专利名称：：真空台遮罩、真空固定装置及工件真空固定到其上的方法
技术领域：
：本发明大体上涉及真空固定装置(vacuumhold-downapparatus)，更具体而言，涉及采用真空固定装置的检验系统。
背景技术：
：据信，以下美国专利代表了所属领域的现状5,671910及5，709，023,6,422，548及7，469，886。
发明内容本发明的目的是提供一种真空固定装置。根据本发明一方面提供一种用于各种形状及/或尺寸的工件的真空固定系统。该系统包括真空固定台以及有孔的真空台遮罩。真空固定台界定遮罩支撑平面。有孔的真空台遮罩可选择性地定位在遮罩支撑平面上，真空固定台及真空台遮罩被构造成通过在遮罩支撑平面中对真空台遮罩与真空固定台进行适当的相对定位来界定多个可选择的不同的相邻真空孔阵列。根据本发明的较佳实施例，真空固定台在其支撑表面上排列有真空孔口(vacuumorifice)阵列；并且真空台遮罩在其上面形成有至少两个孔阵列，所述至少两个孔阵列相互偏置，所述至少两个孔阵列中的每一者均可与真空孔口阵列的至少某些真空孔口对齐，所述至少两个孔阵列中的每一者的每一个孔均被构造成位于所述工件中的至少一者的下根据本发明的较佳实施例，真空台遮罩在其支撑表面上排列有孔阵列，该遮罩被构造成位于所述工件中的至少一者的下面；并且真空固定台在其上面形成有至少两个真空孔口阵列，所述至少两个真空孔口阵列相互偏置，该遮罩的孔中的至少某些可与所述至少两个孔口阵列中的每一者的孔口对齐。根据本发明另一方面提供一种用于各种形状及/或尺寸的工件的真空固定系统。该系统包括真空固定台以及真空台遮罩。真空固定台在其支撑表面上排列有真空孔口阵列。真空台遮罩在其上面形成有至少两个孔阵列，所述至少两个孔阵列相互偏置，所述至少两个孔阵列中的每一者均可与真空孔口阵列的至少某些真空孔口对齐，所述至少两个孔阵列中的每一者的每一个孔均被构造成位于所述工件中的至少一者的下面。根据本发明的又一方面提供一种用于各种形状及/或尺寸的工件的真空固定系统。该系统包括真空台遮罩以及真空固定台。真空台遮罩在其支撑表面上排列有孔阵列，5该遮罩被构造成位于所述工件中的至少一者的下面。真空固定台在其上面形成有至少两个真空孔口阵列，所述至少两个真空孔口阵列相互偏置，该遮罩的孔中的至少某些可与所述至少两个孔口阵列中的每一者的孔口对齐。较佳地，每一个孔的横截面尺寸至少略大于每一真空孔口的横截面尺寸。较佳地，真空台遮罩位于真空固定台的上方。作为另外一种选择，真空台遮罩位于真空固定台的增压室(plenum)内。根据本发明的较佳实施例，所述至少两个阵列的区域至少部分地重叠。根据本发明的较佳实施例，真空固定台在其上面排列有支撑表面阵列，并且真空台遮罩在其上面形成有孔阵列。根据本发明的较佳实施例，真空台遮罩具有孔阵列，该遮罩被构造成位于所述工件中的至少一者的下面，并且真空固定台在其上面形成有至少两个支撑表面阵列，所述至少两个阵列中的不同阵列的支撑表面具有不同的横截面构形，所述至少两个阵列中的每一阵列的支撑表面具有相同的横截面构形，该遮罩的孔被构造成不覆在所述至少两个支撑表面阵列中的至少一者的支撑表面上。较佳地，真空台遮罩位于支撑表面的上方。较佳地，真空台遮罩可相对于真空固定台定位在至少两个可选择的位置处。另外或作为另外一种选择，真空台遮罩包括四个孔阵列。根据本发明的较佳实施例，真空台遮罩可相对于真空固定台定位在四个可选择的位置处。另外，所述四个可选择的位置是由真空固定台的隅角界定。根据本发明的再一方面提供一种用于真空固定台以及各种形状及/或尺寸的工件的真空台遮罩。真空固定台在其支撑表面上排列有真空孔口阵列。该遮罩包括基板，在该基板上形成有至少两个孔阵列，所述至少两个孔阵列相互偏置，所述至少两个孔阵列中的每一者均可与真空孔口阵列的至少某些真空孔口对齐。