感光性组合物、感光性膜、感光性层叠体、永久图案形成方法以及印制电路板的制作方法

专利名称：：感光性组合物、感光性膜、感光性层叠体、永久图案形成方法以及印制电路板的制作方法
技术领域：
：本发明涉及适合作为利用激光曝光进行图像形成的阻焊剂(solderresist)材料的感光性组合物、感光性膜、感光性层叠体、永久图案形成方法以及印制电路板。
背景技术：
：迄今为止，在形成阻焊剂等永久图案时，使用通过在支撑体上涂布感光性组合物后再干燥而形成感光层的感光性膜。作为上述永久图案的形成方法，例如在形成永久图案的覆铜层叠板等基体上，层叠感光性膜形成层叠体，对该层叠体中的上述感光层进行曝光，在该曝光后，对感光层进行显影形成图案，然后通过进行固化处理等形成永久图案。一直以来，作为形成被膜后对通过基于紫外线曝光以及稀碱水溶液的显影可形成图像的紫外线固化性、焊锡耐热性优良的液状光致阻焊剂有用的感光性树脂组合物，提出有含有(a):使含有至少2个末端环氧基的环氧树脂与环氧树脂每1环氧基当量为0.81.2mol的cr(3不饱和羧酸反应后，进一步与每1环氧当量为0.21.0mol的多元酸酐反应而得到的化合物；(b):稀释剂；(C):增敏剂；(d):由融点在130'C以下的1，3，5-三缩水甘油基三聚异氰酸形成的环氧树脂、以及(e)选自蜜胺等S-三嗪化合物中的环氧树脂固化剂的感光性树脂组合物(参照日本特开平2-173747号公报)。已知S-三嗪化合物可改善镀敷耐性，但是在上述日本特开平2-173747号公报中没有涉及到保存性。如果提高了镀敷耐性则存在保存性降低的问题，现状是期望进一步改良、开发能够使镀敷耐性以及保存性同时得到改善的感光性组合物。
发明内容本发明是鉴于上述现状而完成的，其课题在于解决现有的上述各种问题并达到以下的目的。即，本发明的目的在于提供一种不仅作为阻焊剂所必需的显影性、硬度、耐热性、感光度优良而且镀敷耐性以及保存性均优良的感光性组合物、感光性膜、感光性层叠体、永久图案的形成方法以及印制电路板。作为解决上述课题的方法，如下所述。艮卩，<1>一种感光性组合物，其特征在于，其含有(甲基)丙烯酸酯系粘合剂、聚合性化合物、中性的光聚合引发剂、热交联剂以及下述通式(1)所示的化合物，NH23入2通式a)H2NNX其中，上述通式(1)中、X表示氢原子或(jm值为-0.22以上的取代基。<2>根据<1>上述的感光性组合物，其中，通式(1)中，X是氢原子、卤原子、总碳原子数为112的烷基、总碳原子数为612的芳基、链烯基以及至少1个氢被取代了的氨基中的至少一种。<3>根据<1>或<2>上述的感光性组合物，其中，(甲基)丙烯酸酯系粘合剂为侧链含有酸性基和乙烯性不饱和键的高分子化合物。<4>根据<1><3>中任一项所述的感光性组合物，其中，相对于感光性组合物固态成分中的固态成分的含有量，含有10质量Q^以上的聚合性化合物。<5>根据<1><4>中任一项所述的感光性组合物，其中，中性的光聚合引发剂为肟酯系光聚合引发剂。<6>根据<1><5>中任一项所述的感光性组合物，其中，热交联剂为选自环氧化合物、氧杂环丁垸化合物、聚异氰酸酯化合物、使封端剂与聚异氰酸酯化合物反应而得到的化合物以及蜜胺衍生物中的至少1种。<7>—种感光性膜，其特征在于，在支撑体上具有含上述<1>或<6>中任一项所述的感光性组合物的感光层。<8>—种感光性层叠体，其特征在于，在基体上具有含上述<1>或<6>中任一项所述的感光性组合物的感光层。<9>一种永久图案的形成方法，其特征在于，其至少包括对由上述<1>或<6>中任一项所述的感光性组合物形成的感光层进行曝光的步骤。<10>根据<9>上述的永久图案的形成方法，其中，曝光是在利用光调制机构调制光之后，使上述光从排列具有非球面的微透镜而成的微透镜阵列中通过来进行的，上述非球面可校正上述光调制机构中的描绘部的射出面的变形引起的像差。<11>根据<9>或<10>上述的永久图案的形成方法，其中，进行了上述曝光之后，进行感光层的显影。<12>根据<11>上述的永久图案的形成方法，其中，进行了上述显影之后，进行感光层的固化处理。<13>—种印制电路板，其特征在于，使用上述<9〉或<12>中任一项所述的永久图案的形成方法形成永久图案。根据本发明，可提供能够解决现有的各种问题，并且不仅作为阻焊剂所必需的显影性、硬度、耐热性、感光度优良而且镀敷耐性以及保存性均优良的感光性组合物、感光性膜、感光性层叠体、永久图案形成方法以及印制电路板。具体实施例方式(感光性组合物)在本发明中，感光性组合物含有(甲基)丙烯酸酯系粘合剂、聚合性化合物、中性的光聚合引发剂、热交联剂和下述通式(1)所示的化合物，根据需要还含有其它的成分。NH2通式a)H2NNX其中，上述通式(1)中，X表示氢原子或am值为-0.22以上的取代基。<通式(1)所示的化合物>上述通式(1)所示的化合物只要是上述通式(O中X是氢原子或crni值为-0.22以上的化合物即可，没有特别的限定，可根据目的适当选择，但优选上述X的cjm值为-0.210.8，较优选为-0.070.7，特别优选为-0.070.6。上述cmi值若不足-0.21保存性会恶化，若超过0.8则化合物的稳定性会变差。另一方面，若上述am值在上述特别优选的范围内，则对镀敷耐性和保存性两方面均有利。