浮法玻璃的制造方法
【专利摘要】本发明涉及浮法玻璃的制造方法，其特征在于，其具备在浮法槽内的熔融锡上边使熔融玻璃向规定方向流动边使熔融玻璃冷却、从而成型为带板状的工序，该制造方法中，前述熔融玻璃上的气氛为包含氢气的还原气氛，该气氛中含有包含硫或氯的添加物质，前述气氛中的添加物质的浓度在前述熔融玻璃的至少一部分的上方为1mg/Nm3以上。
【专利说明】浮法玻璃的制造方法【技术领域】
[0001]本发明涉及浮法玻璃的制造方法。
【背景技术】[0002]浮法玻璃的制造方法具备在浮法槽(以下也简称为“槽”)内的熔融锡上边使熔融玻璃向规定方向流动边使熔融玻璃冷却、从而成型为带板状的工序(例如，参照专利文献1)。
[0003]为了防止熔融锡的氧化，槽内的气氛多为包含氢气的还原气氛。氢气通过与从外部混入的氧气发生反应而防止熔融锡的氧化。
[0004]另一方面，上述专利文献1中公开了将槽内的气氛制成氧化气氛。由于氧化气氛会降低熔融玻璃的表面张力，因此熔融玻璃的成型是容易的。作为氧化气氛，记载了包含二氧化硫(S02)气体、三氧化硫(S03)气体的气氛是最适合的。
[0005]需要说明的是，二氧化硫气体和三氧化硫气体在包含氢气的还原气氛中会变成硫化氢(h2s)气体等，无法稳定地存在，因此无法降低熔融玻璃的表面张力。
[0006]现有技术文献
[0007]专利文献
[0008]专利文献1:日本特公昭46-41915号公报
【发明内容】
_9] 发明要解决的问题
[0010]浮法玻璃有时出于表面的去污、表面的粗化等目的而用缓冲氢氟酸(以下，也简称为“BHF”)进行表面处理。BHF是氢氟酸(HF)和氟化铵(NH4F)混合而成的化学试剂。
[0011]但是，在包含氢气的还原气氛中成型得到的浮法玻璃在BHF处理后有时雾度(模糊度)会大幅上升。推测这是因为，暴露于还原气氛中的玻璃表面分相成多种成分，特定的成分与BHF发生反应，在玻璃表面附着异物。
[0012]本发明是鉴于上述课题而进行的，其目的在于提供能够抑制由BHF处理导致的雾度上升的浮法玻璃的制造方法。
[0013]用于解决问题的方案
[0014]为了实现上述目的，本发明提供一种浮法玻璃的制造方法，
[0015]其具备在浮法槽内的熔融锡上边使熔融玻璃向规定方向流动边使熔融玻璃冷却、从而成型为带板状的工序，该制造方法中，
[0016]前述熔融玻璃上的气氛是包含氢气的还原气氛，该气氛中含有包含硫或氯的添加物质，前述气氛中的添加物质浓度在前述熔融玻璃的至少一部分的上方为lmg/Nm3以上。
[0017]本发明的浮法玻璃的制造方法中，优选的是，前述气氛中的添加物质浓度至少在前述熔融玻璃的粘度达到lX106dPa.s以下的位置的上方为lmg/Nm3以上。
[0018]本发明的浮法玻璃的制造方法中，优选的是，前述添加物质为硫，前述浮法玻璃中的硫的浓度为100原子ppm以上。
[0019]本发明的浮法玻璃的制造方法中，优选的是，前述添加物质为氯，前述浮法玻璃中的氯的浓度为0.3质量％以上。
[0020]本发明的浮法玻璃的制造方法中，优选的是，前述浮法玻璃用以氧化物为基准的质量百分率表示时，含有 Si02: 50 ~66%、A1203:10.5 ~24%、B203:0 ~12%、MgO:0 ~8%、CaO:0 ~14.5%,SrO:0 ~24%、Ba0:0 ~13.5%、Zr02:0 ~5%、Sn0:0 ~3%，且 MgO + CaO +SrO + BaO:9~29.5%，碱金属氧化物的总含量为0.1%以下。