根据本发明的较佳实施例，所述至少两个孔阵列的每一个孔的横截面尺寸至少略大于真空孔口阵列的每一真空孔口的横截面尺寸。另外或作为另外一种选择，真空台遮罩包括四个孔阵列。另外或作为另外一种选择，所述至少两个阵列的区域至少部分地重叠。根据本发明的还有一方面提供一种用于将各种形状及/或尺寸的工件真空固定到真空固定台上的方法，其中真空固定台在其支撑表面上排列有真空孔口阵列。该方法包括以下步骤将真空台遮罩放置到真空固定台的支撑表面上，真空台遮罩在其上面形成有至少两个孔阵列，所述至少两个孔阵列相互偏置，所述至少两个孔阵列中的每一者均可与真空孔口阵列的至少某些真空孔口对齐，所述至少两个孔阵列中的每一者均被构造成位于所述工件中的一者的下面；将遮罩定位在支撑表面上，使得所述至少两个孔阵列中的一者与真空孔口阵列的至少某些真空孔口对齐；以及将所述各种形状及/或尺寸的工件中的为第一尺寸/形状的工件放置到真空固定台上，覆在遮罩的至少一部分上并且覆在所述至少两个孔阵列中的与真空孔口阵列的至少某些真空孔口对齐的一者上。较佳地，该方法还包括以下步骤从真空固定台移除第一尺寸/形状的工件；将遮罩重新定位在支撑表面上，使得所述至少两个孔阵列中的另一者与真空孔口阵列的至少某些真空孔口对齐；以及将所述工件中的一个第二尺寸/形状的工件放置到真空固定台上，覆在遮罩的至少一部分上并且覆在所述至少两个孔阵列中的与真空孔口阵列的至少某些真空孔口对齐的所述另一者上面。另外，所述至少两个阵列的区域至少部分地重叠。结合附图阅读以下详细说明，将会更清楚地理解和领会本发明，在附图中图1为采用根据本发明的各种实施例进行构造和操作的真空固定装置的检验系统的简化示意图；图2为典型真空台遮罩的简化平面图，该典型真空台遮罩适用于本发明的真空固定装置且其上面形成有多个孔阵列，这些孔阵列相互偏置；图3A及图3B分别为以第一相互对齐排列方式保持在根据本发明实施例的真空固定装置上的为第一尺寸的第一平面工件的平面图及剖面图，图3B为沿图3A中的线A-A截取的剖视图；图4A及图4B分别为以第二相互对齐排列方式保持在根据本发明实施例的真空固定装置上的为第二尺寸的第二平面工件的平面图及剖面图，图4B为沿图4A中的线A-A截取的剖视图；图5A及图5B分别为以第三相互对齐排列方式保持在根据本发明实施例的真空固定装置上的为第三尺寸的第三平面工件的平面图及剖面图，图5B为沿图5A中的线A-A截取的剖视图；图6A及图6B分别为以第四相互对齐排列方式保持在根据本发明实施例的真空固定装置上的为第四尺寸的第四平面工件的平面图及剖面图，图6B为沿图6A中的线A-A截取的剖视图；图7为检验系统的简化示意图，该检验系统采用根据本发明的实施例进行构造和操作的真空固定装置；图8为图7的真空固定装置在无真空台遮罩时的简化俯视图；图9为图7的真空固定装置的真空台遮罩的简化俯视图；图IOA及图IOB分别为以第一相互对齐排列方式保持在图7至图9的真空固定装置上的为第一尺寸的第一平面工件的平面图及剖面图，图IOB为沿图IOA中的线B-B截取的剖视图；图IlA及图IlB分别为以第二相互对齐排列方式保持在图7至图9的真空固定装置上的为第二尺寸的第二平面工件的平面图及剖面图，图IlB为沿图IlA中的线B-B截取的剖视图；图12A及图12B分别为以第三相互对齐排列方式保持在图7至图9的真空固定装置上的为第三尺寸的第三平面工件的平面图及剖面图，图12B为沿图12A中的线B-B截取的剖视图；以及图13A及图13B分别为以第四相互对齐排列方式保持在图7至图9的真空固定装置上的为第四尺寸的第四平面工件的平面图及剖面图，图13B为沿图13A中的线B-B截取的剖视图。