一种通过降低风阻实现降噪的结构及吹干装置的制作方法

文档序号:11165339阅读:445来源:国知局
一种通过降低风阻实现降噪的结构及吹干装置的制造方法

本实用新型涉及一种降噪结构,尤其涉及一种通过降低风阻实现降噪的结构及吹干装置。



背景技术:

千百年来,人们洗澡、洗脚后,均使用擦脚布来擦干脚部,然后再搓洗、晾晒擦脚布。这种通过物理方式擦拭的方法,并不能真正擦干脚部皮肤水分,为脚部真菌提供了滋生环境,容易存活繁衍,并且这种方式会费时、费水做二次清洁(搓洗擦脚布、再清洗、消毒手部);同时,擦脚后需要清洗、晾晒、摆放擦脚毛巾,这样极易造成交叉污染,增加脚部疾病的传染率。

为了解决上述问题,现在市场上也出现了用于吹干脚部的装置,借助风力对脚部进行吹干。但现有的相关装置,在使用时,出风口处会产生很大的噪音,极大地降低了用户体验度。



技术实现要素:

为了弥补上述现有技术的缺陷,本实用新型的目的是提供一种结构简单、降噪效果好的通过降低风阻实现降噪的结构及吹干装置。

为达到上述目的,本实用新型的技术方案是:

一种通过降低风阻实现降噪的结构,包括本体及设于本体内部的风腔;所述风腔上设有至少一个出风口和至少一个进风口;所述出风口呈内大外小的圆台形;所述进风口与风道的风道出风口连通,且两者的中轴线一致。

采用上述技术方案,由于出风口呈内大外小的圆台形,使得风流经出风口吹出时,增加了风压,利于将风快速吹出;同时,进风口与风道的风道出风口连通,且两者的中轴线一致,使得产生的风阻大大减小,从而降低了产生的噪音,提高了用户体验度。

进一步的,为了使得风力从出风口处吹出来后,方便对人体的脚部吹干,所述出风口的中轴线与竖直线的夹角β为10~90°。

进一步的,为了减小风力在风腔内的风阻,所述风腔的横截面呈四角圆弧过渡的方形。

进一步的,为了使得风力经过风腔后能与水平面形成适合吹干人体脚部的角度,所述风腔的中轴线与竖直线的夹角为0~90°。

进一步的,为了更好地降低风阻,所述风腔一端开口,构成所述进风口;所述出风口设置在风腔的另一端的中间处。

本实用新型还提供了一种吹干装置,包括电机及风道结构,在风道的风道出风口处设有降噪结构;所述降噪结构包括本体及设于本体内部的风腔;其特征在于:所述风腔上设有至少一个出风口和至少一个进风口;所述出风口呈内大外小的圆台形;所述进风口与风道的风道出风口连通。

进一步的,所述出风口的中轴线与竖直线的夹角β为10~90°,最优选择是 30~60°。

进一步的,所述风腔的横截面呈四角圆弧过渡的方形,其中轴线与竖直线的夹角为0~90°。

进一步的,所述风腔一端开口,构成所述进风口;所述出风口设置在风腔的另一端的中间处。

下面结合附图和具体实施例对本实用新型作进一步描述。

附图说明

图1为本实用新型一种通过降低风阻实现降噪的结构具体实施例的结构示意图。

1 本体 2 风腔

21 出风口 22 进风口

具体实施方式

为了更充分理解本发明的技术内容,下面结合具体实施例对本发明的技术方案进一步介绍和说明,但不局限于此。

如图1所示,一种通过降低风阻实现降噪的结构,包括本体1及设于本体内部的风腔2;风腔2上设有多个出风口21和一个进风口22;出风口21呈内大外小的圆台形;进风口22与风道的风道出风口连通;出风口21与竖直线的夹角β为10~90°;风腔2的横截面呈四角圆弧过渡的方形;风腔2的中轴线与竖直线的夹角为10~90°;风腔2一端开口,构成进风口22,多个出风口21成排地设置在风腔2的另一端的中间处。

一种吹干装置,包括电机(图中未示出)及风道结构(图中未示出),在风道的风道出风口处设有降噪结构;降噪结构包括本体1及设于本体内部的风腔2;风腔2上设有多个出风口21和一个进风口22;出风口21呈内大外小的圆台形;进风口22与风道的风道出风口连通;出风口21与竖直线的夹角β为 10~90°;风腔2的横截面呈四角圆弧过渡的方形;风腔2的中轴线与竖直线的夹角为10~90°;风腔2一端开口,构成进风口22,多个出风口21成排地设置在风腔2的另一端的中间处风腔2内设置有加热装置(图中未示出)。

采用上述技术方案,由于出风口21呈内大外小的圆台形,使得风流经出风口21吹出时,增加了风压,利于将风快速吹出;同时,进风口22与风道的风道出风口连通,且两者的中轴线一致,使得产生的风阻大大减小,从而降低了产生的噪音,提高了用户体验度;还有风腔2的中轴线、出风口21的中轴线均与竖直线的夹角为10~90°,优选是30~60°,使得经过本结构吹出的风,非常适合对人体脚部进行吹干;还有风腔2的横截面呈四角圆弧过渡的方形,使得风力在风腔2中运行时,风阻很小,产生的噪音也小。

上述仅以实施例来进一步说明本实用新型的技术内容,以便于读者更容易理解,但不代表本实用新型的实施方式仅限于此,任何依本实用新型所做的技术延伸或再创造,均受本实用新型的保护。本实用新型的保护范围以权利要求书为准。

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