专利名称：一种施釉装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种施釉装置。
背景技术：
目前，现有技术中应用于陶瓷生产中的施釉于陶瓷坯体的方法多种多样，最基本的是“浸釉”，将陶瓷坯体浸入釉浆中片刻后取出，利用坯体的吸水性、使釉浆均勻地附着于坯体表面。釉层厚度由坯体的吸水率、釉浆浓度和浸入时间决定；荡釉法，将釉浆浇入坯体内，用手缓慢摇荡，使得釉浆分在坯体内表面，这种方法适宜器型较深的产品；喷釉法，采用喷釉器将釉料雾化喷到坯体表面，此种施釉方法适合于大型产品及造型复杂、或薄胎等需要多次施釉的产品，可以多次喷釉。对于杯碗类制品施外釉，传统方法是采用浸釉法，手持坯体浸入釉浆中，待坯体表层挂釉，然后取出，但是由于釉浆是静止盛放于釉桶内，容易沉淀，影响施釉效果。
实用新型内容本实用新型的主要目的在于克服现有技术中采用浸釉法时，釉料是静止的，容易沉淀的缺点，提供一种能防止釉料沉淀的施釉装置本实用新型采用如下技术方案一种施釉装置，包括釉料桶和输入端与釉料桶相通的釉泵，其特征在于还包括有施釉桶和供釉管，该供釉管一端与所述施釉桶相连通，另一端与所述釉泵输出端相连来实现供釉，施釉桶还设有将釉料送至釉料桶的排釉管。进一步地，所述施釉桶通过一固定架固定于略高于所述釉料桶位置。进一步地，所述供釉管所述施釉桶底部中央，且安装有一向上的喷釉管，该喷釉管顶部低于所述施釉桶顶部边缘。进一步地，所述排釉管设置于所述施釉桶侧壁略低于顶部边缘位置。由上述对本实用新型的描述可知，与现有技术相比，本实用新型具有如下有益效果本实用新型通过采用釉泵将釉料通过供釉管送至施釉桶侧壁，使得釉料以一定角度喷向施釉桶，从而在施釉桶内形成流动的液体，在整个施釉过程中保持流动，而不会沉淀；本实用新型还用于对杯碗进行施内釉，将供釉管设置于施釉桶底部中央且安装一向上的喷釉管，即可对杯碗内壁进行施釉，侧壁设置排釉管用于循环利用釉料。
图1为本实用新型的立体结构示意图；图2为本实用新型施内釉的立体结构示意图。
具体实施方式
以下通过具体实施方式
对本实用新型作进一步的描述。[0013]参照图1，一种施釉装置，包括釉料桶1和输入端与釉料桶1相通的釉泵2，还包括有施釉桶3和供釉管4，施釉桶3通过一固定架5固定于略高于釉料桶3位置。供釉管4 一端于施釉桶3侧壁的小孔13相连接，另一端与釉泵2输出端相连来实现供釉，施釉桶3还设有将釉料送至釉料桶1的排釉管6，该排釉管6设置于施釉桶1侧壁略低于顶部边缘位置。参照图2，本实用新型还可作为施内釉装置，将图1中的供釉管4设置于施釉桶3 底部中央同时安装一向上的喷釉管7，该喷釉管7顶部低于施釉桶3顶部边缘。将图1中的侧壁小孔13作为排釉孔用于连接排釉管6，将釉料排至釉料桶1。上述仅为本实用新型的一个具体实施方式
，但本实用新型的设计构思并不局限于此，凡利用此构思对本实用新型进行非实质性的改动，均应属于侵犯本实用新型保护范围的行为。
权利要求1.一种施釉装置，包括釉料桶和输入端与釉料桶相通的釉泵，其特征在于还包括有施釉桶和供釉管，该供釉管一端设置于施釉桶侧壁上且与施釉桶内部相连通，另一端与所述釉泵输出端相连来实现供釉，施釉桶还设有将釉料送至釉料桶的排釉管。
2.如权利要求1所述的一种施釉装置，其特在于所述施釉桶通过一固定架固定于略高于所述釉料桶位置。
3.如权利要求1所述的一种施釉装置，其特征在于所述供釉管所述施釉桶底部中央， 且安装有一向上的喷釉管，该喷釉管顶部低于所述施釉桶顶部边缘。
4.如权利要求1所述的一种施釉装置，其特征在于所述排釉管设置于所述施釉桶侧壁略低于顶部边缘位置。
专利摘要一种施釉装置，包括釉料桶和输入端与釉料桶相通的釉泵，其特征在于还包括有施釉桶和供釉管，该供釉管一端设置于施釉桶侧壁上且与施釉桶内部相连通，另一端与所述釉泵输出端相连来实现供釉，施釉桶还设有将釉料送至釉料桶的排釉管。本实用新型通过采用釉泵将釉料通过供釉管送至施釉桶侧壁，使得釉料以一定角度喷向施釉桶，从而在施釉桶内形成流动的液体，在整个施釉过程中保持流动，而不会沉淀；本实用新型还用于对杯碗进行施内釉，将供釉管设置于施釉桶底部中央且安装一向上的喷釉管，即可对杯碗内壁进行施釉，侧壁设置排釉管用于循环利用釉料，十分方便。
文档编号C04B41/86GK202022860SQ20112010359
公开日2011年11月2日 申请日期2011年4月8日 优先权日2011年4月8日
发明者陈金通 申请人:福建冠福现代家用股份有限公司