具体实施例方式现在请参照图1，其为采用根据本发明的较佳实施例进行构造和操作的真空固定装置的检验系统的简化示意图。如图1所示，提供一种检验系统100(例如光学检验系统)，例如可从位于以色列Yavne的Orbotech有限公司商购获得的OrbotechDiscovery8000AOI系统。检验系统100包括真空固定台102，真空固定台102在其支撑表面106上排列有真空孔口阵列104并用于在对工件(例如平面工件108)进行光学检验期间保持工件。术语“真空孔口”在全文中以比传统用法略微更广的意义使用。当提及如在OrbotechDiscovery8000AOI系统中所用的真空固定台时，平台表面中所形成的孔洞即为真空孔口。当提及美国专利7，259，777的图15及图16中所示类型的真空固定台(此处被称为“无顶式真空固定台(toplessvacuumhold-downtable)”)时，该台的所有非凸起部分均被视为真空孔口。根据本发明的较佳实施例，除真空固定台102之外，真空固定装置还包括真空台遮罩110，其中真空台遮罩110在其上面形成有至少两个孔阵列，所述至少两个阵列的孔相互偏置，并且所述至少两个孔阵列中的每一者均可与至少某些真空孔口104对齐。较佳地，孔的横截面尺寸至少略大于真空孔口104的横截面尺寸。视需要，遮罩的孔的横截面构形在遮罩的相对的平面表面上可有所不同。例如，孔的面积可在遮罩的面向工件的表面上相对较大、而在遮罩的面向真空固定台的表面上相对较小。本发明的操作的具体特点为当试图检验第一尺寸的工件时，将遮罩110相对于真空固定台102放置在第一位置处，使得第一阵列的孔与真空固定台102的真空孔口104中的某些对齐，第一阵列的所有孔均位于第一尺寸的工件的下面，并且剩余的真空孔口104均被遮罩110堵住，从而阻止空气自由流过所有真空孔口104;以及当试图检验第二尺寸的工件时，将遮罩110相对于真空固定台102放置在不同于第一位置的第二位置处，使得第二阵列的孔与真空固定台102的真空孔口104中的某些对齐，第二阵列的所有孔均位于第二尺寸的工件的下面，并且剩余的真空孔口104被遮罩110堵住，从而阻止空气自由流过所有真空孔口104。图1的放大图A显示其中遮罩110包括四个孔阵列并且遮罩可相对于真空固定台102定位在四个可选择的位置处的实施例。这些阵列被标识为I、II、III及IV，并且属于每一阵列的孔也这样进行标识。这四个可选择的位置是由真空固定台102的外围壁112的四个隅角界定，这些隅角被标识为遮罩放置标记P-I、P-II>P-III及P-IV。通过将遮罩110的给定隅角定位成与被标识为遮罩放置标记P-I、P-II、P-III或P-IV的给定隅角相配合，使对应阵列I、II、III或IV的孔放置成与真空固定台102的某些适当的孔口104对齐，如实心黑点所示。图1的放大图B显示其中遮罩110包括五个孔阵列并且遮罩可相对于真空固定台102定位在五个可选择的位置处的实施例。这些阵列被标识为I、II、III、IV及V，并且属于每一阵列的孔也这样进行标识。这五个可选择的位置是由真空固定台102的外围壁112的被标识为遮罩放置标记P-I、P-II、P-III及P-IV的四个隅角以及由遮罩放置标记P-V界定。通过将遮罩110的给定部分定位在由遮罩放置标记P-I、P-II、P-III、P-IV及P-V中的任一者所指示的给定位置处，使对应阵列I、II、III、IV或V的孔放置成与真空固定台102的某些适当的孔口104对齐，如实心黑点所示。另外，现在参照图2，其为典型真空台遮罩110的简化平面图，该典型真空台遮罩110适用于本发明的真空固定装置且其上面形成有多个孔阵列，这些孔阵列相互偏置。图2包括四个孔阵列，这些孔阵列相互偏置。