[0021]本发明的浮法玻璃的制造方法中，优选的是，前述浮法玻璃用以氧化物为基准的质量百分率表示时，含有 Si02: 58 ~66%、A1203:15 ~22%、B203:5 ~12%、Mg0:0 ~8%,CaO:0 ~9%、SrO:3 ~12.5%、BaO:0 ~2%、SnO:0 ~1%，且 MgO + CaO + SrO + BaO:9 ~18%，碱金属氧化物的总含量为0.1%以下。
[0022]本发明的浮法玻璃的制造方法中，优选的是，前述浮法玻璃用以氧化物为基准的质量百分率表示时，Si02: 65 ~75%、A1203:0 ~3%,CaO:5 ~15%,MgO:0 ~15%、Na20:10 ~20%、K20:0 ~3%、Li20:0 ~5%、Fe203:0 ~3%、Ti02:0 ~5%、Ce02:0 ~3%,BaO:0 ~5%,SrO:
0~5%、B203:0 ~5%、ZnO:0 ~5%、Zr02:0 ~5%、Sn02:0 ~3%、S03:0 ~0.5%。
[0023]发明的效果
[0024]根据本发明，能够提供可以抑制由BHF处理导致的雾度上升的浮法玻璃的制造方法。 【专利附图】
【附图说明】
[0025]图1是本发明的一个实施方式的浮法玻璃的制造方法的说明图，是浮法槽的平面首1J视图。
[0026]图2是图1的浮法槽的侧面剖视图。
【具体实施方式】
[0027]本实施方式的浮法玻璃的制造方法具备熔解工序、成型工序、缓冷工序、切断工序、研磨工序。需要说明的是，根据浮法玻璃的用途，也可以不具备研磨工序。
[0028]熔解工序是使将多种原料混合而制备的玻璃原料熔解，从而得到熔融玻璃的工序。玻璃原料在投入到熔解炉内后，通过燃烧器所喷射的火焰的辐射热而熔解，成为熔融玻璃。熔融玻璃被连续地供给到槽内的熔融锡上。
[0029]成型工序是在槽内的熔融锡上边使熔融玻璃向规定方向流动边使熔融玻璃冷却，从而成型为带板状的工序。将熔融玻璃成型为带板状而成的板状玻璃在槽的出口附近从熔融锡中被提拉出并运送到缓冷炉内。
[0030]缓冷工序是将板状玻璃在缓冷炉内进行缓冷的工序。将板状玻璃边从缓冷炉内的入口向出口运送边缓冷。缓冷炉的出口向大气开放，因此缓冷炉内的气氛由空气等形成。
[0031]切断工序是将缓冷后的板状玻璃用切断机切断成规定尺寸的工序。在该工序中，板状玻璃的宽度方向两边缘部(所谓的边部)被切除。这是因为，板状玻璃的宽度方向两边缘部因表面张力等的影响而变得较厚。
[0032]研磨工序是在切断工序后对板状玻璃的两个主面中的、在槽内与熔融锡接触的面(以下称为“底面”)进行研磨的工序。研磨的目的是板状玻璃的平滑化等。板状玻璃的两个主面中的、与底面为相反侧的面(以下称为“顶面”)通常不进行研磨。
[0033]通过这样操作，能够获得制品浮法玻璃。浮法玻璃的用途没有特别限定，例如，为液晶显示器、有机EL显示器等显示器用的基板；显示器用的盖玻璃、光掩模用的基板等。
[0034]以下，基于图1和图2，对成型工序进行详细说明。
[0035]图1是本发明的一个实施方式的浮法玻璃的制造方法的说明图，是槽的平面剖视图。图2是图1的槽的侧面剖视图。 [0036]成型工序是在槽10内的熔融锡20上边使熔融玻璃30向规定方向(X方向)连续地流动边使熔融玻璃30冷却，从而成型为带板状的工序。熔融玻璃30的成型利用熔融锡20的水平的上表面进行。为了防止熔融锡20的氧化，槽10内的气氛40成为包含氢气的还原气氛。为了防止外气的侵入，槽10内保持正压。