本发明中，上述cjm值是指根据Hammet定义的取代基常数，例如，在"ChemicalReview的1991年(91巻)的165-195页"中有记载。另外，对于上述感光性组合物中的上述通式(1)所示的化合物的添加量，没有特别的限定，可根据目的适当地选择，但优选为0.1质量份20质量份，较优选为0.2质量份10质量份，特别优选为0.5质量份8质量份。上述通式(1)所示的化合物的添加量若不足0.1质量份，则对镀敷耐性的効果会变差，若超过20质量份则保存性会变差且固化后的膜会变脆且耐性会变差，如果上述通式(1)所示的化合物的添加量在上述特别优选的范围内，则对于镀敷耐性和保存性两方面均有利。作为上述X，只要它的om值在0.22以上即可，没有特别的限定，可根据目的适当选择，例如，可以举出氢原子、卤原子、总碳原子数为l12的烷基、总碳原子数为612的芳基、链烯基以及至少1个氢被取代了的氨基、酰胺基、氰基、硝基等。垸基、芳基、芳烷基可以具有取代基，作为取代基，优选羟基、烷氧基、芳氧基、巯基、垸硫基、芳硫基、羟基芳基、羧基、酯基、酰胺基、氰基、卤基、硝基、硫氧基、垸基磺酰基、芳基磺酰基、烷基亚磺酰基、芳基亚磺酰基等。8其中，从进一步提高上述感光性组合物的生保存性的方面考虑，最优选"-C1"、"画F"、"-CONH2"、"-CF3"、"画CN"、"CH2S02Me"、"-CH2S02Ph"。作为上述通式(1)所示的化合物的具体例，例如，可以举出下述结构式(m-l)(m-19)所示的化合物等。ClN人NJl人H2NNNH2<formula>formulaseeoriginaldocumentpage9</formula>结构式(m-1)、N、h2nA[nT^nh2结构式(m-2)N々Nh2nA\T^nh2结构式(m-3)PhH2NNNH2结构式(m-4)Hn人n义人H2NN八NH2结构式(m-5)NHBuN人N火人H2NNNH2结构式(m-6)<image>imageseeoriginaldocumentpage10</image><formula>formulaseeoriginaldocumentpage11</formula>表1<table>tableseeoriginaldocumentpage12</column></row><table><(甲基)丙烯酸酯系粘合剂〉作为上述(甲基)丙烯酸酯系粘合剂，优选使用在侧链具有酸性基和乙烯性不饱和键的高分子化合物。-在侧链具有酸性基和乙烯性不饱和键的高分子化合物-作为上述酸性基，可以举出羧基、磷酸基、磺酸基等，从获得原料的方面出发，优选羧基。另外，作为上述粘合剂，可以使用在分子内具有至少一个能够聚合的双键、例如(甲基)丙烯酸酯基或(甲基)丙烯酰胺基等(甲基)丙烯酰基、羧酸的乙烯基酯、乙烯醚、烯丙醚等各种聚合性双键。更具体地说，可以举出使含有环状醚基的聚合性化合物例如丙烯酸縮水甘油酯、甲基丙烯酸縮水甘油酯、桂皮酸等不饱和脂肪酸的縮水甘油酯或具有脂环式环氧基(例如同一分子中氧化环己烯等环氧基)和(甲基)丙烯酰基的化合物等含环氧基的聚合性化合物加成于含有羧基作为酸性基团的丙烯酸树脂而获得的化合物等。另外，还可以举出使异氰酸酯(甲基)丙烯酸乙酯等含异氰酸酯基的聚合性化合物加成于含有酸性基团和羟基的丙烯酸树脂而获得的化合物、使(甲基)丙烯酸羟基烷基酯等含羟基的聚合性化合物加成于含有酸酐基的丙烯酸树脂而获得的化合物等。另外，还可以举出将甲基丙烯酸縮水甘油酯等含环状醚基的聚合性化合物与(甲基)丙烯酰基烷基酯等的乙烯基单体共聚，在侧链的环氧基上加成(甲基)丙烯酸而获得的化合物等。这些例子在日本专利2763775号公报、日本特开平3-172301号公报、日本特开2000-232264号公报等中举出。这些物质中，上述(甲基)丙烯酸系粘合剂优选为选自在高分子化合的酸性基团的一部分上加成含有环状醚基(例如部分结构具有环氧基、氧杂环丁烷基的基团)的聚合性化合物的物质、和在高分子化合物的环状醚基的一部分或全部上加成含羧基聚合性化合物而成的高分子化合物中的任一种。此时，酸性基团与具有环状醚基的化合物的加成反应优选在催化剂的存在下实施，特别优选该催化剂选自酸性化合物和中性化合物。其中，从感光性组合物的经时显影稳定性的观点出发，(甲基)丙烯酸系粘合剂优选在侧链含有羧基和在侧链可含有杂环的芳香族基团以及具有乙烯性不饱和键的高分子化合物。-可含有杂环的芳香族基团-上述可含有杂环的芳香族基团(下文有时简单称为"芳香族基团")例如可以举出苯环、2个3个苯环形成稠环的基团、苯环与5元不饱和环形成稠环的基团等。上述芳香族基团的具体例子可以举出苯基、萘基、蒽基、菲基、茚基、苊基、芴基、苯并吡咯环基、苯并呋喃环基、苯并噻吩环基、吡唑环基、异噁唑环基、异噻唑环基、吲唑环基、苯并异噁唑环基、苯并异噻唑环基、咪唑环基、噁唑环基、噻唑环基、苯并咪唑环基、苯并噁唑环基、苯并噻唑环基、吡啶环基、喹啉环基、异喹啉环基、哒嗪环基、嘧啶环基、吡嗪环基、酞嗪环基、喹唑啉环基、喹噁啉环基、氮吖啶环基、菲啶环基、咔唑环基、嘌呤环基、吡喃环基、哌啶环基、哌嗪环基、吲哚环基、吲哚嗪环基、色烯环基、噌啉环基、吖啶环基、吩噻嗪环基、四唑环基、三嗪环基等。这些物质中优选烃基芳香族基，更优选苯基、萘基。