应理解，真空台遮罩的替代构形可包括以任何适当排列方式排列的更多或更少数量的孔。第一孔阵列适用于最小的工件并包括四个孔，每一个孔均被标识为I。第二孔阵列适用于次最小的工件并包括九个孔，每一个孔均被标识为II。第三孔阵列适用于最小的工件并包括十六个孔，每一个孔均被标识为III。第四孔阵列适用于最小的工件并包括二十五个孔，每一个孔均被标识为IV。应注意，每一阵列的孔均相互间隔开某一间距，该间距与真空孔口104的相互间距相同。还应注意，在遮罩110从遮罩放置标记P-I移位至遮罩放置标记P-II的方向上，孔II与对应的孔I偏置某一距离，该距离等于遮罩110从遮罩放置标记P-I移位至遮罩放置标记P-II的距离。还应注意，孔III在第一方向上与对应的孔I偏置第一距离且在垂直于第一方向的第二方向上与对应的孔I偏置第二距离，其中第一距离等于遮罩110从遮罩放置标记P-I移位至遮罩放置标记P-III的距离，第二距离等于遮罩110从遮罩放置标记P-I移位至遮罩放置标记P-III的距离。另外，应注意，在遮罩110从遮罩放置标记P-III移位至遮罩放置标记P-IV的方向上，孔IV与对应的孔III偏置某一距离，该距离等于遮罩110从遮罩放置标记P-III移位至遮罩放置标记P-IV的距离。如上所述，孔I、II、III及IV的相对偏置量及间距对应于遮罩110的相对于真空固定台102的操作位置，以对对应于这四个孔阵列的四种不同尺寸的工件进行高效率的真空固定和检验。现在请参照图3A及图3B，其分别为以第一相互对齐排列方式保持在本发明真空固定装置上的为第一尺寸的第一平面工件120的平面图及剖面图。图3B的剖面图是沿图3A中的线A-A截取的。如图3A及图3B所示，遮罩110在真空固定台102上定位于由遮罩放置标记P-I所界定的第一位置处，使得第一孔阵列的孔I覆在对应真空孔口122、124、126及128上。由标号130、132、134、136、138、140、142、144、146、148、150、152、154、156、158、160、162、164、166、168及170所标识的剩余真空孔口则被遮罩110堵住。现在请参照图4A及图4B，其分别为以第二相互对齐排列方式保持在本发明真空固定装置上的为第二尺寸的第二平面工件220的平面图及剖面图。图4B的剖面图是沿图4A中的线A-A截取的。如图4A及图4B所示，遮罩110在真空固定台102上定位于由遮罩放置标记P-II所界定的第二位置处，使得第二孔阵列的孔II覆在对应真空孔口122、124、126、128、130、132、134、136及138上。由标号140、142、144、146、148、150、152、154、156、158、160、162、164、166、168及170所标识的剩余真空孔口则被遮罩110堵住。现在参照图5A及图5B，其分别为以第三相互对齐排列方式保持在本发明真空固定装置上的为第三尺寸的第三平面工件320的平面图及剖面图。图5B的剖面图是沿图5A中的线A-A截取的。如图5A及图5B所示，遮罩110在真空固定台102上定位于由遮罩放置标记P-III所界定的第三位置处，使得第三孔阵列的孔III覆在对应真空孔口122、124、126、128、130、132、134、136、138、140、142、144、146、148、150及152上。由标号154、156、158、160、162、164、166、168及170所标识的剩余真空孔口则被遮罩110堵住。现在参照图6A及图6B，其分别为以第四相互对齐排列方式保持在本发明真空固定装置上的为第四尺寸的第四平面工件420的平面图及剖面图。图6B的剖面图是沿图6A中的线A-A截取的。