[0037]槽10中设有流道出口唇板(spout lip) 50、加热器60、供气通路70、排气通路80
坐寸。
[0038]流道出口唇板50是将熔融玻璃30供给到槽10内的供给流路，设置于槽10的入口 12。流道出口唇板50连接于用于制作熔融玻璃30的熔解炉。
[0039]加热器60用于将槽10内加热，例如，如图2所示，从槽10的顶部悬吊。加热器60例如在熔融玻璃30的流动方向(X方向)和宽度方向(Y方向)隔开间隔地设置多个，配置成矩阵状。
[0040]加热器60的输出功率按照熔融玻璃30的温度从槽10的入口 12朝向出口 14变低的方式进行控制。另外，加热器60的输出功率按照熔融玻璃30的温度在宽度方向(Y方向)达到均匀的方式进行控制。
[0041]供气通路70是向槽10内供给还原性气体的通路，例如，如图2所示，设置于槽10的顶部。供气通路70在规定方向(X方向)隔开间隔地设置多个。
[0042]还原性气体也可以是氢气与氮气的混合气体。氢气在还原性气体中所占的比例例如是0.1~15体积％。
[0043]排气通路80是排出槽10内的气氛40的通路，例如，如图2所示，设置于槽10的侧壁。排气通路80在规定方向(X方向)隔开间隔地设置多个。
[0044]如图2所示，将熔融玻璃30成型为带板状而成的板状玻璃100在槽10的出口 14附近从熔融锡20被提拉出。然后，板状玻璃100经由缓冷工序、切断工序、研磨工序等而成为制品浮法玻璃。
[0045]然而，浮法玻璃有时出于表面的去污、表面的粗化等目的而用缓冲氢氟酸(BHF)进行表面处理。BHF是氢氟酸(HF)和氟化铵(NH4F)混合而成的化学试剂。
[0046]本发明人等通过实验发现:BHF处理后的雾度(模糊度)被熔融玻璃30上的气氛40的组成所左右。另外，本发明人等调查了 BHF处理后的雾度为阈值以上的浮法玻璃的组成，发现浮法玻璃中的硫浓度或氯浓度与雾度之间存在密切关联。
[0047]因而，为了抑制由BHF处理导致的雾度上升，本实施方式中，使气氛40中包含硫或氯的添加物质的浓度在熔融玻璃30的至少一部分的上方为lmg/Nm3以上(优选为5mg/Nm3以上)。“Nm3”是标准立方米，表示换算成标准状态(1个大气压、0°C)的平均lm3的气体体积。另外，本说明书中，以下同样地将硫和氯统称为“添加物质”。推测前述添加物质的存在会抑制暴露于气氛40的顶面的分相，使顶面的组织均匀。由于顶面的组织变得均匀，因此还能够提高浮法玻璃的强度。
[0048]顶面的组织容易被气氛40的高温部分的组成所左右，因此为了充分地获得上述效果，优选的是，气氛40中的添加物质的浓度至少在熔融玻璃30的粘度达到106dPa.s以下的位置的上方为lmg/Nm3以上。更优选的范围是5mg/Nm3以上。
[0049]此处，作为熔融玻璃30的粘度，使用熔融玻璃30的宽度方向中央的粘度作为代表值。由于熔融玻璃30的温度在宽度方向(Y方向)大致是均匀的，因此熔融玻璃30的粘度在宽度方向大致也是均匀的。需要说明的是，与熔融玻璃30的宽度方向中央的粘度达到106dPa.s的位置相比处于下游侧(低温侧)的添加物质浓度没有特别限定，可以是lmg/Nm3以上，也可以低于lmg/Nm3。
[0050]另一方面，气氛40中的添加物质的浓度变得过剩时，会产生固体的硫化物或氯化物而落到熔融玻璃30的上表面。因而，为了抑制硫化物或氯化物的下落，对于气氛40中的添加物质的浓度，优选的是，在硫的情况下为10mg/Nm3以下、在氯的情况下为20mg/Nm3以下。
