磁力真空吸附平台的制作方法

文档序号:2346770阅读:203来源:国知局
磁力真空吸附平台的制作方法
【专利摘要】本实用新型公开了一种磁力真空吸附平台,包括:两层平板结构,一层为POM材料平板,另一层为铝合金平板,POM材料平板安装在铝合金平板上方,POM材料平板上设有安装磁性体的磁力孔以及用于产生真空吸附力的POM板真空吸附孔,磁力孔中安装有磁性体;铝合金平板上设有用于产生真空吸附力的铝合金板真空吸附孔,POM板真空吸附孔与铝合金板真空吸附孔一一对应且中轴线重合,且当POM材料平板和铝合金平板贴合安装后,POM板真空吸附孔与铝合金板真空吸附孔为不产生漏气的紧密结合结构;根据本实用新型可以产生真空吸附力和依靠外部的铁质或磁力结构和该装置的磁性体产生的磁力同时对上述材质工件施加作用,使其表面平整度达到预期效果。
【专利说明】磁力真空吸附平台
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及精密加工行业,尤其是涉及一种磁力真空吸附平台。
【背景技术】
[0002]在精密加工行业中,常需要加工一些厚度较薄的平板结构,这时需要将此类平板结构夹持在加工平台上,传统的机械夹持方法难以有效的保证此类平板结构的平整度,由此出现了传统的真空吸附平台,其依靠产生的真空吸附力将此类工件吸住,有效的解决了传统机械夹持机构解决不了问题,但随着技术的发展,产生了一些较硬的薄膜类工件材质,在前期加工中自身翘曲变形量可能会很大,单靠真空吸附平台产生的负压以难以将工件吸平,由此会造成后期的加工出现精度和各种质量问题,因此需要寻找一种新的夹持方法,解决这一问题。
实用新型内容
[0003]有鉴于此,需要克服现有技术中的上述缺陷中的至少一个。本实用新型提供了一种磁力真空吸附平台,该装置可以产生真空吸附力和依靠外部的铁质或磁力结构和该装置的磁性体产生的磁力同时对上述材质工件施加作用,使其表面平整度达到预期效果。
[0004]根据本实用新型的一种磁力真空吸附平台,包括两层平板结构,一层为POM材料平板,另一层为铝合金平板,所述POM材料平板安装在所述铝合金平板上方,所述POM材料平板上设有安装磁性体的磁力孔以及用于产生真空吸附力的POM板真空吸附孔,所述磁力孔中安装有磁性体;
[0005]所述铝合金平板上设有用于产生真空吸附力的铝合金板真空吸附孔,所述POM板真空吸附孔与所述铝合金板真空吸附孔一一对应且中轴线重合,且当所述POM材料平板和所述铝合金平板贴合安装后,所述POM板真空吸附孔与所述铝合金板真空吸附孔为不产生漏气的紧密结合结构。
[0006]根据本专利【背景技术】中对现有技术所述,随着技术的发展,产生了一些较硬的薄膜类工件材质,在前期加工中自身翘曲变形量可能会很大,单靠真空吸附平台产生的负压以难以将工件吸平,由此会造成后期的加工出现精度和各种质量问题;而本实用新型公开的磁力真空吸附平台,由于可以产生真空吸附力和依靠外部的铁质或磁力结构和该装置的磁性体产生的磁力同时对上述材质工件施加作用,使其表面平整度达到预期效果。
[0007]另外,根据本实用新型公开的磁力真空吸附平台还具有如下附加技术特征:
[0008]可选地,所述POM材料平板为方形结构。
[0009]可选地,所述铝合金平板为方形结构。
[0010]进一步地,所述磁力孔为阵列分布。
[0011]进一步地,所述POM板真空吸附孔为阵列分布。
[0012]进一步地,所述铝合金板真空吸附孔为阵列分布。
[0013]阵列型分布可以使的吸附力更加均匀,对于平板的表面平整度有着更好的效果。[0014]可选地,所述磁力孔或所述POM板真空吸附孔或所述铝合金板真空吸附孔或所述磁性体为圆形。
[0015]进一步地,所述磁性体和所述磁力孔为配合结构或粘合结构。
[0016]本实用新型附加的方面和优点将在下面的描述中部分给出,部分将从下面的描述中变得明显,或通过本实用新型的实践了解到。
【专利附图】

【附图说明】
[0017]本实用新型的上述和/或附加的方面和优点从下面结合附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解,其中:
[0018]图1显示了本实用新型的磁力真空吸附平台的俯视示意图;
[0019]图2显示了本实用新型的磁力真空吸附平台局部放大图;
[0020]图3显示了本实用新型的磁力真空吸附平台正视图。
[0021]图中,I为POM材料平板,11为螺栓孔。12为磁力孔,13为POM板真空吸附孔,2为
铝合金平板。
【具体实施方式】
[0022]下面详细描述本实用新型的实施例,所述实施例的示例在附图中示出,其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的,仅用于解释本实用新型,而不能解释为对本实用新型的限制。
[0023]此处,需要说明的是,在本实用新型的描述中,需要理解的是,方位术语如“上”、“下”、“底”、“顶”、“前”、“后”、“内”、“外”、“横”、“竖”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。