如图6A及图6B所示，遮罩110在真空固定台102上定位于由遮罩放置标记P-IV所界定的第四位置处，使得第四孔阵列的孔IV覆在对应真空孔口122、124、126、128、130、132、134、136、138、140、142、144、146、148、150、152、154、156、158、160、162、164、166,168及170上。应理解，遮罩可以各种方式与真空固定台相关联。图1至图6显示遮罩位于真空固定台上方。作为另外一种选择，遮罩也可位于真空固定台的增压室内。在图1至图6B中，显示了规则的真空孔口图案，并且在遮罩上提供各种孔阵列。作为另外一种选择，也可在遮罩上提供规则的孔图案，并可在真空固定台中提供各种真空孔口阵列。在上述说明中，通过在平面中对遮罩进行选择性的位移而将遮罩定位在第一位置、第二位置、第三位置及第四位置。作为另外一种选择，遮罩可在各种方向上进行翻转及/或旋转，从而在各个位置之间进行移位。现在参照图7至图13B，其为检验系统的简化示意图，该检验系统采用根据本发明的实施例进行构造和操作的真空固定装置。如图7所示，提供一种检验系统500(例如光学检验系统)，例如可从位于以色列Yavne的Orbotech有限公司商购获得的OrbotechDiscovery8000AOI系统。检验系统500包括无顶式真空固定台502，无顶式真空固定台502在其表面506上排列有支撑结构阵列504并用于支撑可选择性定位的遮罩510。在对工件(例如平面工件512)进行光学检验期间，工件保持在遮罩510上。根据本发明的较佳实施例，可选择性定位的遮罩510在其上面形成有多个孔514。视需要，遮罩510的孔514的横截面构形在遮罩510的相对的平面表面上可有所不同。例如，孔的面积可在遮罩的面向工件的表面上相对较大、而在遮罩的面向真空固定台的表面上相对较小。本发明的该实施例的具体特点为，支撑结构504被构造和定位成使得根据可选择性定位的遮罩510相对于支撑结构504的位置而使所选的孔514打开并使其他孔514关闭。本发明的该实施例的另一具体特点为，对于可选择性定位的遮罩510的多个可选择的位置中的每一者，所选的打开的孔514均相互毗邻。在本发明的较佳实施例中，如图8所清楚地显示，支撑结构504分别界定与遮罩510的孔514进行潜在的密封配合的横截面积。在第一多个支撑结构504(在此处分别由标号520标识)中，横截面积为第一面积；在第二多个支撑结构504(在此处分别由标号522标识)中，横截面积为第二面积，第二面积大于第一面积；在第三多个支撑结构504(在此处分别由标号524标识)中，横截面积为第三面积，第三面积大于第二面积；并且在第四多个支撑结构504(在此处分别由标号526标识)中，横截面积为第四面积，第四面积大于第三面积。在本发明的较佳实施例中，如图9所清楚地显示，遮罩510包括不同的孔阵列514，以允许不同尺寸的工件与遮罩510以及与真空固定台502进行潜在的密封配合。在所示的实施例中，显示了四个不同的孔阵列514，包括第一孔阵列514(在此处这些孔分别由标号530标识)，对应于第一工件尺寸；第二孔阵列514(在此处这些孔分别由标号532标识)，其中第一孔阵列530及第二孔阵列532的组合对应于第二工件尺寸，第二工件尺寸大于第一工件尺寸；第三孔阵列514(在此处这些孔分别由标号534标识)，其中第一孔530、第二孔532及第三孔534的组合对应于第三工件尺寸，第三工件尺寸大于第二工件尺寸；以及第四孔阵列514(在此处这些孔分别由标号536标识)，其中第一孔530、第二孔532、第三孔534及第四孔536的组合对应于第四工件尺寸，第四工件尺寸大于第三工件尺寸。