[0051]气氛40中的添加物质主要以化合物的气体的形式存在。作为化合物，例如可列举出硫化氢(H2S)等硫化物、氯化氢(HC1)等氯化物。气氛40中的硫浓度/氯浓度的测定方法见后述。
[0052]作为调节气氛40中的添加物质的浓度的方法，没有特别限定，例如有下述的(1)~(2)的方法。
[0053](1)的方法是调节熔融锡20中的添加物质的浓度的方法。熔融锡20中的添加物质的浓度变得越高，则从熔融锡20向气氛40中释放出的硫或氯的量越增加，因此气氛40中的添加物质的浓度变高。`
[0054]熔融锡20中的添加物质的浓度的调节通过向熔融锡20中供给硫或硫化物或者氯化物来实现。该供给只要是在熔融锡20的上表面之中的、未被熔融玻璃30覆盖的部分进行，则可以在槽10内的任意位置实施。这是因为，随着熔融玻璃30的流动，熔融锡20也会流动，因此熔融锡20实现均质化。
[0055]作为硫化物，例如可以使用硫化锡(SnS )等硫化物、硫酸钙(CaS04)等硫酸盐，硫的价数没有特别限定。它们之中，优选能够抑制熔融锡20的污染/变质且沸点高的硫化锡。作为氯化物，例如可以使用氯化锡(SnCl2)、次氯酸钠(NaCIO)等，它们之中，优选能够抑制熔融锡20的污染/变质且沸点高的氯化锡。
[0056]熔融锡20中的添加物质的浓度根据槽10的容量、构成、气氛40的供气速度、排气速度等而设定，例如为1质量ppm以上。由此，能够使气氛40中的添加物质的浓度在熔融玻璃30的至少一部分的上方为lmg/Nm3以上。
[0057]添加物质为硫的情况下，熔融锡20中的硫浓度优选为3质量ppm以上。添加物质为氯的情况下，熔融锡20中的氯浓度优选为5质量ppm以上。
[0058]另外，为了抑制硫化锡附着于底面、顶面而成为缺陷，熔融锡20中的硫浓度可以是30质量ppm以下。
[0059](2)的方法是用于调节成为熔融玻璃30的玻璃原料中的添加物质的浓度的方法。玻璃原料中的添加物质的浓度变得越高，则从熔融玻璃30向气氛40释放出的添加物质的量越增加，因此气氛40中的添加物质的浓度变高。作为添加物质的释放途径，有经由熔融锡20的途径和不经由熔融锡20的途径。
[0060]玻璃原料中的添加物质的浓度的调节通过向玻璃原料中添加硫或硫化物或者氯化物来实现。作为硫化物，例如可以使用硫化锡(SnS)等硫化物、硫酸钙(CaS04)等硫酸盐，硫的价数没 有特别限定。作为氯化物，可以使用氯化钙(CaCl2)。
[0061]玻璃原料中的添加物质大多释放至熔解炉内的气氛中，一部分释放至槽10内的气氛中，剩余部分包含在板状玻璃100、进而浮法玻璃中。
[0062]向玻璃原料中添加的硫或硫化物或者氯化物的量根据浮法玻璃中残留的添加物质的浓度、槽10的容积、构成、气氛40的供气速度、排气速度等而设定，例如按照浮法玻璃中的残留硫浓度达到100原子ppm以上的方式、或者按照残留氯浓度达到0.3质量％以上的方式进行设定。由此，与(1)的方法同样地能够使气氛40中的添加物质浓度在熔融玻璃30的至少一部分的上方为lmg/Nm3以上。
[0063]熔融玻璃30的温度变得越高，则从熔融玻璃30向气氛40释放出的添加物质的量越增加。如图2所示，在熔融玻璃30的流动方向(X方向)隔开间隔地设置多个排气通路80的情况下，气体难以在X方向流动，因此，气氛40中的添加物质的浓度成为与熔融玻璃30的温度成正比的值，越处于上游侧(高温侧)，则值越高。
