以为2-苯基-5-三氯甲基-1，3，4-二唑、2-(对-甲基苯基)-5-三氯甲基-1，3，4-二唑、2-(对-甲氧基苯基)-5-三氯甲基-1，3，4-二唑、2-苯乙烯基-5-三氯甲基-1，3，4-二唑、2-(对-甲氧基苯乙烯基)-5-三氯甲基-1，3，4-二唑、2-(对-丁氧基苯乙烯基)-5-三氯甲基-1，3，4-二唑等。作为非限制性的实例，基于噻吨酮的化合物可以为噻吨酮、2，4-二乙基噻吨酮、异丙基噻吨酮、2，4-二异丙基噻吨酮、2-氯噻吨酮、1-氯-4-丙氧基噻吨酮、2-(3-二甲基氨基-2-羟基丙氧基)-3，4-二甲基-9H-噻吨酮-9-酮甲氯化物等。作为非限制性的实例，基于(双)酰基氧化膦的化合物可以为2，4，6-三甲基苯甲酰基二苯基氧化膦；双(2，6-二甲氧基苯甲酰基)-2，4，4-三甲基戊基氧化膦、双(2，6-二氯苯甲酰基)苯基氧化膦、双(2，6-二氯苯甲酰基)-2，5-二甲基苯基氧化膦氧化物、双(2，4，6-三甲基苯甲酰基)苯基氧化膦等。作为非限制性的实例，该有机硼盐化合物可以为下式1表示的有机季硼盐化合物式1其中R1、R2、R3和R4各自独立为烷基、芳基、芳烷基、烯基、炔基、甲硅烷基、杂环基、或卤原子，其如果需要可具有取代基，和Z+表示任意正离子。该有机硼盐化合物含有有机季硼负离子和正离子Z+。在式1中，R1、R2、R3和R4各自独立为烷基、芳基、芳烷基、烯基、炔基、甲硅烷基、杂环基、或卤原子，且这些基团如果需要可具有取代基。作为非限制性的实例，该取代基可以为甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、异丁基、叔丁基、正辛基、正十二烷基、环戊基、环己基、苯基、甲苯基、二甲苯基、甲氧苯基、联苯基、二苯基甲基、甲氧基、乙氧基、正丙氧基、异丙氧基、正丁氧基、仲丁氧基、异丁氧基、叔丁氧基、亚甲二氧基、亚乙二氧基、苯氧基、萘氧基、苄氧基、甲硫基、苯硫基、2-呋喃基、2-噻吩基、2-吡啶基、硼基等。作为非限制性的实例，有机硼盐化合物的有机季硼负离子可以为甲基三苯基硼酸根、正丁基三苯基硼酸根、正辛基三苯基硼酸根、正十二烷基三苯基硼酸根、仲丁基三苯基硼酸根、叔丁基三苯基硼酸根、苄基三苯基硼酸根、正丁基三(对-甲氧苯基)硼酸根、正辛基三(对-甲氧苯基)硼酸根、正十二烷基三(对-甲氧苯基)硼酸根、正丁基三(对-甲苯基)硼酸根、正丁基三(邻-甲苯基)硼酸根、正丁基三(4-叔丁基苯基)硼酸根、正丁基三(4-氟-2-甲基苯基)硼酸根、正丁基三(4-氟苯基)硼酸根、正丁基三(1-萘基)硼酸根、乙基三(1-萘基)硼酸根、正丁基三[1-(4-甲基萘基)]硼酸根、甲基三[1-(4-甲基萘基)]硼酸根、三苯基甲硅烷基三苯基硼酸根、三甲基甲硅烷基三苯基硼酸根、四正丁基硼酸根、二正丁基二苯基硼酸根、四苄基硼酸根等。在有机季硼负离子的R1、R2、R3和R4中，为了保持有机硼盐化合物的稳定性和光反应性的平衡，优选，但不是在所有情况下必须的，R1为烷基，且R2、R3和R4为萘基。作为非限制性的实例，有机硼盐化合物的正离子Z+可以为四甲基铵、四乙基铵、四正丁基铵、四辛基铵、N-甲基喹啉、N-乙基喹啉、N-甲基吡啶、N-乙基吡啶、四甲基鏻、四正丁基鏻、三甲基锍、三苯基锍、三甲基氧化锍、二苯基碘翁、二(4-叔丁基苯基)碘、Li正离子、Na正离子、K正离子等。为获得较高敏感性，该光引发剂可与敏化剂组合使用。敏化剂的选择取决于光引发剂，且上述的一些光引发剂也可用作其它光引发剂的敏化剂。例如，当使用基于咪唑的光引发剂时，基于二苯甲酮或基于噻吨酮的化合物起到光引发剂和敏化剂两者的作用，且因此可组合使用。可与有机硼盐化合物组合使用的敏化剂可以为可吸收光和分解有机硼盐化合物的任何材料。作为非限制性的实例，具有该功能的化合物可以选自基于二苯甲酮的化合物，基于噻吨酮的化合物，基于醌的化合物和阳离子染料。基于二苯甲酮的化合物和基于噻吨酮的化合物可以选自上述的化合物。基于醌的化合物可以为氢醌、2，5-二氯-1，4-苯醌、2，6-二氯-1，4-苯醌、苯基-1，4-苯醌、2-甲基-1，4-萘醌、2，3-二氯-1，4-萘醌、2-羟基-1，4-萘醌、5-羟基-1，4-萘醌、2-氨基-3-氯-1，4-萘醌、2-氯-3-吗啉代-1，4-萘醌、蒽醌、2-甲基蒽醌、2-乙基蒽醌、2-叔丁基蒽醌、2，3-二甲基蒽醌、1-氯蒽醌、2-氯蒽醌、1，4-二氯蒽醌、2-(羟甲基)蒽醌、9，10-菲醌等。该阳离子染料可以为在300nm到近红外波长内具有最大吸收波长的染料，且通常可为黄色、橙色、红色、绿色或蓝色。