专利名称：新型膜系结构的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种膜系结构，尤其涉及一种新型膜系结构。
背景技术：
在光学成像及其它投影显示器件中，在成本和成像清晰度等因素要求下，都会大 量采用到各种塑胶材料做成各种大小，弧度的非球面镜片。PMMA-聚甲基丙烯酸酯就是一 种普遍被采用的材料。由于PMMA在没有镀膜时的反射率约8 %，为了增加光量的透过率，通 常都要在镜片上镀上AR膜，现有的AR膜通常是基材的两侧使用真空蒸发技术沉积一层或 多层膜，以增加光量的透过率。上述技术的存在的不足在于1、AR膜不耐高温，通常的高温镀膜无法使用。2、AR膜在一般的冷镀的情况下，做的膜不够牢固，不能经久使用，更加无法在一些 极致条件下使用。以上两点给光学镜片设计和制造过程中带来困难。
实用新型内容本实用新型的目的是提供一种新型膜系结构，它可以在高温状态下镀到基材上， 且做出来的膜非常牢固，能长久使用。为了实现上述目的，本实用新型的技术方案是一种新型膜系结构，包括基材和镀在基材上的AR膜。所述的AR膜一种减反膜，从内到外包括四层膜结构第一高折射率膜、第一低折 射率膜、第二高折射率膜和第二低折射率膜。上述的新型膜系结构，其中所述的第一高折射率膜和第二高折射率膜的膜料是0S50。上述的新型膜系结构，其中所述的第一低折射率膜和第二低折射率膜的膜料是Si02。上述的新型膜系结构，其中所述的基材是PMMA材料，由甲基丙烯酸甲酯单体聚合而成。上述的新型膜系结构，其中所述的第一高折射率膜H、第一低折射率膜L、第二高折射率膜H和第二低折射率 膜 L 的厚度分别为 23. 64nm、16. 42nm、90. 67nm 和 88. 28nm。本实用新型由于采用了上述技术，使之与现有技术相比具有的积极效果是本实 用新型新型膜系结构由于两种高折射率膜料和低折射率膜料的结构配比，AR膜效果达到 R <0.5% at 430nm—650nm，即在 430X650nm 波长范围内，AR 膜的减反率< 0. 5% )，AR 膜在高温高湿环境测试当中可通过85°C 80% 240H，即温度为85 士 1°C，相对湿度80%以上 的条件下连续放置240小时，膜层不脱落，光学性能符合标准规定要求，此种膜在高低温循 环环境测试当中可通过80°C 20°C 50次循环，即在80°C 20°C的高低温变化的环境下，循环50次，膜层不脱落，光学性能符合标准规定要求。
图1是本实用新型新型膜系结构的膜层结构图图2是本实用新型新型膜系结构的反射率曲线图。
具体实施方式
以下结合附图进一步说明本实用新型的实施例。请参见图1所示，一种新型膜系结构，包括基材和镀在基材上的AR膜；AR膜一种 减反膜，从内到外包括四层膜结构第一高折射率膜1、第一低折射率膜2、第二高折射率膜 3和第二低折射率膜4。第一高折射率膜1和第二高折射率膜3的膜料是0S50或TiO2，优 选0S50。第一低折射率膜2和第二低折射率膜4的膜料是Si02。基材是PMMA材料，由甲 基丙烯酸甲酯单体聚合而成。第一高折射率膜、第一低折射率膜、第二高折射率膜和第二低 折射率膜的厚度分别为23. 64nm、16. 42nm、90. 67nm和88. 28nm。请参见图2所示，AR膜的在波长430歷-650歷内的减反率R < 0. 5%。显示相当 高的减反效果。本实用新型新型膜系结构耐高温，能长久使用，给光学镜片设计和制造带来帮助。
权利要求一种新型膜系结构，其特征在于包括基材和镀在基材上的AR膜；所述的AR膜是一种减反膜，从内到外包括四层膜结构第一高折射率膜(1)、第一低折射率膜(2)、第二高折射率膜(3)和第二低折射率膜(4)。
2.根据权利要求1所述的新型膜系结构，其特征在于所述的第一高折射率膜(1)和第二高折射率膜(3)的膜料是0S50。
3.根据权利要求1所述的新型膜系结构，其特征在于所述的第一低折射率膜(2)和第二低折射率膜(4)的膜料是Si02。
4.根据权利要求1所述的新型膜系结构，其特征在于 所述的基材是PMMA材料，由甲基丙烯酸甲酯单体聚合而成。
5.根据权利要求1所述的新型膜系结构，其特征在于所述的第一高折射率膜、第一低折射率膜、第二高折射率膜和第二低折射率膜的厚度 分别为 23. 64nm、16. 42nm、90. 67nm 和 88. 28nm。
专利摘要一种新型膜系结构，包括基材和镀在基材上的AR膜；所述的AR膜从内到外包括四层膜结构第一高折射率膜H、第一低折射率膜L、第二高折射率膜H和第二低折射率膜L。本实用新型新型膜系结构耐高温，能长久使用，为光学镜片设计和制造提供便利。
文档编号B32B33/00GK201645947SQ20102010205
公开日2010年11月24日 申请日期2010年1月26日 优先权日2010年1月26日
发明者叶祥云, 谭福德 申请人:凤凰光学(上海)有限公司