[0064]浮法玻璃中的添加物质为硫时，硫浓度优选为100原子ppm以上、更优选为200原子ppm以上。浮法玻璃中的添加物质为氯时，氯浓度优选为0.3质量％以上、更优选为0.5
质量％以上。
[0065]另外，为了限制熔融玻璃30的发泡、进而降低浮法玻璃的缺陷，浮法玻璃中的硫浓度可以为2000原子ppm以下。与前述同样地，为了限制熔融玻璃30的发泡、进而降低浮法玻璃的缺陷，氯浓度可以为1.0质量％以下。
[0066]浮法玻璃在用作液晶显示器用的基板时，由实质上不含碱金属氧化物的无碱玻璃构成。这是因为，碱金属氧化物会对液晶显示器的显示特性造成不良影响。
[0067]例如，浮法玻璃用以氧化物为基准的质量百分率表示时，含有Si02: 50~66%、A1203:10.5 ~24%、B203:0 ~12%、MgO:0 ~8%、CaO:0 ~14.5%、SrO:0 ~24%、BaO:0 ~
13.5%、Zr02:0 ~5%、Sn0:0 ~3%，且 MgO + CaO + SrO + BaO:9 ~29.5%,碱金属氧化物的总含量为0.1%以下。
[0068]另外，浮法玻璃中，优选的是，用以氧化物为基准的质量百分率表示时，含有Si02:58 ~66%、A1203:15 ~22%、B203:5 ~12%、MgO:0 ~8%、Ca0:0 ~9%、SrO:3 ~12.5%,BaO:0~2%、Sn0:0~1%，且MgO + CaO + SrO + BaO:9~18%，碱金属氧化物的总含量为0.1%以下。
[0069]以上，针对本发明的一个实施方式进行了说明，但本发明不限定于上述的实施方式。可以不脱离本发明的范围地对上述实施方式施加各种变形和置换。
[0070]例如，上述实施方式的浮法玻璃的玻璃的种类为无碱玻璃，但本发明不限定于此。例如，浮法玻璃的玻璃的种类也可以是钠钙玻璃。
[0071]在钠钙玻璃的情况下，优选的是，用以下述氧化物为基准的质量百分率表示时具有如下组成:Si02: 65 ~75%、A1203:0 ~3%、CaO:5 ~15%、MgO:0 ~15%、Na20:10 ~20%、K20:0 ~3%、Li20:0 ~5%、Fe203:0 ~3%、Ti02:0 ~5%、Ce02:0 ~3%、Ba0:0 ~5%、Sr0:0 ~5%、B203:0 ~5%、ZnO:0 ~5%、Zr02:0 ~5%、Sn02:0 ~3%、S03:0 ~0.5%。
[0072]实施例
[0073]以下，通过实施例等对本发明进行具体说明，但本发明不限定于这些例子。
[0074][各种数据的测定方法]
[0075](槽内的气氛中的硫浓度/氯浓度)
[0076]槽内的气氛是用泵抽吸穿通于槽侧壁的石英管内而得到的。抽吸速度设为2NL/min (= 2 X lCT3Nm3/min),总抽吸量设为 100NL (=0.1Nm3)。
[0077]石英管的长度为120cm，石英管的吸入口配置于距离槽的内壁面为70cm内侧的位置。石英管的吸入口配置于熔融玻璃的宽度方向中央的粘度达到lX105dPa.s的位置的侧方。石英管的一部分露出于槽的外部，从石英管的外侧用干冰进行冷却。
[0078]槽内的气氛在穿过石英管内的过程中被干冰冷却后，用冲击器(impinger )管内的水进行鼓泡，释放至大气中。气氛中的多种成分之中，沸点高的成分凝集于石英管的被干冰冷却的部分，沸点低的成分被冲击器管内的水所捕集。
[0079]添加物质为硫时，用盐酸清洗石英管内而得到的清洗液中的硫的质量、以及冲击器管内的水中的硫的质量分别用ICP分光测定装置(Seiko Instruments Inc.制、SPQ9600)进行测定。添加物质为氯时，使用碱溶液代替盐酸来清洗石英管内。