阳离子染料的实例可包括碱性黄11、Astrazon橙G、ThioflavinT、槐黄(Auramine)O、靛氰绿、1，1′，3，3，3′，3′-六甲基靛碳氰(hexamethylindocarbocyanine)碘、IR-786高氯酸盐等。相对于100重量份的有机混合物，光引发剂的量可以为1-20重量份。当相对于100重量份的有机混合物，光引发剂的量小于1重量份时，曝光敏感性降低。当相对于100重量份的有机混合物，光引发剂的量大于20重量份时，甚至非-曝光区也不显影。作为非限制性的实例，交联剂可包括单(甲基)丙烯酸酯和多官能(甲基)丙烯酸酯。该单(甲基)丙烯酸酯可以为，但不限于，(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸异丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸仲丁酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸正戊酯、(甲基)丙烯酸烯丙基酯、(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸丁氧基乙酯、(甲基)丙烯酸丁氧基三甘醇酯、(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸二环戊基酯、(甲基)丙烯酸二环戊烯基酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸甘油酯、(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、(甲基)丙烯酸异冰片酯、(甲基)丙烯酸异癸酯、(甲基)丙烯酸异辛酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、(甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸甲氧基乙二醇酯、(甲基)丙烯酸甲氧基二甘醇酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸硬脂基酯、(甲基)丙烯酸1-萘基酯、(甲基)丙烯酸2-萘基酯、(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羟基丙酯、(甲基)丙烯酸氨基乙酯等。该多官能(甲基)丙烯酸酯可以为，但不限于，二(甲基)丙烯酸酯例如1，6-己二醇二丙烯酸酯、(乙氧基化)1，6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、2-丁基-2-乙基-1，3-丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四甘醇二(甲基)丙烯酸酯、(乙氧基化)n(n＝2到8)双酚A二(甲基)丙烯酸酯、或双酚A环氧二(甲基)丙烯酸酯；三丙烯酸酯例如三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、(乙氧基化)三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、(丙氧基化)甘油三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、或(丙氧基化)三羟甲基丙烷-3-三(甲基)丙烯酸酯；四(甲基)丙烯酸酯例如二三羟甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、四羟甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、或季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯；五(甲基)丙烯酸酯例如二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯；六(甲基)丙烯酸酯例如二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等。交联剂可以为选自上述的单和多官能丙烯酸酯的至少一种。相对于100重量份的有机混合物，交联剂的量可以为15-60重量份。当相对于100重量份的有机混合物，交联剂的量小于15重量份时，曝光敏感性降低。当相对于100重量份的有机混合物，交联剂的量大于60重量份时，在烧结过程中该障壁可分离或断开。该光敏性糊状组合物还可包括添加剂。