专利名称：一种高透型可钢化低辐射镀膜玻璃的制作方法
技术领域：
本实用新型属于ー种镀膜玻璃，主要涉及ー种高透型可钢化低辐射镀膜玻璃。
背景技术：
低辐射镀膜玻璃是指在玻璃表面沉积ー层高红外线反射材料(金属银)，使玻璃吸收太阳光光谱中的红外线和其它物体发出的红外线非常少，玻璃自身又不存储能量，因此镀膜玻璃向外辐射的红外线也非常少，称为低辐射镀膜玻璃。该玻璃用于窗户上，可有效地阻挡太阳光中的红外线进入室内，降低夏天室内温度，节约空调制冷费用，冬天可以阻挡室内物体发出的红外线被玻璃吸收，散发到室外，提高室内温度，节约取暖费用。现在市场上已经有很多种低辐射镀膜玻璃产品，第一层膜有用氧化锡的，也有用氮化硅的，第二层膜都是银膜，也有前面加一层镍铬膜的结构，第三层都用镍铬层，第四层主要为保护膜，一般采用氧化锡或氧化锌作保护膜，这些产品在钢化过程中会出现变色、低辐射性能变差等问题，而且可见光透过率比较低。
发明内容本实用新型目的是提供一种六层膜结构的高透型可钢化低辐射镀膜玻璃，使其具有膜层可以经受钢化炉高温的考验，仍然保持低辐射性能不变，而且可见光透过率比较高。本实用新型的目的可采用如下技术方案来实现:其具有玻璃基片，在玻璃基片表面上从底层向上依次镀有氧化铌膜层、氧化钛膜层、镍铬膜层、银膜层、镍膜层、氮化硅膜层，从而构成六层膜结构的高透型可钢化低辐射镀膜玻璃。采用上述结构，第一、ニ层膜采用氧化铌和氧化钛膜，可以提高膜层与玻璃的结合力，提高膜层可见光透过率，第三、五层膜采用镍铬膜和镍膜，可以保证第四层银膜在钢化炉内600多度的高温下，不被氧化或与其它物质反应，第六层膜采用氮化硅膜，提高膜层的耐磨、耐腐蚀性能。本实用新型具有生产效率高，可以在玻璃上镀低辐射膜后再钢化，膜层不变色、辐射率不变化，而且可见光透过率比较高的优点。
附图1为本实用新型的具体结构示意图。图中:1、玻璃基片，2、氧化铌膜层，3、氧化钛膜层，4、镍铬膜层，5、银膜层，6、镍
膜层，7、氮化硅膜层。
具体实施方式
结合附图，说明本实用新型的具体实施例。如附图1所示:其具有玻璃基片1，在玻璃基片表面上从底层向上依次镀有氧化铌膜层2、氧化钛膜层3、镍铬膜层4、银膜层5、镍膜层6、氮化硅膜层7，从而构成六层膜结构的高透型可钢化低辐射镀膜玻璃。[0011]本实用新型是在真空环境下，通过磁控溅射在玻璃表面沉积六层膜的方法，生产ー种红外线辐射率很低的镀膜玻璃。所述的低辐射镀膜玻璃是在镀膜室抽真空至
1.1 X IO^4Pa以下,充入エ艺气体(氧气或氮气或氩气),使镀膜室压カ稳定在0.3Pa左右,将溅射源送电，靶材开始溅射，送入玻璃将靶材原子或其化合物沉积到玻璃表面。第一个镀膜室充入氩气，靶材为氧化铌靶，将氧化铌膜沉积到玻璃表面为第一层膜，厚度5至20纳米，第二个镀膜室充入氩气，靶材为氧化钛靶，将氧化钛膜沉积为第二层膜，厚度5至20纳米，第三个镀膜室充入氩气，靶材为镍铬靶，在氧化钛膜层上面沉积第三层镍铬膜，厚度I至10纳米；第四个镀膜室充入氩气，靶材为银靶，在镍铬膜上沉积第四层银膜，厚度I至10纳米；第五个镀膜室充入氩气，靶材为镍靶，在银膜上沉积第五层镍膜，厚度I至10纳米；第六个镀膜室充入氮气，靶 材为硅靶，在镍膜上沉积第六层氮化硅膜，厚度15 50纳米。
权利要求1.一种高透型可钢化低辐射镀膜玻璃，其具有玻璃基片(I)，其特征是:在玻璃基片(I)表面上从底层向上依次镀有氧化铌膜层(2)、氧化钛膜层(3)、镍铬膜层(4)，银膜层(5)，镍膜层(6)，氮化硅膜层(7)，从而构成六层膜结构的高透型可钢化低辐射镀膜玻璃。
专利摘要本实用新型公开了一种高透型可钢化低辐射镀膜玻璃，其具有玻璃基片(1)，在玻璃基片(1)表面上从底层向上依次镀有氧化铌膜层(2)、氧化钛膜层(3)、镍铬膜层(4)，银膜层(5)，镍膜层(6)，氮化硅膜层(7)，从而构成六层膜结构的高透型可钢化低辐射镀膜玻璃。采用上述结构，第一、二层膜采用氧化铌和氧化钛膜，可以提高膜层与玻璃的结合力，提高膜层可见光透过率，第三、五层膜采用镍铬膜和镍膜，可以保证第四层银膜在钢化炉内600多度的高温下，不被氧化或与其它物质反应，第六层膜采用氮化硅膜，提高膜层的耐磨、耐腐蚀性能，该产品具有生产效率高，可以在玻璃上镀低辐射膜后再钢化，膜层不变色、辐射率不变化，而且可见光透过率比较高的优点。
文档编号C03C17/36GK202943942SQ201220661928
公开日2013年5月22日 申请日期2012年12月5日 优先权日2012年12月5日
发明者郭明, 杨建社, 王伟峰, 张文箭 申请人:金堆城洛阳节能玻璃有限公司