[0080]槽内的气氛中的添加物质的浓度(mg/Nm3)是利用ICP分光测定装置测定的添加物质(硫或氯)的总质量(mg)除以泵所抽吸的的总抽吸量(Nm3)而算出的。
[0081]需要说明的是，槽与图2所示的槽10为相同构成，排气通路在X方向隔开间隔地设置多个，因此越处于熔融玻璃的上游侧，则气氛中的添加物质的浓度变得越高。
[0082](熔融锡中的添加物质的浓度)
[0083]测定用样品是将槽内的熔融锡(具体而言是熔融锡)用充分冷却了的铁制的舀勺舀出后，进行骤冷而制作的。舀取熔融锡的位置设为熔融玻璃的宽度方向中央的粘度达到
1X 105dPa.S的位置的侧方。
[0084]测定用样品中的硫浓度利用碳-硫分析装置(堀场制作所制、EMIA-920V)进行测定。该碳-硫分析装置是使用IR (红外线分光)检测器对使测定用样品在氧气气流中燃烧而产生的燃烧气体进行分析的装置。
[0085]需要说明的是，熔融锡中的硫浓度是恒定的，与舀出熔融锡的位置无关。如上所述，这是因为伴随着熔融玻璃的流动，熔融锡也会流动，因此熔融锡实现均质化。
[0086]测定用样品中的氯浓度利用辉光放电式质谱分析(Glow Discharge MassSpectrometry:GDMS)装置(堀场制作所制⑶-Profiler2)进行测定。该GDMS分析装置利用Ar等离子体使试样发生溅射，并使所溅射的原子进行原子发光，从而进行元素分析。
[0087](浮法玻璃中的添加物质的浓度)
[0088]浮法玻璃中的添加物质的浓度利用突光X射线分析装置(Rigaku Corporation制、ZSXIOOe)进行测定。测定部位设为底面与顶面之间的中央。
[0089](浮法玻璃的BHF处理后的雾度)
[0090]作为试验片，准备底面进行了研磨的浮法玻璃。顶面未进行研磨。
[0091]试验片通过在25°C的BHF的溶液中浸溃20分钟而进行表面处理。作为BHF的溶液，使用了将HF:5质量％的水溶液10质量份和NH4F:40%质量的水溶液90质量份混合而成的溶液。
[0092]试验片在BHF处理后依次浸溃在自来水、蒸馏水、IPA (异丙醇)中进行清洗，干燥后供于雾度的测定。
[0093]BHF处理后的试验片的雾度(JIS K7136:2000 (IS014782:1999))用雾度计(日本电色工业株式会社制、NDH500)进行测定。“雾度”是指在穿过试验片的透射光之中，由于前向散射而自入射光偏离2.5°以上的透射光的百分率。透射试验片的光的光轴设为与试验片的板厚方向平行。
[0094](浮法玻璃的强度)
[0095]作为试验片，准备底面进行了研磨的浮法玻璃(板厚0.7mm)。顶面未进行研磨。
[0096]试验片的强度如下算出:使试验片的顶面朝下并载置于圆环状的环上，用中心配置在环的中心线上的球按压试验片的底面，测定试验片破裂时的载重W，基于下述的式(1)而算出。
[0097]S = 5.2521 XW-2.5672....(1)
[0098]式(1)中，S表示试验片的强度(GPa)，W表示破坏载重(kN)。需要说明的是，环的剖面形状为直径5mm的圆形，环的上端边缘的直径为30mm。另外，球的直径为10mm。
[0099][例1 ~例 7]
[0100]例1~例7中，除了改变玻璃原料的配方之外，同样操作来制造浮法玻璃。各玻璃原料通过改变相对于混合多种原料而成的基体材料的、硫酸盐(CaS04)或氯化物(CaCl2)的添加量来制备。