作为非限制性的实例，该添加剂可以为改进光敏性糊状组合物的存储稳定性的聚合抑制剂和抗氧化剂，改善分辨率的紫外吸收剂，减少组合物中的气泡的消泡剂，改善分散性的分散剂，改善在印刷过程中膜平整度的流平剂，改善热分解特性的增塑剂，提供触变性特性的触变剂等。该溶剂可以为这样的溶剂，其不降低金属氧化物的分散性，溶解粘合剂和光引发剂，与交联剂和额外添加剂令人满意地混合，且具有至少150℃的低沸点。当溶剂沸点小于150℃时，在制备光敏性糊状组合物的过程中挥发的可能性高，尤其在3-辊研磨过程中，且在印刷过程中溶剂可挥发很快使得印刷状态不好。可满足上述条件的溶剂可以为，但不限于，选自以下的至少一种乙基卡必醇、丁基卡必醇、乙基卡必醇乙酸酯、丁基卡必醇乙酸酯、2，2，4-三甲基-1，3-戊二醇一异丁酯、萜品油、二甘醇、二丙二醇、三丙二醇、二丙二醇甲醚、二丙二醇乙醚、二丙二醇单甲醚乙酸酯、γ-丁内酯、乙酸溶纤剂和丁基溶纤剂乙酸酯。不具体限制溶剂的量，但是应以足以提供适于印刷或涂布的糊状物粘度的量使用溶剂。可通过以下工序制备本发明的光敏性糊状组合物。首先，制备金属氧化物溶胶。通过制备金属氧化物前体，然后将其分散在有机混合物中来制备金属氧化物溶胶。该有机混合物包括粘合剂、光引发剂、交联剂和添加剂，且如果需要可包括溶剂。将有机混合物制备为均匀和透明溶液使得有机混合物的每种组分混合且充分搅拌。将制备的金属氧化物溶胶与无机材料混合以制备糊状物。可采用行星式混合器(PLM)等混合该糊状物，然后通过3-辊研磨充分地机械混合。当3-辊研磨过程终止时，采用例如不锈钢(SUS)#400目过滤器过滤该产物，然后采用真空泵脱气以制备光敏性糊状组合物。本发明的各方面提供等离子体显示面板(PDP)的障壁，其采用该光敏性糊状组合物制备。一种采用光敏性糊状组合物制备PDP的障壁方法如下。采用丝网印刷或台式涂布机，将该光敏性糊状组合物涂布到其上已形成地址电极和介电层的PDP的下基板上。然后80到120℃下在干燥炉或IR炉内干燥该涂布的基板5到60分钟，以从光敏性糊状组合物中去除大部分溶剂。然后，采用其中设有光掩模的紫外曝光设备将预定波长的光辐射到干燥的膜上。其上紫外线辐射的干燥膜的部分通过交联变得不溶于显影溶液。然后，在显影过程中，在约30℃的显影温度下使用已在纯水中稀释的适当的碱性显影剂如Na2CO3溶液、KOH溶液、TMAH溶液、单乙醇胺溶液等以去除光敏性糊状物的未曝光部分。结果，获得图案。在500到600℃下在电炉内烧结所得物5到60分钟以去除残留有机混合物和烧结具有低熔点的玻璃粉。因此，可获得图案化的障壁。本发明的各方面还提供包括该障壁的PDP。图1示出包括障壁的PDP的结构，该障壁采用根据本发明实施方案的光敏性糊状组合物形成。该PDP包括前面板110和后面板120。该前面板110包括前基板111；在前基板111的背面111a上形成的支持(sustain)电极对(114，对于每个)，每个支持电极对114包括Y电极112和X电极113；覆盖支持电极对的前介电层115；和覆盖前介电层115的保护层116。Y电极112和X电极113分别包括由透明导电材料例如ITO等制成的透明电极112b和113b，和各自由用于对比增强的黑色电极(未示出)和用于赋予导电性的白色电极(未示出)组成的总线电极(buselectrode)112a和113a。将总线电极112a和113a连接到在PDP的左右两侧设置的接线电缆(未示出)。该后面板120包括后基板121；在后基板121上的前表面121a上形成的以与支持电极对交叉的地址电极122；覆盖寻址电极的后介电层123；在后介电层123上形成以分开放电单元126的障壁124；和设置在放电单元内的磷光层125。将地址电极122连接到设置在PDP的上下两侧的接线电缆。下面，参见以下实施例将更详细地描述本发明的各方面。下面的实施例用于说明性的目的且不用于限制本发明的范围。实施例制备金属氧化物前体实施例1.采用乙醇钽(V)制备氧化钽前体将100ml的n-BuOH和100ml的二甘醇添加到配置有温度计和搅拌器的反应容器中，并搅拌。搅拌期间，向混合物中缓慢添加10ml1.0N的HCl。在搅拌约30分钟之后，在搅拌的同时向混合物中缓慢添加10.0g的乙醇钽。然后，在室温下搅拌所得混合物12小时以完成水解和缩合反应，然后向所得混合物中添加0.1g双(聚氧乙烯多环苯基醚)甲基丙烯酸酯硫酸酯盐作为表面改性剂，且在室温下搅拌所得物6小时。采用真空蒸馏去除n-BuOH和纯水以采用二甘醇作为分散介质制备氧化钽前体。实施例2.采用氯化钛(VI)制备氧化钛前体100ml的n-BuOH和100ml的三丙二醇添加到配置有温度计和搅拌器的反应容器中，并搅拌。搅拌期间，将10ml的28％氨水缓慢添加到混合物中。在搅拌约30分钟之后，在搅拌的同时将10.0g氯化钛(VI)缓慢添加到混合物中。