根据本发明该实施例的操作的具体特点为如图IOA及图IOB所示，当试图检验第一尺寸的工件540时，将遮罩510相对于无顶式真空固定台502放置在第一位置处，使得第一孔阵列的孔530不被支撑结构520堵住，第一孔阵列的所有孔530均位于第一尺寸的工件MO的下面，并且遮罩510的剩余孔514均被支撑结构504堵住，从而阻止空气自由流过剩余孔514；如图IlA及图IlB所示，当试图检验第二尺寸的工件542时，将遮罩510相对于无顶式真空固定台502放置在不同于第一位置的第二位置处，使得第二孔阵列的孔532不被支撑结构522堵住并且第一孔阵列的孔530不被支撑结构520堵住，且第一孔阵列的所有孔530及第二孔阵列的所有孔532均位于第二尺寸的工件讨2的下面，并且遮罩510的剩余孔514均被支撑结构504堵住，从而阻止空气自由流过剩余孔514；如图12A及图12B所示，当试图检验第三尺寸的工件544时，将遮罩510相对于无顶式真空固定台502放置在不同于第一位置及第二位置的第三位置处，使得第三孔阵列的孔534不被支撑结构5M堵住、第一孔阵列的孔530不被支撑结构520堵住并且第二孔阵列的孔532不被支撑结构522堵住，且第一孔阵列的所有孔530、第二孔阵列的所有孔532及第三孔阵列的所有孔534均位于第三尺寸的工件544的下面，并且遮罩510的剩余孔514均被支撑结构504堵住，从而阻止空气自由流过剩余孔514；以及如图13A及图1所示，当试图检验第四尺寸的工件546时，将遮罩510相对于无顶式真空固定台502放置在不同于第一位置、第二位置及第三位置的第四位置处，使得第四孔阵列的孔536不被支撑结构5堵住、第一孔阵列的孔530不被支撑结构520堵住、第二孔阵列的孔532不被支撑结构522堵住并且第三孔阵列的孔534不被支撑结构5M堵住，并且第一孔阵列的所有孔530、第二孔阵列的所有孔532、第三孔阵列的所有孔534及第四孔阵列的所有孔536均位于第四尺寸的工件M6的下面。图7的放大图A显示一实施例，在该实施例中，遮罩510包括单一均勻相间的孔阵列514并且遮罩可相对于无顶式真空固定台502定位在四个可选择的位置处。在图7所示的实施例中，无顶式真空固定台502包括四个支撑结构阵列504，这些阵列由标号520、522、524及5标识，如图8所清楚地显示。这四个可选择的位置是由无顶式固定台502的外围壁550的四个隅角界定，这些隅角被标识为遮罩放置标记P-I、P-II、P-III及P_IV。通过将遮罩510的给定隅角定位成与被标识为遮罩放置标记P-I、P-II、P-III或P-IV的给定隅角相配合，使遮罩510的孔514中的所选的某些孔放置成不被无顶式真空固定台502的支11撑结构504堵住。图IOA及图IOB分别为以第一相互对齐排列方式保持在本发明真空固定装置上的为第一尺寸的第一平面工件540的平面图及剖面图。在图IOA及图IOB中，遮罩510在无顶式真空固定台502上定位于第一位置处，使得仅第一孔阵列514的孔530暴露于真空中，其中第一位置是由遮罩510与遮罩放置标记P-I进行隅角配合所界定。剩余的孔514均被支撑结构504堵住。图IlA及图IlB分别为以第二相互对齐排列方式保持在本发明真空固定装置上的为第二尺寸的第二平面工件542的平面图及剖面图。在图IlA及图IlB中，遮罩510在无顶式真空固定台502上定位于第二位置处，使得仅第一孔阵列514的孔530及第二孔阵列514的孔532暴露于真空中，其中第二位置是由遮罩510与遮罩放置标记P-II进行隅角配合所界定。剩余的孔514均被支撑结构504堵住。图12A及图12B分别为以第三相互对齐排列方式保持在本发明真空固定装置上的为第三尺寸的第三平面工件544的平面图及剖面图。