[0101]例1、例4以及例7是比较例。例2、例3、例5以及例6是实施例。另外，例1~例6中的硫酸盐、氯化物的添加量为微量，例7中的硫酸盐、氯化物的添加量为0。因此，各例中得到的浮法玻璃基本具有相同的组成，例4中得到的浮法玻璃用以氧化物为基准的质量百分率表示时含有 Si02:59.5%、A1203:17%、B203:8%、MgO:3.3%、CaO:4%、SrO:7.6%、BaO:0.1%、Zr02:0.1%，且MgO + CaO + SrO + BaO: 15%，余量为不可避免的杂质，碱金属氧化物的总含量为0.1%以下。
[0102]例1~例7的浮法玻璃的上述数据是在槽内的气氛中的添加物质的浓度稳定后测定的。测定结果示于表1。
[0103][表 1]
[0104]
【权利要求】
1.一种浮法玻璃的制造方法，其具备在浮法槽内的熔融锡上边使熔融玻璃向规定方向流动边使熔融玻璃冷却、从而成型为带板状的工序，该制造方法中，所述熔融玻璃上的气氛是包含氢气的还原气氛，该气氛中含有包含硫或氯的添加物质，所述气氛中的添加物质的浓度在所述熔融玻璃的至少一部分的上方为lmg/Nm3以上。
2.根据权利要求1所述的浮法玻璃的制造方法，其中，所述气氛中的添加物质浓度至少在所述熔融玻璃的粘度达到lX106dPa.s以下的位置的上方为lmg/Nm3以上。
3.根据权利要求1或2所述的浮法玻璃的制造方法，其中，所述添加物质为硫，所述浮法玻璃中的硫的浓度为100原子ppm以上。
4.根据权利要求1或2所述的浮法玻璃的制造方法，其中，所述添加物质为氯，所述浮法玻璃中的氯的浓度为0.3质量％以上。
5.根据权利要求1~4中任一项所述的浮法玻璃的制造方法，其中，所述浮法玻璃用以氧化物为基准的质量百分率表示时，含有Si02: 50~66%、A1203:10.5~24%、B203:0~12%、MgO:0 ~8%、CaO:0 ~14.5%、SrO:0 ~24%、BaO:0 ~13.5%、Zr02:0 ~5%、SnO:0 ~3%，且MgO + CaO + SrO + BaO:9~29.5%，碱金属氧化物的总含量为0.1%以下。
6.根据权利要求5所述的浮法玻璃的制造方法，其中，所述浮法玻璃用以氧化物为基准的质量百分率表示时，含有Si02: 58~66%、A1203:15~22%、B203:5~12%,MgO:0~8%、CaO:0 ~9%、SrO:3 ~12.5%、BaO:0 ~2%、SnO:0 ~1%，且 MgO + CaO + SrO + BaO:9 ~18%，碱金属氧化物的总含量为0.1%以下。
7.根据权利要求1~4中任一项所述的浮法玻璃的制造方法，其中，所述浮法玻璃用以氧化物为基准的质量百分率表示时，Si02: 65~75%、A1203:0~3%、CaO:5~15%、MgO:0~15%、Na20:10 ~20%、K20:0 ~3%、Li20:0 ~5%、Fe203:0 ~3%、Ti02:0 ~5%、Ce02:0 ~3%、BaO:0 ~5%、SrO:0 ~5%、B203:0 ~5%、ZnO:0 ~5%、Zr02:0 ~5%、Sn02:0 ~3%、S03:0 ~.0.5%。
【文档编号】C03C3/091GK103687822SQ201280035900
【公开日】2014年3月26日 申请日期:2012年7月17日 优先权日:2011年7月20日
【发明者】谷井史朗, 福原一浩 申请人:旭硝子株式会社