然后，在室温下搅拌所得混合物6小时以完成水解和缩合反应。采用真空蒸馏去除n-BuOH和纯水以采用三丙二醇作为分散介质制备氧化钛前体。实施例3.采用正丙醇锆(VI)制备氧化锆前体100ml正丙醇和100ml的二丙二醇添加到配置有温度计和搅拌器的反应容器中，并搅拌。搅拌期间，将5ml1.0N的HCl缓慢添加到混合物中。在搅拌约30分钟之后，在搅拌的同时将10.0g正丙醇锆(VI)缓慢添加到混合物中。然后，将所得混合物在室温下搅拌24小时以完成水解和缩合反应。采用真空蒸馏去除正丙醇和纯水以采用二丙二醇作为分散介质制备氧化锆前体。实施例4.采用四乙氧基硅烷制备氧化硅前体将100ml的乙醇和100ml的二丙二醇添加到配置有温度计和搅拌器的反应容器中，并搅拌。搅拌期间，将5ml1.0N的HCl缓慢添加到混合物中。在搅拌约30分钟之后，在搅拌的同时将10.0g的四乙氧基硅烷缓慢添加到混合物中。然后，将所得混合物在室温下搅拌6小时以完成水解和缩合反应。采用真空蒸馏去除乙醇和纯水以采用二丙二醇作为分散介质制备氧化硅前体。实施例5.采用异丙醇铝(III)制备氧化铝前体100ml的异丙醇和100ml的三丙二醇添加到配置有温度计和搅拌器的反应容器中，并搅拌。搅拌期间，将5ml1.0N的HCl缓慢添加到混合物中。在搅拌约30分钟之后，在搅拌的同时10.0g异丙醇铝(III)缓慢添加到混合物中。然后，所得混合物在室温下搅拌6小时以完成水解和缩合反应。采用真空蒸馏去除异丙醇和纯水以采用二丙二醇作为分散介质制备氧化铝前体。实施例6.采用乙醇钽(V)和氯化钛(VI)制备钽-钛氧化物前体100ml的乙醇和100ml的二甘醇添加到配置有温度计和搅拌器的反应容器中，并搅拌。搅拌期间，将5ml1.0N的HCl缓慢添加到混合物中。在搅拌约30分钟之后，在搅拌的同时5.0g乙醇钽(V)和5.0g氯化钛(VI)缓慢添加到混合物中。然后，所得混合物在室温下搅拌12小时以完成水解和缩合反应。采用真空蒸馏去除乙醇和纯水以采用二甘醇作为分散介质制备钽-钛氧化物前体。实施例7.采用四乙氧基硅烷和氯化钛(VI)制备硅-钛氧化物前体100ml的乙醇和100ml的二甘醇加到配置有温度计和搅拌器的反应容器中，并搅拌。搅拌期间，将10ml的28％氨水缓慢添加到混合物中。在搅拌约30分钟之后，在搅拌的同时将5.0g四乙氧基硅烷和5.0g氯化钛(VI)缓慢添加到混合物中。然后，所得混合物在室温下搅拌6小时以完成水解和缩合反应，然后将0.1g双(甲基丙烯酰氧乙基)磷酸酯添加到所得混合物中作为表面改性剂，且所得物在室温下搅拌6小时。采用真空蒸馏去除乙醇和纯水以采用二甘醇作为分散介质制备硅-钛氧化物前体。金属氧化物前体的物理性能的测量下面表1示出实施例1到7中制备的金属氧化物前体的金属氧化物的光折射率、比重和平均粒径的测量结果。在20℃下测量光折射率和比重的值，和采用光子关联能谱法(PCS)测量平均粒径。表1制备有机混合物如下述制备用于通过在有机混合物中分散如上述制备的金属氧化物前体而制备金属氧化物溶胶的有机混合物。实施例8.制备有机混合物1通过如下制备有机混合物1混合47.2重量％的作为粘合剂的重均分子量5,000g/mol且酸值为120mgKOH/g的聚(甲基丙烯酸甲酯-共-甲基丙烯酸正丁酯-共-甲基丙烯酸)共聚物、3.5重量％的作为光引发剂的2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉代苯基)-1-丁酮、46.8重量％的作为交联剂的乙氧基化三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、和2.5重量％的作为储存稳定剂的苯并三唑。实施例9.制备有机混合物2通过如下制备有机混合物2混合44.1重量％的作为粘合剂的重均分子量12,000g/mol且酸值为210mgKOH/g的聚(苯乙烯-共-甲基丙烯酸)共聚物、5.5重量％的作为光引发剂的2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉代苯基)-1-丁酮、27.0重量％的作为交联剂的双酚A改性的环氧二丙烯酸酯、4.4重量％的作为储存稳定剂的苯并三唑和19.0重量％的作为溶剂的三丙二醇。有机混合物的物理性能的测量下面表2示出实施例8和9中制备的有机混合物的光折射率和比重的测量结果。表2制备金属氧化物溶胶将实施例1到7的金属氧化物前体分散在实施例8和9的有机混合物中以制备金属氧化物溶胶。采用以下工序制备各个金属氧化物溶胶首先，将有机混合物添加到搅拌容器并搅拌，和在搅拌期间将计算量的金属氧化物前体向其缓慢添加，然后将该混合物搅拌几小时以制备透明金属氧化物溶胶。