一种瓷砖淋釉装置的制作方法

本实用新型涉及陶瓷制造设备领域，具体是一种瓷砖淋釉装置。

背景技术：

釉面砖是装修中最常见的砖种，由于色彩图案丰富，而且防污能力强，因此被广泛使用于墙面和地面装修。釉面砖在制作过程中，施釉是其中最重要的步骤之一，施釉的工艺质量能够最终决定瓷砖的成品质量。目前普遍应用的施釉方法有三种：喷釉、浸釉和淋釉。由于喷釉容易施釉不均，浸釉又容易导致釉层过厚，因此淋釉是普遍优选的实施方式。现有市面上的淋釉机种类繁多，多效仿国外技术，结构复杂，且淋釉质量参差不齐。而且目前，在钟罩式淋油器中多数采用球阀，闸阀和蝶阀对陶瓷釉液的流量进行控制。但上述几种阀门均存在如下缺陷 ：闸阀的启闭时间太长；球阀的阀芯和阀柱不是一体，容易脱扣，密封性差；蝶阀的启闭力矩太大，以上控制阀对釉液流量不易调节，产品的质量得不到保证；而且现有的淋釉设备会造成大量釉液的浪费，没有很好的回收。且现有的淋釉器还存在着一定的淋釉死角。

技术实现要素：

本实用新型的目的在于提供一种瓷砖淋釉装置，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：

一种瓷砖淋釉装置，包括釉料仓，所述釉料仓的上端设有进料口，进料口通过连接管连接有储釉箱，储釉箱的右侧设有振动筛，振动筛的右侧设有原釉箱，所述原釉箱通过连接管连接振动筛，振动筛的左侧设有出料槽，出料槽设于储釉箱正上方，所述釉料仓的右侧壁还连接有回收管，回收管的另一端连接振动筛；所述釉料仓的下方开设出料口，在出料口上设置出料阀，出料阀的下端连接有溢流管，溢流管的下端连接有淋釉钟罩，所述出料阀包括阀体和塞体，所述塞体为圆柱体结构，塞体上对称设有釉液通孔，塞体一端位于阀体内，另一端穿过密封座位于阀杆内，并通过螺栓与阀杆连接；所述淋釉钟罩的下方设有瓷砖放置台，瓷砖放置台的上表面边侧环绕设有挡沿，瓷砖放置台的下端中心安装有轴承座，轴承座内设有转轴，转轴的下端安装在底座上，所述瓷砖放置台上靠近挡沿处还均匀设有漏釉孔，底座上设有接釉盘，接釉盘位于漏釉孔正下方。

作为本实用新型进一步的方案：所述阀体、塞体、阀杆和密封座均采用铜制成。

作为本实用新型再进一步的方案：所述塞体上的阀杆可使塞体在竖直面上90°旋转。

作为本实用新型再进一步的方案：所述密封座与阀体连接处外围设有压环。

作为本实用新型再进一步的方案：所述溢流管为圆管形或漏斗形。

作为本实用新型再进一步的方案：所述溢流管与淋釉钟罩连接处还设有过滤网。

作为本实用新型再进一步的方案：所述底座内中心处安装有加重块。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：本实用新型结构简单合理，使用方便，淋釉方便，淋釉均匀，有效提高产品质量，而且自动化程度高，有效减少工人的劳动强度，提高釉料的利用率，而且采用的阀门的阀体与塞体开通和关闭的磨擦阻力小，开启时间短，密封严密；而且节约了资源，残釉方便回收，放置台可以旋转，淋釉无死角。

附图说明

图1为瓷砖淋釉装置的结构示意图；

图2为瓷砖淋釉装置中出料阀的结构示意图；

图中：1-釉料仓、2-进料口、3-储釉箱、4-振动筛、5-原釉箱、6-出料槽、7-回收管、8-出料阀、81-阀体、82-塞体、83-阀杆、84-密封座、85-压环、86-螺栓、87-釉液通孔、9-溢流管、10-过滤网、11-淋釉钟罩、12-瓷砖放置台、13-挡沿、14-轴承座、15-转轴、16-底座、17-漏釉孔、18-接釉盘、19-加重块。

具体实施方式

下面结合具体实施方式对本专利的技术方案作进一步详细地说明。

请参阅图1-2，一种瓷砖淋釉装置，包括釉料仓1，所述釉料仓1的上端设有进料口2，进料口2通过连接管连接有储釉箱3，储釉箱3的右侧设有振动筛4，振动筛4的右侧设有原釉箱5，所述原釉箱5通过连接管连接振动筛4，振动筛4的左侧设有出料槽6，出料槽6设于储釉箱3正上方，所述釉料仓1的右侧壁还连接有回收管7，回收管7的另一端连接振动筛4，回收管7可以对釉料仓1内的剩余釉料进行收集，再经过振动筛4的筛选收纳于储釉箱3内进行下次使用，节省了资源；所述釉料仓1的下方开设出料口，在出料口上设置出料阀8，出料阀8的下端连接有溢流管9，溢流管9的下端连接有淋釉钟罩11，所述出料阀8包括阀体81和塞体82，所述塞体82为圆柱体结构，塞体82上对称设有釉液通孔87，塞体82一端位于阀体81内，另一端穿过密封座84位于阀杆83内，并通过螺栓86与阀杆83连接；所述阀体81、塞体82、阀杆83和密封座84均采用铜制成。

所述塞体82上的阀杆83可使塞体82在竖直面上90°旋转，塞体82上釉液通孔87实现了开通与关闭。所述密封座84与阀体81连接处外围设有压环85。所述溢流管87为圆管形或漏斗形。

通过对阀杆83的旋转 90°时阀体81内的塞体82随着转动，使塞体82上釉液通孔87与阀体81上的进料口错开，旋塞阀关闭；当阀杆83向原来方向旋转时使釉液通孔87与进料口慢慢对位，实现了旋塞阀的开启。阀杆83的旋转度与淋釉液的流量成正比。

所述溢流管9与淋釉钟罩11连接处还设有过滤网10。

所述淋釉钟罩11的下方设有瓷砖放置台12，瓷砖放置台12的上表面边侧环绕设有挡沿13，瓷砖放置台12的下端中心安装有轴承座14，轴承座14内设有转轴15，转轴15的下端安装在底座16上，所述瓷砖放置台12上靠近挡沿13处还均匀设有漏釉孔17，底座16上设有接釉盘18，接釉盘18位于漏釉孔17正下方；在进行淋釉时，不可能所有的釉液全部涂覆于瓷砖表面，总有些釉液会落入瓷砖放置台12上，此时挡沿13可以避免釉液沿瓷砖放置台12表面流下，对底座进行污染，而这部分釉液会通过漏釉孔17落入接釉盘18内，进行有效收集。

所述底座16内中心处安装有加重块19，加重块19可以提高底座16的稳定性。

上面对本专利的较佳实施方式作了详细说明，但是本专利并不限于上述实施方式，在本领域的普通技术人员所具备的知识范围内，还可以在不脱离本专利宗旨的前提下做出各种变化。