上述芳香族基团可以具有取代基，上述取代基例如可以举出卤原子、可以具有取代基的氨基、烷氧基羰基、羟基、醚基、巯基、硫醚基、甲硅烷基、硝基、氰基、分别可以具有取代基的垸基、链烯基、炔基、芳基、杂环基等。上述烷基例如可以举出碳原子数为1~20的直链状烷基、支链状的烷基、环状的烷基等。上述烷基的具体例子可以举出甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、庚基、辛基、壬基、癸基、i"~"烷基、十二烷基、十三烷基、十六烷基、十八烷基、二十烷基、异丙基、异丁基、仲丁基、叔丁基、异戊基、新戊基、l-甲基丁基、异己基、2-乙基己基、2-甲基己基、环己基、环戊基、2-降冰片垸基等。这些物质中，优选碳原子数为112的直链状烷基、碳原子数3~12的支链状烷基、碳原子数5~10的环状烷基。上述烷基可以具有的取代基例如可以举出除去氢原子的一元非金属原子团所构成的基团。这种取代基例如可以举出卤原子(-F、-Br、-Cl-、-1)、羟基、烷氧基、芳氧基、巯基、烷硫基、芳硫基、烷基二硫基、芳基二硫基、氨基、N-烷基氨基、N,N-二烷基氨基、N-芳基氨基、N,N-二芳基氨基、N-烷基-N-芳基氨基、酰氧基、咔唑氧基、N-烷基咔唑氧基、N-芳基咔唑氧基、N，N-二烷基咔唑氧基、N,N-二芳基咔唑氧基、N-烷基-N-芳基咔唑氧基、垸基硫氧基(硫氧)、芳基硫氧基、酰硫基、酰氨基、N-烷基酰氨基、N-芳基酰氨基、脲基、N'-烷基脲基、N',N'-二烷基脲基、N'-芳基脲基、N',N'-二芳基脲基、N'-垸基-N'-芳基脲基、N-垸基脲基、N-芳基脲基、N'-烷基-N-烷基脲基、N'-垸基-N-芳基脲基、N'，N'-二烷基-N-烷基脲基、N',N'-二烷基-N-芳基脲基、N'-芳基-N-烷基脲基、N'-芳基-N-芳基脲基、N'，N，-二芳基-N-烷基脲基、N',N'-二芳基-N-芳基脲基、N'-垸基-N'-芳基-N-垸基脲基、N'-垸基-N'-芳基-N-芳基脲基、烷氧基羰基氨基、芳氧基羰基氨基、N-垸基-N-垸氧基羰基氨基、N-烷基-N-芳氧基羰基氨基、N-芳基-N-烷氧基羰基氨基、N-芳基-N-芳氧基羰基氨基、甲酰基、酰基、羧基、垸氧基羰基、芳氧基羰基、氨基甲酰基、N-垸基氨基甲酰基、N,N-二垸基氨基甲酰基、N-芳基氨基甲酰基、N,N-二芳基氨基甲酰基、N-烷基-N-芳基氨基甲酰基、烷基亚磺酰基、芳基亚磺酰基、垸基磺酰基、芳基磺酰基、磺基(-S03H)及其共轭碱基(称作磺酸根(sulfonato)基)、垸氧基磺酰基、芳氧基磺酰基、氨亚磺酸酰(sulfmamoyl,7》7<于乇O)基、N-烷基氨亚磺酸酰基、N，N-二烷基氨亚磺酸酰基、N-芳基氨亚磺酸酰基、N,N-二芳基氨亚磺酸酰基、N-烷基-N-芳基氨亚磺酸酰基、氨磺酰基、N-垸基氨磺酰基、N,N-二垸基氨磺酰基、N-芳基氨磺酰基、N,N-二芳基氨磺酰基、N-烷基-N-芳基氨磺酰基、膦酰基(-P03H2)及其共轭碱基(称作膦酸根(phosphonato，沐7本于卜)基)、二烷基膦酰基(-P03(alkyl)2)(以下"alkyl"是指垸基)、二芳基膦酰基(-P03(aryl)2)(以下"aryl"是指芳基)、垸基芳基膦酰基(-P03(alkyl)(aryl))、单垸基膦酰基(-PO"alkyl))及其共轭碱基(称作垸基膦酸根基)、单芳基膦酰基(-P03H(aryl))及其共轭碱基(称作芳基膦酸根基)、膦酰氧基(-OP03H2)及其共轭碱基(称作膦酸根氧基)、二垸基膦酰氧基(-OP03H(alkyl)2)、二芳基膦酰氧基(-OP03H(aryl)2)、烷基芳基膦酰氧基(-OP03(alkyl)(aryl))、单垸基膦酰氧基(-OP03H(alkyl)))及其共轭碱基(称作烷基膦酸根氧基)、单芳基膦酰氧基(-OP03H(aryl)))及其共轭碱基(称作芳基膦酸根氧基)、氰基、硝基、芳基、烯基、炔基、杂环基、甲硅烷基等。这些取代基的烷基的具体例子可以举出上述烷基。上述取代基的芳基的具体例子，可以举出苯基、联苯基、萘基、甲苯基、二甲苯基、莱(mesityl)基、枯烯基、氯苯基、溴苯基、氯甲基苯基、羟基苯基、甲氧苯基、乙氧苯基、苯氧苯基、乙酸基苯基、苯甲酸基苯基、甲硫基苯基、苯硫基苯基、甲氨基苯基、二甲氨基苯基、乙酰氨基苯基、羧苯基、甲氧羰基苯基、乙氧苯基羰基、苯氧羰基苯基、N-苯羰基苯基、氰基苯基、磺基苯基、磺酸根苯基、膦酰苯基、膦酸根苯基等。上述取代基的链烯基的具体例子可以举出乙烯基、l-丙烯基、1-丁烯基、桂皮酰基、2-氯-l-乙烯基等。上述取代基的炔基的具体例子可以举出乙炔基、l-丙炔基、l-丁炔基、三甲基甲硅垸基乙炔基等。上述取代基的酰基(RQ1CO-)的Rw可以举出氢原子、上述烷基、芳基等。这些取代基中，优选卤原子(-F、-Br、-Cl-、-1)、垸氧基、芳氧基、烷基硫基、芳基硫基、N-垸基氨基、N,N-二垸基氨基、酰氧基、N-烷基咔唑氧基、N-芳基咔唑氧基、酰基氨基、甲酰基、酰基、羧基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、氨基甲酰基、N-垸基氨基甲酰基、N,N-二垸基氨基甲酰基、N-芳基氨基甲酰基、N-烷基-N-芳基氨基甲酰基、磺基、磺酸根基、氨磺酰基、N-烷基氨磺酰基、N,N-二烷基氨磺酰基、N-芳基氨磺酰基、N-烷基-N-芳基氨磺酰基、膦酰基、膦酸根基、二烷基膦酰基、二芳基膦酰基、单垸基膦酰基、烷基膦酸根基、单芳基膦酰基、芳基膦酸根基、膦酰氧基、膦酸根氧基、芳基、烯基等。