实施例10.制备金属氧化物溶胶1以体积比20∶80混合实施例1的氧化钽前体和实施例8的有机混合物1，其中氧化钽前体的体积仅基于在氧化钽前体中氧化钽的体积。在混合之后测量折射率为1.66。实施例11.制备金属氧化物溶胶2以体积比15∶85混合实施例2的氧化钛前体和实施例8的有机混合物1，其中氧化钛前体的体积仅基于在氧化钛前体中氧化钛的体积。在混合之后测量折射率为1.65。实施例12.制备金属氧化物溶胶3以体积比20∶80混合实施例3的氧化锆前体和实施例9的有机混合物2，其中氧化锆前体的体积的计算仅基于在氧化锆前体中氧化锆的体积，和没有溶剂存在时测量有机混合物2的体积。在混合之后测量折射率为1.66。实施例13.制备金属氧化物溶胶4以体积比10∶90混合实施例4的氧化硅前体和实施例9的有机混合物2，其中氧化硅前体的体积仅基于在氧化硅前体中氧化硅的体积，和没有溶剂存在时测量有机混合物2的体积。在混合之后测量折射率为1.54。实施例14.制备金属氧化物溶胶5以体积比20∶80混合实施例5的氧化铝前体和实施例9的有机混合物2，其中氧化铝前体的体积仅基于在氧化铝前体中氧化铝的体积，和没有溶剂存在时测量有机混合物2的体积。在混合之后测量折射率为1.60。实施例15.制备金属氧化物溶胶6以体积比15∶85混合实施例6的钽-钛氧化物前体和实施例8的有机混合物1，其中钽-钛氧化物前体的体积仅基于在钽-钛氧化物前体中钽-钛氧化物的体积。在混合之后测量折射率为1.64。实施例16.制备金属氧化物溶胶7以体积比20∶80混合实施例7的硅-钛氧化物前体和实施例9的有机混合物2，其中硅-钛氧化物前体的体积仅基于在硅-钛氧化物前体中硅-钛氧化物的体积，和没有溶剂地测量有机混合物2的体积。在混合之后测量折射率为1.64。制备光敏性糊状组合物如下面所述通过将实施例10到16的金属氧化物溶胶与包含低熔点玻璃粉和高熔点玻璃粉的无机材料混合制备光敏性糊状组合物。实施例17.制备光敏性糊状组合物1通过如下制备光敏性糊状组合物1混合40体积％的实施例10的金属氧化物溶胶，55体积％的具有低熔点的玻璃粉(ZnO-BaO-B2O3基，无定形，D50＝3.2μm，折射率＝1.68，比重＝3.86)，和5体积％的具有高熔点玻璃粉(SiO2-B2O3-Al2O3基，无定形，D50＝2.5μm，折射率＝1.67，比重＝3.67)。实施例18到23.制备光敏性糊状组合物2到7除了分别采用实施例11到16的金属氧化物溶胶代替实施例10的金属氧化物溶胶之外，分别以与光敏性糊状组合物1相同的方式制备光敏性糊状组合物2到7。对比例1.根据现有技术制备光敏性糊状组合物作为对照，制备光敏性糊状组合物，其包含40体积％的实施例9的有机混合物，55体积％的具有低熔点的玻璃粉(Li2O-SiO2-B2O3基，无定形，D50＝3.2μm，折射率＝1.56，比重＝2.56)，和5体积％的具有高熔点的玻璃粉(SiO2-B2O3-Al2O3基，无定形，D50＝3.0μm，折射率＝1.55，比重＝2.52)。光敏性糊状组合物的评估和结果采用涂布机将实施例17到23和对比例1的光敏性糊状组合物分别涂布到玻璃基板上，然后在100℃下在干燥炉内干燥30分钟。随后，采用配置有具有光栅图案的光掩模(宽度线宽＝40μm(间距＝160μm)，长度线宽＝40μm(间距＝560μm)的高压汞灯紫外曝光设备辐射300-1500mJ/cm2的光。通过在1.2kgf/cm2的喷嘴压力下在30℃下喷射0.4重量％的Na2CO3水溶液到其上180秒使光辐射的玻璃基板显影，然后通过在室温下在1.2kgf/cm2的喷嘴压力下喷射纯水30秒来清洗。随后，将显影的玻璃基板采用气刀干燥，然后放入到电炉中，并在560℃下烧结20分钟以形成障壁。然后，采用光学显微镜和扫描电子显微术(SEM)评估该形成的障壁。下面表3中示出评估结果。在表3中，术语“最佳曝光量”指的是提供最佳图案结果的值。术语“表面粗糙度”和“表面紧密度”指的是通过采用SEM观察获得的品质。通过计算障壁的横截面的单位面积内的空区的面积，和从单位面积减去空闲区的计算面积来获得表面紧密度的值。即，当表面紧密度为100％时，在障壁的横截面内根本不存在空区，表示形成紧密的障壁。表3从表3的结果来看，不含金属氧化物的对比例1的光敏性糊状组合物展示最好的曝光敏感性(最佳曝光量)。这是因为如果光敏性糊状组合物包括金属氧化物，那么在光反应内涉及的有机混合物的量相对低，和金属氧化物吸收辐射的紫外线。特别地，氧化钛展示小得多的曝光敏感性。实施例20的光敏性糊状组合物展示最小的曝光敏感性，且也具有通过一次曝光形成的障壁的最低高度，即，45μm。