在图12A及图12B中，遮罩510在无顶式真空固定台502上定位于第三位置处，使得仅第一孔阵列514的孔530、第二孔阵列514的孔532及第三孔阵列514的孔534暴露于真空中，其中第三位置是由遮罩510与遮罩放置标记P-III进行隅角配合所界定。剩余的孔514均被支撑结构504堵住。图13A及图13B分别为以第四相互对齐排列方式保持在本发明真空固定装置上的为第四尺寸的第四平面工件546的平面图及剖面图。在图13A及图13B中，遮罩510在无顶式真空固定台502上定位于第四位置处，使得第一孔阵列514的孔530、第二孔阵列514的孔532、第三孔阵列514的孔534及第四孔阵列514的孔536暴露于真空中，其中第四位置是由遮罩510与遮罩放置标记P-IV进行隅角配合所界定。应理解，可由适当构形及布置的支撑结构504来容纳任何适当数量的不同尺寸的工件。还应理解，支撑结构504可以任何适当的方式及构形加以构造，以选择性地堵住遮罩中的孔。支撑结构504无需固定至无顶式真空固定台502的其余部分上，并且可相对于其余部分进行可移除式安装。所属领域的技术人员应理解，本发明并不仅限于上文所具体显示及说明的内容。相反，本发明包括本文所述各种特征的组合及子组合以及所属领域的技术人员在阅读上述说明之后所联想到的但不属于现有技术的各种改进及变化形式。权利要求1.一种用于各种形状及/或尺寸的工件的真空固定系统，其特征在于，所述系统包括真空固定台，界定遮罩支撑平面；以及有孔的真空台遮罩，其可选择性地定位在所述遮罩支撑平面上，所述真空固定台及所述真空台遮罩被构造成通过在所述遮罩支撑平面中对所述真空台遮罩与所述真空固定台进行适当的相对定位来界定多个可选择的不同的相邻真空孔阵列。2.如权利要求1所述的真空固定系统，其特征在于所述真空固定台在其支撑表面上排列有真空孔口阵列；并且所述真空台遮罩在其上面形成有至少两个孔阵列，所述至少两个孔阵列相互偏置，所述至少两个孔阵列中的每一者均可与所述真空孔口阵列的至少某些真空孔口对齐，所述至少两个孔阵列中的每一者的每一个孔均被构造成位于所述工件中的至少一者的下面。3.如权利要求1所述的真空固定系统，其特征在于所述真空台遮罩在其支撑表面上排列有孔阵列，所述遮罩被构造成位于所述工件中的至少一者的下面；并且所述真空固定台在其上面形成有至少两个真空孔口阵列，所述至少两个真空孔口阵列相互偏置，所述遮罩的所述孔中的至少某些可与所述至少两个孔口阵列中的每一者的孔口对齐。4.如权利要求2或权利要求3所述的真空固定系统，其特征在于，每一个孔的横截面尺寸至少略大于每一真空孔口的横截面尺寸。5.如权利要求2或权利要求3所述的真空固定系统，其特征在于，所述真空台遮罩可相对于所述真空固定台定位在至少两个可选择的位置处。6.如权利要求2或权利要求3所述的真空固定系统，其特征在于，所述真空台遮罩包括四个孔阵列。7.如权利要求6所述的真空固定系统，其特征在于，所述真空台遮罩可相对于所述真空固定台定位在四个可选择的位置处。8.如权利要求7所述的真空固定系统，其特征在于，所述四个可选择的位置是由所述真空固定台的隅角界定。9.如权利要求2或权利要求3所述的真空固定系统，其特征在于，所述真空台遮罩位于所述真空固定台的上方。10.如权利要求2或权利要求3所述的真空固定系统，其特征在于，所述真空台遮罩位于所述真空固定台的增压室内。11.如权利要求2或权利要求3所述的真空固定系统，其特征在于，所述至少两个阵列的区域至少部分地重叠。12.如权利要求1所述的真空固定系统，其特征在于所述真空固定台在其上面排列有支撑表面阵列；并且所述真空台遮罩在其上面形成有孔阵列。13.