另外，上述取代基的杂环基例如可以举出吡啶基、哌啶基等，上述取代基的甲硅烷基可以举出三甲基甲硅烷基等。另一方面，上述垸基的烯基例如可以举出将上述碳原子数120的烷基上的氢原子的任一个除去后的2价有机残基，例如碳原子数1~12的直链状亚烷基、碳原子数为312的支链状亚烷基、碳原子数5~10的环状亚通过组合这种取代基与亚垸基而获得的取代烷基的优选具体例子可以举出氯甲基、溴甲基、2-氯乙基、三氟甲基、甲氧基甲基、异丙氧基甲基、丁氧基甲基、仲丁氧基丁基、甲氧基乙氧基乙基、烯丙氧基甲基、苯氧基甲基、甲基硫甲基、甲苯基硫甲基、吡啶基甲基、四甲基哌啶基甲基、N-乙酰基四甲基哌啶基甲基、三甲基甲硅垸基甲基、甲氧基乙基、乙基氨基16乙基、二乙基氨基丙基、吗啉代丙基、乙酰氧基甲基、苯甲酸基甲基、N-环己基咔唑氧基乙基、N-苯基咔唑氧基乙基、乙酰基氨基乙基、N-甲基苯甲酰基氨基丙基、2-氧代乙基、2-氧代丙基、羧基丙基、甲氧基羰基乙基、烯丙氧基羰基丁基、氯苯氧基羰基甲基、氨基甲酰基甲基、N-甲基氨基甲酰基乙基、N,N-二丙基氨基甲酰基甲基、N-(甲氧基苯基)氨基甲酰基乙基、N-甲基-N-(磺苯基)氨基甲酰基甲基、磺丁基、磺酸基丁基、氨磺酰基丁基、N-乙基氨磺酰基甲基、N,N-二丙基氨磺酰基丙基、N-甲苯基氨磺酰基丙基、N-甲基-N-(膦酰基苯基)氨磺酰基辛基、膦酰基丁基、磷酸基己基、二乙基膦酰基丁基、二苯基膦酰基丙基、甲基膦酰基丁基、甲基磷酸基丁基、甲苯基膦酰基己基、甲苯基磷酸基己基、膦酰氧基丙基、磷酸氧基丁基、苄基、苯乙基、(x-甲基苄基、l-甲基-l-苯基乙基、对甲基苄基、桂皮酰基、烯丙基、1-丙烯基甲基、2-丁烯基、2-甲基烯丙基、2-甲基丙烯基甲基、2-丙炔基、2-丁炔基、3-丁炔基等。上述芳基例如可以举出苯环、2个3个苯环形成稠环而成的芳基、苯环与5元环形成稠环而成的芳基等。上述芳基的具体例子例如可以举出苯基、萘基、蒽基、菲基、茚基、苊基、芴基等。其中优选苯基、萘基。上述烷基可以具有取代基，作为这种具有取代基的芳基(以下也称作"取代芳基")例如可以举出在上述芳基的环形成碳原子上具有由氢原子以外的一价非金属原子构成的基团作为取代基的芳基。上述芳基可以具有的取代基例如优选上述烷基、取代烷基、作为上述烷基可以具有的取代基所示例的基团。上述取代芳基的优选具体例可以举出联苯基、甲苯基、二甲苯基、茶基、枯烯基、氯苯基、溴苯基、氟苯基、氯甲基苯基、三氟甲基苯基、羟基苯基、甲氧基苯基、甲氧基乙氧基苯基、烯丙氧基苯基、苯氧基苯基、甲基硫苯基、甲苯基硫苯基、乙基氨基苯基、二乙基氨基苯基、吗啉代苯基、乙酰氧基苯基、苯甲酸基苯基、N-环己基咔唑氧基苯基、N-苯基咔唑氧基苯基、乙酰基氨基苯基、N-甲基苯甲酰基氨基苯基、羧基苯基、甲氧基羰基苯基、烯丙氧基羰基苯基、氯苯氧基羰基苯基、氨基甲酰基苯基、N-甲基氨基甲酰基苯基、N，N-二丙基氨基甲酰基苯基、N-(甲氧基苯基)氨基甲酰基苯基、N-甲基-N-(磺苯基)氨基甲酰基苯基、磺苯基、磺酸根基苯基、氨磺酰基苯基、N-乙基氨磺酰基苯基、N，N-二丙基氨磺酰基苯基、N-甲苯基氨磺酰基苯基、N-甲基-N-(膦酰基苯基)氨磺酰基苯基、膦酰基苯基、膦酸根基苯基、二乙基膦酰基苯基、二苯基膦酰基苯基、甲基膦酰基苯基、甲基膦酸根苯基、甲苯基膦酰基苯基、甲苯基膦酸根苯基、烯丙基苯基、1-丙烯基甲基苯基、2-丁烯基苯基、2-甲基烯丙基苯基、2-甲基丙烯基苯基、2-丙炔基苯基、2-丁炔基苯基、3-丁炔基苯基等。上述烯基(-C(RQ2)=C(RG3)(RQ4))和炔基(-C=C(RQ5))例如可以举出RQ2、RM、RM和RM由一价非金属原子团构成的基团。上述R^、Rra、R^和RM例如可以举出氢原子、卤原子、烷基、取代垸基、芳基、取代芳基等。它们的具体例子可以举出上述例子示出的基团。这些中，优选氢原子、卤原子、碳原子数为110的直链状烷基、支链状烷基、环状垸基。上述烯基和炔基的优选具体例可以举出乙烯基、l-丙烯基、l-丁烯基、l-戊烯基、l-己烯基、l-辛烯基、l-甲基-l-丙烯基、2-甲基-l-丙烯基、2-甲基-l-丁烯基、2-苯基-l-乙烯基、2-氯-l-乙烯基、乙炔基、l-丙炔基、1-丁炔基、苯基乙炔基等。上述杂环基例如可以举出作为取代烷基的取代基示例的吡啶基等。上述氧基(RQ60-)可以举出R^去除氢原子的一价非金属原子团构成的基团。这种氧基例如可以举出烷氧基、芳氧基、酰氧基、咔唑氧基、N-烷基咔唑氧基、N-芳基咔唑氧基、N,N-二烷基咔唑氧基、N，N-二芳基咔唑氧基、N-垸基-N-芳基咔唑氧基、垸基硫氧基、芳基硫氧基、膦酰氧基、膦酸根氧基等。作为它们中的垸基和芳基可以举出上述烷基、取代垸基、芳基、取代芳基示例的基团。另外，酰氧基的酰基(R07CO_)可以举出R"为作为之前例子举出的烷基、取代垸基、芳基以及取代芳基者。这些取代基中，更优选垸氧基、芳氧基、酰氧基、芳基硫氧基。