这假定是由于金属氧化物溶胶的光折射率和无机材料的折射率之间的差异相对大。此外，如表3所示，曝光敏感性越低，障壁的上部宽度越大和下部宽度越窄。这是因为金属氧化物溶胶和无机材料的折射率之间的差异越大，在曝光过程中辐射的光的透射率越低，而反射和散射增加。由于对比例1的光敏性糊状组合物不含有金属氧化物，所以曝光敏感性相对优异，而表面粗糙度和紧密度低。这暗示在烧结过程中金属氧化物分解有机混合物，然后在烧结过程用具有低熔点的玻璃粉填充空区。PDP的制备及其特性的评估分别使用实施例17到19以及对比例1的光敏性糊状组合物制备6″面板。在中试线(pilotline)中制造6″面板以具有用于42″HD型面板的规格。下面表4示出制造的面板的亮度的评估结果。表4从表4的亮度结果可看出与对比例1的光敏性糊状组合物相比，本发明的光敏性糊状组合物展示了亮度增加效应。不束缚于任何具体的理论，据信因为当使用金属氧化物溶胶时，障壁中形成的金属氧化物提高可见光线的反射率，从而提高亮度，障壁自身的粗糙度降低，且其紧密度变得优异，因此出现该结果。根据本发明的各方面，由于通过包括仅一次曝光的方法可制造具有高分辨率和高精度的PDP的障壁图案，且还可提供具有比传统的障壁高的反射率的障壁，因此包括该障壁的PDP可具有高亮度。尽管已经示出和描述了本发明的几个实施方案，但是本领域普通技术人员应该理解在不脱离本发明的原理和精神的范围内在该实施方式中可进行改变，其范围由权利要求和其等价物限定。权利要求1.光敏性糊状组合物，包含包括分散在有机混合物中的金属氧化物的金属氧化物溶胶材料；和无机材料，其中该金属氧化物溶胶的平均光学折射率(N1)和该无机材料的平均光学折射率(N2)满足下面方程式1方程式1-0.2≤N1-N2≤0.2。2.权利要求1的光敏性糊状组合物，其中该金属氧化物的金属组分为选自Si、Ti、Al、Zr、Ta、Ge、Y和Zn的至少一种。3.权利要求1的光敏性糊状组合物，其中该金属氧化物溶胶通过如下制备采用水解和缩合由醇盐或卤化物化合物制备金属氧化物前体，和在该有机混合物中分散该制备的金属氧化物前体。4.权利要求1的光敏性糊状组合物，其中该金属氧化物具有1-60nm的平均粒径。5.权利要求1的光敏性糊状组合物，其中该金属氧化物溶胶具有1.4-2.0的平均光折射率。6.权利要求1的光敏性糊状组合物，其中该金属氧化物具有1.3-3.0的平均光折射率。7.权利要求1的光敏性糊状组合物，其中该金属氧化物溶胶的平均光折射率(N1)和该无机材料的平均光折射率(N2)满足下面方程式2方程式2-0.1≤N1-N2≤0.1。8.权利要求1的光敏性糊状组合物，其中相对于100体积份的该无机材料，该金属氧化物溶胶的金属氧化物的量为3-30体积份。9.权利要求1的光敏性糊状组合物，其中相对于100体积份的该有机混合物，该金属氧化物溶胶的金属氧化物的量为5-50体积份。10.权利要求1的光敏性糊状组合物，其中该无机材料具有1.5-1.8的平均光折射率N2。11.权利要求1的光敏性糊状组合物，其中该无机材料含有具有低熔点的玻璃粉和具有高熔点的玻璃粉，其中该具有低熔点的玻璃粉的软化温度Ts满足下面方程式5，和该具有高熔点的玻璃粉的软化温度Ts满足下面方程式6方程式5烧结温度-80℃＜Ts＜烧结温度，方程式6Ts＞烧结温度+20℃。12.权利要求11的光敏性糊状组合物，其中该具有低熔点的玻璃粉的平均粒径具有2-5μm的平均值D50，0.1μm的最小值Dmin和20μm的最大值Dmax。13.权利要求11的光敏性糊状组合物，其中相对于100体积份的该无机材料，该具有低熔点玻璃粉的量为70-100体积份。14.权利要求11的光敏性糊状组合物，其中该具有低熔点的玻璃粉包括选自以下的化合物PbO-B2O3基玻璃、PbO-SiO2-B2O3基玻璃、Bi2O3-B2O3基玻璃、Bi2O3-SiO2-B2O3基玻璃、SiO2-B2O3-Al2O3基玻璃、SiO2-B2O3-BaO基玻璃、SiO2-B2O3-CaO基玻璃、ZnO-B2O3-Al2O3基玻璃、ZnO-SiO2-B2O3基玻璃、P2O5基玻璃、SnO-P2O5基玻璃、V2O5-P2O5基玻璃、V2O5-Mo2O3基玻璃和V2O5-P2O5-TeO2基玻璃。15.权利要求11的光敏性糊状组合物，其中该具有高熔点的玻璃粉的平均粒径具有1-4μm的平均值，0.1μm的最小值和20μm的最大值。16.权利要求11的光敏性糊状组合物，其中相对于100体积份的该无机材料，该具有高熔点玻璃粉的量为0-30体积份。17.