如权利要求1所述的真空固定系统，其特征在于所述真空台遮罩具有孔阵列，所述遮罩被构造成位于所述工件中的至少一者的下面；并且所述真空固定台在其上面形成有至少两个支撑表面阵列，所述至少两个阵列中的不同阵列的支撑表面具有不同的横截面构形，所述至少两个阵列中的每一阵列的支撑表面具有相同的横截面构形，所述遮罩的所述孔被构造成不覆在所述至少两个支撑表面阵列中的至少一者的支撑表面上。14.如权利要求1、12或13中的任一项所述的真空固定系统，其特征在于，所述真空台遮罩可相对于所述真空固定台定位在至少两个可选择的位置处。15.如权利要求1、12或13中的任一项所述的真空固定系统，其特征在于，所述真空台遮罩包括四个孔阵列。16.如权利要求15所述的真空固定系统，其特征在于，所述真空台遮罩可相对于所述真空固定台定位在四个可选择的位置处。17.如权利要求16所述的真空固定系统，其特征在于，所述四个可选择的位置是由所述真空固定台的隅角界定。18.如权利要求12或权利要求13所述的真空固定系统，其特征在于，所述真空台遮罩位于所述支撑表面的上方。19.一种用于真空固定台以及各种形状及/或尺寸的工件的真空台遮罩，所述真空固定台在其支撑表面上排列有真空孔口阵列，所述遮罩包括基板，在所述基板上形成有至少两个孔阵列，所述至少两个孔阵列相互偏置，所述至少两个孔阵列中的每一者均可与所述真空孔口阵列的至少某些真空孔口对齐。20.如权利要求19所述的真空台遮罩，其特征在于，所述至少两个孔阵列的每一个孔的横截面尺寸至少略大于所述真空孔口阵列的每一真空孔口的横截面尺寸。21.如权利要求19或权利要求20所述的真空台遮罩，其特征在于，所述真空台遮罩包括四个孔阵列。22.如权利要求19或权利要求20所述的真空台遮罩，其特征在于，所述至少两个阵列的区域至少部分地重叠。23.一种用于将各种形状及/或尺寸的工件真空固定到真空固定台上的方法，所述真空固定台在其支撑表面上排列有真空孔口阵列，所述方法包括以下步骤将真空台遮罩放置到所述真空固定台的所述支撑表面上，所述真空台遮罩在其上面形成有至少两个孔阵列，所述至少两个孔阵列相互偏置，所述至少两个孔阵列中的每一者均可与所述真空孔口阵列的至少某些真空孔口对齐，所述至少两个孔阵列中的每一者均被构造成位于所述工件中的一者的下面；将所述遮罩定位在所述支撑表面上，使得所述至少两个孔阵列中的一者与所述真空孔口阵列的至少某些真空孔口对齐；以及将所述各种形状及/或尺寸的工件中的为第一尺寸/形状的工件放置到所述真空固定台上，覆在所述遮罩的至少一部分上并且覆在所述至少两个孔阵列中的与所述真空孔口阵列的至少某些真空孔口对齐的所述一者上。24.如权利要求23所述的方法，其特征在于，还包括以下步骤从所述真空固定台移除所述第一尺寸/形状的工件；将所述遮罩重新定位在所述支撑表面上，使得所述至少两个孔阵列中的另一者与所述真空孔口阵列的至少某些真空孔口对齐；以及将所述工件中的为第二尺寸/形状的一个工件放置到所述真空固定台上，覆在所述遮罩的至少一部分上并且覆在所述至少两个孔阵列中的与所述真空孔口阵列的至少某些真空孔口对齐的所述另一者上面。25.如权利要求23或M所述的方法，其特征在于，所述至少两个阵列的区域至少部分地重叠。全文摘要本发明揭露一种用于各种形状及/或尺寸的工件的真空台遮罩、真空固定装置及工件真空固定到其上的方法，其中，真空固定台界定遮罩支撑平面。有孔的真空台遮罩可选择性地定位在所述遮罩支撑平面上，所述真空固定台及所述真空台遮罩被构造成通过在所述遮罩支撑平面中对所述真空台遮罩与所述真空固定台进行适当的相对定位来界定多个可选择的不同的相邻真空孔阵列。文档编号B25B11/00GK102152257SQ201110027549公开日2011年8月17日申请日期2011年1月17日优先权日2010年1月17日发明者A·卡兹申请人:以色列商奥宝科技股份有限公司