优选的氧基的具体例子可以举出甲氧基、乙氧基、丙氧基、异丙氧基、丁氧基、戊氧基、己氧基、十二烷氧基、苄氧基、烯丙氧基、苯乙氧基、18羧基乙基氧基、甲氧基羰基乙基氧基、乙氧基羰基乙基氧基、甲氧基乙氧基、苯氧基乙氧基、甲氧基乙氧基乙氧基、乙氧基乙氧基乙氧基、吗啉代乙氧基、吗啉代丙氧基、烯丙氧基乙氧基乙氧基、苯氧基、甲苯基氧基、二甲苯基氧基、茶基氧基、枯烯基氧基、甲氧基苯基氧基、乙氧基苯基氧基、氯苯基氧基、溴苯基氧基、乙酰氧基、苯甲酸基、萘氧基、苯基磺酰氧基、膦酰氧基、膦酸根氧基等。可以含有酰胺基的氨基(RQ8NH-、(RQ9)(R1C))N-)例如可以举出RQ8、R^和R"为去除氢原子的一价非金属原子团构成的基团。予以说明，RQ9和R"可以键合形成环。上述氨基例如可以举出N-烷基氨基、N，N-二烷基氨基、N-芳基氮基、N,N-二芳基氨基、N-垸基-N-芳基氨基、酰基氨基、N-烷基酰基氨基、N-芳基酰基氨基、脲基、^-烷基脲基、^，;^'-二烷基脲基、>1'-芳基脲基、>^，>^二芳基脲基、N'-烷基-N'-芳基脲基、N-烷基脲基、N-芳基脲基、N'-烷基-N-烷基脲基、N'-垸基-N-芳基脲基、N',N'-二烷基-N-烷基脲基、N'-垸基-N'-芳基脲基、N',N'-二烷基-N-烷基脲基、N'，N'-二垸基-N'-芳基脲基、N'-芳基-N-烷基脲基、N'-芳基-N-芳基脲基、N'，N'-二芳基-N-烷基脲基、N'，N'-二芳基-N-芳基脲基、N'-垸基-N'-芳基-N-烷基脲基、N'-垸基-N'-芳基-N-芳基脲基、烷氧基羰基氨基、芳氧基羰基氨基、N-垸基-N-烷氧基羰基氨基、N-烷基-N-芳氧基羰基氨基、N-芳基-N-烷氧基羰基氨基、N-芳基-N-芳氧基羰基氨基等。它们中的烷基和芳基可以举出作为上述烷基、取代垸基、芳基、取代芳基示例过的基团.。另外，酰基氨基、N-烷基酰基氨基、N-芳基酰基氨基的酰基(RQ7CO-)的R^如上所述。这些中，更优选N-烷基氨基、N,N-二烷基氨基、N-芳基氨基、酰基氨基。优选的氨基的具体例子可以举出甲基氨基、乙基氨基、二乙基氨基、吗啉基、哌啶基、吡咯垸基、苯基氨基、苯甲酰基氨基、乙酰基氨基等。上述磺酰基(R^-S02-)例如可以举出RQ11由一价非金属原子团构成的基团。这种磺酰基例如优选烷基磺酰基、芳基磺酰基等。它们的烷基和芳基可以举出作为上述烷基、取代烷基、芳基、取代芳基示例过的基团。上述磺酰基的具体例子可以举出丁基磺酰基、苯基磺酰基、氯苯基磺酰基等。上述磺酸根基(-SCV)如上所述，表示磺基(_S03H)的共轭碱阴离子基，通常优选与对阳离子一起使用。这种对阳离子可以适当使用一般己知的离子，例如鎿类(例如铵类、锍类、膦类、碘鐵类、叠氮鎗(7夕二々厶)类等)、金属离子类(例如Na+、K+、Ca2+、Zn，)。上述羰基(RG13-CO-)例如可以举出RQ13由一价非金属原子团构成的基团。这种羰基例如可以举出甲酰基、酰基、羧基、烷氧羰基、芳氧羰基、氨基甲酰基、N-垸基氨基甲酰基、N，N-二烷基氨基甲酰基、N-芳基氨基甲酰基、N，N-二芳基氨基甲酰基、N-烷基-N'-芳基氨基甲酰基。它们中的垸基和芳基可以举出作为上述垸基、取代烷基、芳基、取代芳基示例过的基团。上述羰基优选甲酰基、酰基、羧基、垸氧基羰基、芳氧基羰基、氨基甲酰基、N-垸基氨基甲酰基、N，N-二烷基氨基甲酰基、N-芳基氨基甲酰基，更优选甲酰基、酰基、垸氧基羰基、芳氧基羰基。上述羰基的具体例子可以优选地举出甲酰基、乙酰基、苯甲酰基、羧基、甲氧基羰基、乙氧基羰基、烯丙氧基羰基、二甲基氨基苯基乙烯基羰基、甲氧基羰基甲氧基羰基、N-甲基氨基甲酰基、N-苯基氨基甲酰基、N.N-二乙基氨基甲酰基、吗啉代羰基等。上述亚磺酰基(RG14-SO-)例如可以举出RG14由一价非金属原子团构成的基团。这种亚磺酰基例如可以举出烷基亚磺酰基、芳基亚磺酰基、氨亚磺酰基、N-烷基氨亚磺酰基、N,N-二垸基氨亚磺酰基、N-芳基氨亚磺酰基、N,N-二芳基氨亚磺酰基、N-烷基-N-芳基氨亚磺酰基。它们中的垸基和芳基可以举出作为上述垸基、取代垸基、芳基、和取代芳基示例过的基团。其中优选垸基亚磺酰基、芳基亚磺酰基。上述取代亚磺酰基的具体例子，可以优选地举出己基亚磺酰基、苄基亚磺酰基、甲苯基亚磺酰基等。上述膦酰基是指膦酰基上的羟基的一个两个被其它有机氧代基团取代的基团，例如优选上述二垸基膦酰基、二芳基膦酰基、烷基芳基膦酰基、单烷基膦酰基、单芳基膦酰基等。其中，更优选二垸基膦酰基、二芳基膦酰基。上述膦酰基的优选具体例可以举出二乙基膦酰基、二丁基膦酰基、二苯基膦酰基等。上述膦酸根基(_P03Hr、-P03H-)如上所述，是指膦酰基(-P03H2-)的来源于酸第一解离或酸第二解离的共轭碱阴离子基团。通常优选与对阳离子一起使用。这种对阳离子可以适当选择一般已知的基团，例如鑰类(例如铵类、锍类、膦类、碘鑰类、叠氮鑰(7-二々厶)类等)、金属离子类(例如Na+、K+、Ca2+、ZnD。上述膦酸根基可以是膦酰基中羟基被取代为一个有机氧代基团的共轭碱阴离子基，这种具体例子可以举出上述单烷基膦酰基(-P03H(alkyl))、单芳基膦酰基(-P03H(aryl))的共轭碱。上述芳香族基团可以通过使1种以上含有芳香族基团的自由基聚合性化合物与l种以上根据需要作为共聚成分的其它自由基聚合性化合物发生通常的自由基聚合法而制造。上述自由基聚合法例如一般可以举出悬浮聚合法或溶液聚合法等。作为具有含有上述芳香族基团的自由基聚合性化合物例如优选通式(A-l)所示的化合物、通式(A-2)所示的化合物。6=i通式《a—1)0上述结构式(A-l)中，R。