权利要求11的光敏性糊状组合物，其中该具有高熔点的玻璃粉包括选自以下的化合物SiO2-B2O3-BaO基玻璃、SiO2-B2O3-CaO基玻璃、SiO2-B2O3-MgO基玻璃、SiO2-B2O3-CaO-BaO基玻璃、SiO2-B2O3-CaO-MgO基玻璃、SiO2-Al2O3-BaO基玻璃、SiO2-Al2O3-CaO基玻璃、SiO2-Al2O3-MgO基玻璃、SiO2-Al2O3-BaO-CaO基玻璃、SiO2-Al2O3-CaO-MgO基玻璃等。18.权利要求11的光敏性糊状组合物，其中该具有低熔点的玻璃粉的折射率N3和该具有高熔点的玻璃粉的折射率N4之间的差满足下面方程式7方程式7-0.2≤N3-N4≤0.2。19.权利要求11的光敏性糊状组合物，其中该具有低熔点的玻璃粉折射率N3和该具有高熔点玻璃粉的折射率N4之间的差满足下面方程式8方程式8-0.1≤N3-N4≤0.1。20.权利要求1的光敏性糊状组合物，其中该有机混合物含有粘合剂、光引发剂和交联剂。21.权利要求20的光敏性糊状组合物，其中相对于100重量份的该有机混合物，该粘合剂的量为30-80重量份；相对于100重量份的该有机混合物，该光引发剂的量为1-20重量份；和相对于100重量份的该有机混合物，该交联剂的量为15-60重量份。22.权利要求20的光敏性糊状组合物，其中该有机混合物还含有添加剂和溶剂，其中该添加剂为选自聚合抑制剂、抗氧化剂、紫外吸收剂、消泡剂、分散剂、流平剂、增塑剂和触变剂的至少一种添加剂。23.权利要求20的光敏性糊状组合物，其中该粘合剂为通过具有羧基的单体和至少一种具有乙烯不饱和基团的单体共聚形成的具有羧基的基于丙烯酰基的树脂；该粘合剂具有500-100,000g/mol的重均分子量，和50-300mgKOH/g的酸值；该具有羧基的单体为选自以下的至少一种丙烯酸、甲基丙烯酸、富马酸、马来酸、乙烯基乙酸、和其酐；和该具有乙烯不饱和基团的单体为选自以下的至少一种(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸异丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸仲丁酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸正戊酯、(甲基)丙烯酸烯丙基酯、(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸丁氧基乙酯、(甲基)丙烯酸丁氧基三甘醇酯、(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸二环戊基酯、(甲基)丙烯酸二环戊烯基酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸甘油酯、(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、(甲基)丙烯酸异冰片酯、(甲基)丙烯酸异癸酯、(甲基)丙烯酸异辛酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、(甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸甲氧基乙二醇酯、(甲基)丙烯酸甲氧基二甘醇酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸硬脂基酯、(甲基)丙烯酸1-萘基酯、(甲基)丙烯酸2-萘基酯、(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羟基丙酯、(甲基)丙烯酸氨基乙酯、苯乙烯、α-甲基苯乙烯、α-2-二甲基苯乙烯、3-甲基苯乙烯、4-甲基苯乙烯。24.权利要求23的光敏性糊状组合物，其中该粘合剂还含有选自以下的至少一种纤维素、甲基纤维素、乙基纤维素、正丙基纤维素、羟乙基纤维素、2-羟基乙基纤维素、甲基-2-羟基乙基纤维素、羟基丙基纤维素、羟基丙基甲基纤维素、羟基丁基甲基纤维素、羟基丙基甲基纤维素邻苯二甲酸酯、硝酸纤维素、醋酸纤维素、三乙酸纤维素、乙酸丁酸纤维素、乙酸氢邻苯二甲酸纤维素、乙酸丙酸纤维素、丙酸纤维素、乙酸丙酸(丙烯酰氨基甲基)纤维素、乙酸丁酸(丙烯酰氨基甲基)纤维素、氰乙基化物纤维素、果胶酸、脱乙酰壳多糖、壳多糖、羧甲基纤维素、羧甲基纤维素钠盐、羧乙基纤维素和羧乙基甲基纤维素。25.权利要求20的光敏性糊状组合物，其中该光引发剂为选自以下的至少一种(i)基于咪唑的化合物，(ii)基于三嗪的化合物、(iii)基于氨基苯乙酮化合物、(iv)基于二苯甲酮和苯乙酮的化合物、(v)基于苯偶姻的化合物、(vi)基于二茂钛的化合物、(vii)基于二唑的化合物、(viii)基于噻吨酮基化合物、(ix)基于(双)酰基氧化膦的化合物和(x)有机硼盐化合物。