[0024]在本实用新型的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“联接”、“连通”、“相连”、“连接”、“配合”、“安装”等应做广义理解,例如,可以是固定连接,一体地连接,也可以是可拆卸连接;可以是两个元件内部的连通;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连;“配合”可以是面与面的配合,也可以是点与面或线与面的配合,也包括孔轴的配合,对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
[0025]本实用新型的发明构思如下,通过真空装置产生真空吸附力和依靠外部的铁质或磁力结构和该装置的磁性体产生的磁力同时对上述材质工件施加作用,可以使其表面平整度达到预期效果。
[0026]下面将参照附图来描述磁力真空吸附平台,其中图1显示了本实用新型的磁力真空吸附平台的俯视示意图;图2显示了本实用新型的磁力真空吸附平台局部放大图;图3显示了本实用新型的磁力真空吸附平台正视图。
[0027]如图1-3所示,根据本实用新型的实施例,包括两层平板结构,一层为POM材料平板1,另一层为铝合金平板2,所述POM材料平板I安装在所述铝合金平板2上方,如图3所示,所述POM材料平板I上设有安装磁性体的磁力孔12以及用于产生真空吸附力的POM板真空吸附孔13,所述磁力孔12中安装有磁性体;
[0028]所述铝合金平板2上设有用于产生真空吸附力的铝合金板真空吸附孔,所述POM板真空吸附孔13与所述铝合金板真空吸附孔一一对应且中轴线重合,且当所述POM材料平板I和所述铝合金平板2贴合安装后,所述POM板真空吸附孔13与所述铝合金板真空吸附孔为不产生漏气的紧密结合结构。
[0029]另外,根据本实用新型公开的磁力真空吸附平台还具有如下附加技术特征:
[0030]根据本实用新型的一些实施例,所述POM材料平板I为方形结构,如图1所示。
[0031]根据本实用新型的一些实施例,所述铝合金平板2为方形结构。
[0032]根据本实用新型的一些实施例,所述磁力孔12为阵列分布,如图1、2所示。
[0033]根据本实用新型的一些实施例,所述POM板真空吸附孔13为阵列分布,如图1、2所示。
[0034]根据本实用新型的一些实施例,所述铝合金板真空吸附孔为阵列分布。
[0035]阵列型分布可以使的吸附力更加均匀,对于平板的表面平整度有着更好的效果。
[0036]可选地,所述磁力孔或所述POM板真空吸附孔或所述铝合金板真空吸附孔或所述磁性体为圆形,如图1、2所示。
[0037]根据本实用新型的一些实施例,所述磁性体和所述磁力孔为配合结构或粘合结构。
[0038]任何提及“ 一个实施例”、“实施例”、“示意性实施例”等意指结合该实施例描述的具体构件、结构或者特点包含于本实用新型的至少一个实施例中。在本说明书各处的该示意性表述不一定指的是相同的实施例。而且,当结合任何实施例描述具体构件、结构或者特点时,所主张的是,结合其他的实施例实现这样的构件、结构或者特点均落在本领域技术人员的范围之内。
[0039]尽管参照本实用新型的多个示意性实施例对本实用新型的【具体实施方式】进行了详细的描述,但是必须理解,本领域技术人员可以设计出多种其他的改进和实施例,这些改进和实施例将落在本实用新型原理的精神和范围之内。具体而言,在前述公开、附图以及权利要求的范围之内,可以在零部件和/或者从属组合布局的布置方面作出合理的变型和改进,而不会脱离本实用新型的精神。除了零部件和/或布局方面的变型和改进,其范围由所附权利要求及其等同物限定。
【权利要求】
1.一种磁力真空吸附平台,包括:两层平板结构,一层为POM材料平板,另一层为铝合金平板,所述POM材料平板安装在所述铝合金平板上方,其特征在于, 所述POM材料平板上设有安装磁性体的磁力孔以及用于产生真空吸附力的POM板真空吸附孔,所述磁力孔中安装有磁性体; 所述铝合金平板上设有用于产生真空吸附力的铝合金板真空吸附孔,所述POM板真空吸附孔与所述铝合金板真空吸附孔一一对应且中轴线重合,且当所述POM材料平板和所述铝合金平板贴合安装后,所述POM板真空吸附孔与所述铝合金板真空吸附孔为不产生漏气的紧密结合结构。
2.根据权利要求1所述的磁力真空吸附平台,其特征在于,所述POM材料平板为方形结构。
3.根据权利要求1所述的磁力真空吸附平台,其特征在于,所述铝合金平板为方形结构。
4.根据权利要求1所述的磁力真空吸附平台,其特征在于,所述磁力孔为阵列分布。
5.根据权利要求4所述的磁力真空吸附平台,其特征在于,所述POM板真空吸附孔为阵列分布。
6.根据权利要求1所述的磁力真空吸附平台,其特征在于,所述铝合金板真空吸附孔为阵列分布。
7.根据权利要求1所述的磁力真空吸附平台,其特征在于,所述磁力孔或所述POM板真空吸附孔或所述铝合金板真空吸附孔或所述磁性体为圆形。
8.根据权利要求7所述的磁力真空吸附平台,其特征在于,所述磁性体和所述磁力孔为配合结构或粘合结构。
【文档编号】B25H1/02GK203566387SQ201320642561
【公开日】2014年4月30日 申请日期:2013年10月18日 优先权日:2013年10月18日
【发明者】魏志凌, 宁军, 李斌 申请人:昆山思拓机器有限公司
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