R2和R3表示氢原子或1价有机基团。L表示有机基团，也可以没有。Ar表示可含有杂环的芳香族基团。通式(a-2》Ar上述通式(A-2)中，R4、R2和R3以及Ar的含义与上述通式(A-l)中的相同。上述L的有机基团例如可以为非金属原子构成的多元有机基团，可以具有由160个碳原子、010个氮原子、0~50个氧原子、1100个氢原子、0~20个硫原子构成的基团。更具体地说，上述L的有机基团可以举出下述结构单元组合构成的基团、多元萘、多元蒽等。Io一1>~—Ch+~—CH厂一Q~^J"HH上述L连接基团可以具有取代基，上述取代基可以举出上述卤原子、羟基、羧基、磺酸根基、硝基、氰基、酰胺基、氨基、烷基、链烯基、炔基、芳基、取代氧基、取代磺酰基、取代羰基、取代亚磺酰基、磺基、膦酰基、膦酸根基、甲硅烷基、杂环基。上述通式(A-l)所示的化合物和通式(A-2)所示化合物中，从感光度的观点出发优选通式(A-l)。上述通式(A-l)中，从稳定性的观点出发优选具有连接基团，上述L的有机基团从非显影部的除去性(显影性)的观点出发优选碳原子数为14的亚烷基。上述通式(A-l)所示的化合物成为含有下述通式(A-3)结构单元的化合物。另外，上述通式(A-2)所示的化合物成为含有下述通式(A-4)结构单元的化合物。其中，从保存稳定性的观点出发优选通式(A-3)的结构单元。o=CL>o=G"ck=o:H0=6:HO"CL"O上述通式(A-3)和(A-4)中，R"R2和R3以及Ar的含义与上述通式(A-l)和通式(A-2)中的相同。上述通式(A-3)和(A-4)中，从非图像部的除去性(显影性)的观点出发，优选R,、R2为氢原子、R3为甲基。另外，从非图像部的除去性(显影性)的观点出发，优选上述通式(A-3)的L是碳原子数为1~4的亚垸基。上述通式(A-l)所示化合物或通式(A-2)所示化合物并无特别限定，例如可以举出下述例示化合物(1)~(30)。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage24</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage25</formula>上述示例化合物(1)(30)中，优选(5)、(6)、(11)、(14)和(28)，其中从保存稳定性和显影性的观点出发优选(5)和(6)。上述可含有杂环的芳香族基团在上述(甲基)丙烯酸酯粘合剂的含量并无特别限定，在以高分子化合物的总结构单元作为100摩尔％时，优选含有20摩尔。/。以上的上述结构式(A-3)所示的结构单元，更优选含有3045摩尔％。上述含量小于20摩尔％时，保存稳定性会降低，超过45摩尔％时，显影性会降低。-乙烯性不饱和键-上述乙烯性不饱和键并无特别限定，可以根据目的适当选择，例如优选用下述通式(A-5)~(A-7)表示。o，，—YH-p通式(A—6)R<formula>formulaseeoriginaldocumentpage26</formula>—Z"i=通式(A—7)RjsR幼上述通式(A-5)~(A-7)中，R广Ru各自独立地表示1价有机基团。X和Y各自独立地表示氧原子、硫原子或-N-R4。Z表示氧原子、硫原子、->4-&或亚苯基。R4表示氢原子或l价有机基团。上述通式(A-5)中，R,优选各自独立地表示例如氢原子、可以具有取代基的垸基等，从自由基反应性高的方面出发更优选氢原子、甲基。上述R2和R3各自独立地举出例如氢原子、卤原子、氨基、羧基、烷氧基羰基、磺基、硝基、氰基、可具有取代基的垸基、可具有取代基的芳基、可具有取代基的烷氧基、可具有取代基的芳氧基、可具有取代基的烷基氨基、可以具有取代基的芳基氨基、可以具有取代基的烷基磺酰基、可具有取代基的芳基磺酰基等，从自由基反应性高的观点出发更优选氢原子、羧基、烷氧基羰基、可具有取代基的烷基、可具有取代基的芳基。上述R4例如优选可具有取代基的烷基等，由于自由基反应性高，因此更优选氢原子、甲基、乙基、异丙基。这里，可以导入的上述取代基例如可以举出垸基、链烯基、炔基、芳基、垸氧基、芳氧基、卤原子、氨基、烷基氨基、芳基氨基、羧基、烷氧基羰基、磺基、硝基、氰基、酰胺基、烷基磺酰基、芳基磺酰基等。上述通式(A-6)中，R4Rs例如可以举出氢原子、卤原子、氨基、二烷基氨基、羧基、烷氧基羰基、磺基、硝基、氰基、可具有取代基的垸基、可具有取代基的芳基、可具有取代基的烷氧基、可具有取代基的芳氧基、可具有取代基的烷基氨基、可具有取代基的芳基氨基、可具有取代基的烷基磺酰基、可具有取代基的芳基磺酰基等，更优选氢原子、羧基、垸氧基羰基、可具有取代基的垸基、可具有取代基的芳基。可以导入的上述取代基例如可以举出在上述通式(A-5)中举出的例子。上述通式(A-7)中，R9例如可以举出氢原子、可具有取代基的烷基等，从自由基反应性高的观点出发，更优选氢原子、甲基。上述Ru)、Ru各自独立地优选例如氢原子、卤原子、氨基、二烷基氨基、羧基、垸氧基羰基、磺基、硝基、氰基、可具有取代基的院基、可具有取代基的芳基、可具有取代基的垸氧基、可具有取代基的芳氧基、可具有取代基的垸基氨基、可具有取代基的芳基氨基、可具有取代基的烷基磺酰基、可具有取代基的芳基磺酰基等，由于自由基反应性高，因此更优选氢原子、羧基、垸氧基羰基、可具有取代基的垸基、可具有取代基的芳基。