26.权利要求20的光敏性糊状组合物，其中该交联剂为选自以下的至少一种至少一种单(甲基)丙烯酸酯，选自(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸异丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸仲丁酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸正戊酯、(甲基)丙烯酸烯丙基酯、(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸丁氧基乙酯、(甲基)丙烯酸丁氧基三甘醇酯、(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸二环戊基酯、(甲基)丙烯酸二环戊烯基酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸甘油酯、(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、(甲基)丙烯酸异冰片酯、(甲基)丙烯酸异癸酯、(甲基)丙烯酸异辛酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、(甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸甲氧基乙二醇酯、(甲基)丙烯酸甲氧基二甘醇酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸硬脂基酯、(甲基)丙烯酸1-萘基酯、(甲基)丙烯酸2-萘基酯、(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羟基丙酯和(甲基)丙烯酸氨基乙酯；至少一种二(甲基)丙烯酸酯，选自1，6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、(乙氧基化)1，6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、2-丁基-2-乙基-1，3-丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四甘醇二(甲基)丙烯酸酯、(乙氧基化)n(n＝2到8)双酚A二(甲基)丙烯酸酯、和双酚A环氧二(甲基)丙烯酸酯；至少一种三(甲基)丙烯酸酯，选自三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、(乙氧基化)三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、(丙氧基化)甘油三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯和(丙氧基化)三羟甲基丙烷-3-三(甲基)丙烯酸酯；至少一种四(甲基)丙烯酸酯，选自二三羟甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、四羟甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯和季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯；至少一种五(甲基)丙烯酸酯；和至少一种六(甲基)丙烯酸酯。27.权利要求22的光敏性糊状组合物，其中该添加剂为选自聚合抑制剂、抗氧化剂、紫外吸收剂、消泡剂、分散剂、流平剂、增塑剂和触变剂的至少一种添加剂。28.权利要求22的光敏性糊状组合物，其中该溶剂为选自以下的至少一种乙基卡必醇、丁基卡必醇、乙基卡必醇乙酸酯、丁基卡必醇乙酸酯、2，2，4-三甲基-1，3-戊二醇一异丁酯、萜品油、二甘醇、二丙二醇、三丙二醇、二丙二醇甲醚、二丙二醇乙醚、二丙二醇单甲醚乙酸酯、γ-丁内酯、乙酸溶纤剂和丁基溶纤剂乙酸酯。29.采用权利要求1的光敏性糊状组合物制备的PDP的障壁。30.含有权利要求29的障壁的PDP。全文摘要光敏性糊状组合物包括金属氧化物溶胶和无机材料，其中金属氧化物溶胶的平均光折射率(N文档编号C03C8/20GK101093354SQ20071011186公开日2007年12月26日申请日期2007年6月20日优先权日2006年6月20日发明者李范旭,崔钟书,崔龟锡,林明德,李勋培,张范镇申请人:三星Sdi株式会社