可以导入的上述取代基例如可以举出在上述通式(A-5)中举出的例子。上述Z表示氧原子、硫原子、-NR13-、或可具有取代基的亚苯基。R13表示可具有取代基的烷基，由于自由基反应性高，因此优选氢原子、甲基、乙基、异丙基。上述通式(A-5)(A-7)所示的侧链乙烯性不饱和键中，通式(A-5)者的聚合反应性更高、感光度更高，更为优选。上述乙烯性不饱和键的上述高分子化合物的含量并无特别限定，优选为0.5m叫/g3.0m叫/g、更优选1.0meq/g~3,0meq/g、特别优选1.5meq/g2.8meq/g。上述含量小于0.5meq/g时，由于固化反应量少，因此成为低感光度，超过3.0m叫/g时，保存稳定性会恶化。这里，上述含量(m叫/g)例如可以通过碘价滴定测定。作为上述通式(A-5)所示、在侧链导入乙烯性不饱和键的方法并无特别限定，例如可以举出使侧链含有羧基的高分子化合物与具有乙烯性不饱和键和环氧基的化合物加成反应而获得。上述侧链含有羧基的高分子化合物例如可以使1种以上含有羧基的自由基聚合性化合物与l种以上根据需要的作为共聚成份的其它自由基聚合性化合物发生通常的自由基聚合法而制造，上述自由基聚合法例如可以举出悬浮聚合法、溶液聚合法等。上述具有乙烯性不饱和键和环氧基的化合物并不限定于上述，例如优选下述通式(A-8)所示的化合物和(A-9)所示的化合物。，0—Lf,C;hb通式(A—8〗其中，上述通式(A-8)中，Ri表示氢原子或甲基。Li表示有机基团。，H上述通式(A-9)中，R2表示氢原子或甲基。L2表示有机基团。W表示4~7元环的脂肪族烃基。上述通式(A-8)所示化合物和通式(A-9)所示化合物中，优选通式(A-8)所示的化合物，上述通式(A-8)中，L,更优选碳原子数为14的亚烷基。上述通式(A-8)所示化合物和通式(A-9)所示化合物并无特别限定，例如可以举出下述化合物(31)(40)。28上述含有羧基的自由基聚合性化合物例如有丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、巴豆酸、异巴豆酸、马来酸、对羧基苯乙烯等，特别优选丙烯酸、甲基丙烯酸等。作为向上述侧链上的导入反应，例如可以通过以三乙胺、苄基甲基胺等叔胺，十二烷基三甲基氯化铵、四甲基氯化铵、四乙基氯化铵等季铵盐，吡啶，三苯基磷等作为催化剂，在有机溶剂中反应温度5015(TC下反应数小时数十小时来进行。上述侧链具有乙烯性不饱和键的结构单元并无特别限定，例如优选下述通式(A-10)所示的结构、通式(A-ll)所示的结构以及它们的混合所表示的结构。J1卜fi=CH2O"CH;rH^LrO"^通式(A—10)OH&卜'0—CHh-l厂O~C通式(A—11)上述通式(A-10)和(A-ll)中，RaRc表示氢原子或1价有机基团。^表示氢原子或甲基。b表示可具有连接基团的有机基团。上述通式(A-10)所示结构及通式(A-ll)所示结构在高分子化合物中的含量优选为20摩尔％以上、更优选为20~50摩尔％、特别优选为25~45摩尔％。上述含量小于20摩尔％时，由于固化反应量少，因此有时变为低感光度，多于50摩尔％时，有时保存稳定性会恶化。-羧基-本发明的高分子化合物中，为了提高非图像部除去性等各种性能，可以含有羧基。上述羧基可以通过使具有酸性基团的自由基聚合性化合物共聚而赋予至上述高分子化合物。这种具有自由基聚合性的酸性基团例如可以举出羧酸、磺酸、磷酸基等，特别优选羧酸。具有上述羧基的自由基聚合性化合物并无特别限定，可以根据目的适当地选择，例如可以举出丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、巴豆酸、异巴豆酸、马来酸、对羧基苯乙烯等，其中，特别优选丙烯酸、甲基丙烯酸、对羧基苯乙烯等。这些物质可以单独使用1种还可以并用2种以上。上述羧基在(甲基)丙烯酸酯系粘合剂中的含量为1.04.0meq/g、优选1.5~3.0meq/g。上述含量小于1.0meq/g时，显影性会变得不足，超过4.0meq/g时，易于受到碱水显影所导致的图像强度受损。本发明的高分子化合物为了提高图像强度等各种性能，除了上述自由基聚合性化合物之外，优选进一步共聚其它自由基聚合性化合物。上述其它自由基聚合性化合物例如可以举出选自丙烯酸酯类、甲基丙/u个30烯酸酯类、苯乙烯类等的自由基聚合性化合物等。具体地可以举出丙烯酸烷基酯等丙烯酸酯类，丙烯酸芳基酯、甲基丙烯酸烷基酯等甲基丙烯酸酯类，甲基丙烯酸芳基酯、苯乙烯、垸基苯乙烯等苯乙烯类，烷氧基苯乙烯、卤代苯乙烯等。上述丙烯酸酯类优选烷基的碳原子数为1~20的酯类，例如可以举出丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸戊酯、丙烯酸乙基己酯、丙烯酸辛酯、丙烯酸叔辛酯、丙烯酸氯乙酯、丙烯酸2，2-二甲基羟基丙酯、丙烯酸5-羟基戊酯、三羟甲基丙垸单丙烯酸酯、季戊四醇单丙烯酸酯、丙烯酸縮水甘油酯、丙烯酸苄酯、丙烯酸甲氧基苄酯、丙烯酸糠酯、丙烯酸四氢糠酯等。上述丙烯酸芳基酯例如可以举出丙烯酸苯酯等。上述甲基丙烯酸酯类优选垸基的碳原子数为1~20的酯类，例如可以举出甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丙酯、甲基丙烯酸异丙酯、甲基丙烯酸戊酯、甲基丙烯酸己酯、甲基丙烯酸环己酯、甲基丙烯酸苄酯、甲基丙烯酸氯苄酯、甲基丙烯酸辛酯、甲基丙烯酸4-羟基丁酯、甲基丙烯酸5-羟基戊酯、甲基丙烯酸2,2-二甲基-3-羟基丙酯、三轻甲基丙烷单甲基丙烯酸酯、季戊四醇单甲基丙烯酸酯、甲基丙烯酸縮水甘油酯、甲基丙烯酸糠酯、甲基丙烯酸四氢糠酯等。上述甲基丙烯酸芳基酯例如可以举出甲基丙烯酸苯酯、甲基丙烯酸甲苯酯、甲基丙烯酸萘酯等。上述苯乙烯类例如可以举出甲基苯乙烯、二甲基苯乙烯、三甲基苯乙烯、乙基苯乙烯、二乙基苯乙烯、异丙基苯乙烯、丁基苯乙烯、己基苯乙烯、环己基苯乙烯、癸基苯乙烯、苄基苯乙烯、氯甲基苯乙烯、三氟甲基苯乙烯、乙氧基甲基苯乙烯、乙酰氧基甲基苯乙烯等。上述烷氧基苯乙烯例如可以举出甲氧基苯乙烯、4-甲氧基-3-甲基苯乙烯、二甲氧基苯乙烯等。上述卤代苯乙烯例如可以举出氯苯乙烯、二氯苯乙烯、三氯苯乙烯、四氯苯乙烯、五氯苯乙烯、溴苯乙烯、二溴苯乙烯、碘苯乙烯、氟苯乙烯、三氟苯乙烯、2-溴-4-三氟甲基苯乙烯、4-氟-3-三氟甲基苯乙烯等。这些自由基聚合性化合物可以单独使用1种，还可以并用2种以上。合成本发明高分子化合物时使用的溶剂并无特别限定，可以根据目的适当地选择，例如可以举出二氯乙烯、环己酮、甲乙酮、丙酮、甲醇、乙醇、丙醇、丁醇、乙二醇单甲基醚、乙二醇单乙基醚、2-甲氧基乙基乙酸酯、l-甲氧基-2-丙醇、l-甲氧基-2-丙基乙酸酯、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、二甲基亚砜、甲苯、乙酸乙酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯等。这些物质可以单独使用1种，还可以混合使用2种以上。本发明的高分子化合物的分子量以质均分子量表示优选为10000以上、更优选为10000~50000。上述质均分子量低于10000时，有固化膜强度不足的情况，超过50000时，有显影性降低的倾向。另外，本发明的高分子化合物中可以含有未反应的单体。此时，上述单倍体在上述高分子化合物中的含量优选为15质量％以下。本发明的高分子化合物可以单独使用1种，还可以混合使用2种以上。另外，还可以混合使用其它高分子化合物。此时，上述其它高分子化合物在上述本发明高分子化合物中的含量优选为50质量％以下、更优选为30质量％以下。上述(甲基)丙烯酸酯系粘合剂在上述感光性组合物中的固态成分含量优选为5质量~80质量％、更优选为10质量~70质量％。上述(甲基)丙烯酸酯系粘合剂在上述感光性组合物中的固态成分含量优选为5质量％80质量％，较优选为10质量％70质量％。该固态成分含量不足5质量％时，感光层的膜强度容易变弱，该感光层的表面的粘着性变差，超过80质量％时，有时曝光感光度下降。-<聚合性化合物>上述聚合性化合物没有特别的限定，可根据目的适当选择，例如，可以举出二羟甲基三环癸烷二(甲基)丙烯酸酯(三环癸烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯)、二季戊四醇六丙烯酸酯。予以说明，本发明中，"聚合性化合物"不包括在粘合剂中可包含的聚合性化合物。上述聚合性化合物的上述感光性组合物固态成分中的固态成分含量优选为5质量％50质量。％，较优选为10质量％40质量。％。如果该固态成分含量不足5质量％则有时产生显影性变差、曝光感光度差等的问题，32如果超过50质量％，则有时感光层的粘着性变得太强，不理想。<热交联剂>上述热交联剂只要是通过加热引起交联反应的化合物即可，没有特别的限定，可以根据目的适当选择，但为了改善使用上述感光性组合物而形成的感光层固化后的膜强度，可以在不对显影性等产生不良影响的范围内使用l分子内具有至少2个环氧基(环氧乙烷)的环氧化合物(环氧乙垸化合物)、l分子内具有至少2个氧杂环丁烷基的氧杂环丁垸化合物、聚异氰酸酯化合物、使封端剂与聚异氰酸酯化合物反应而得到的化合物以及蜜胺衍生物等。其中，特别优选在1分子内具有至少2个环氧基的环氧基化合物。上述1分子中具有至少2个环氧基的环氧化合物例如可以举出对二甲苯酚型(tf年、乂^/一小)或双酚型环氧树脂("YX4000日本环氧树脂社制"等)或它们的混合物、具有异氰酸酯骨架的杂环式环氧树脂("TEPIC;日产化学工业(株)制")、"爱牢达(ARALDITE)PT810;汽巴精化公司制"等)、双酚A型环氧树脂、酚醛清漆型环氧树脂、双酚F型环氧树脂、氢化双酚A型环氧树脂、双酚S型环氧树脂、酚醛酚醛清漆树脂型环氧树脂、甲酚酚醛清漆树脂型环氧树脂、卤化环氧树脂(例如低溴化环氧树脂、高卤化环氧树脂、溴化酚醛酚醛清漆树脂型环氧树脂等)、含烯丙基的双酚A型环氧树脂、三苯酚甲垸型环氧树脂、二苯基二甲醇型环氧树脂、双酚联苯型环氧树脂、二环戊二烯型环氧树脂("HP-7200、HP-7200H;大日本油墨化学工业(株)制等")、縮水甘油胺型环氧树脂(二氨基二苯基甲烷型环氧树脂、二縮水甘油苯胺、三縮水甘油氨基苯酚等)；縮水甘油酯型环氧树脂(苯二甲酸二縮水甘油酯、己二酸二縮水甘油酯、六氢苯二甲酸二缩水甘油醚、二聚酸二缩水甘油酯等)乙内酰脲型环氧树脂、脂环式环氧树脂(3,4-环氧基环己基甲基-3，，4'-环氧基环己垸羧酸酯、双(3，4-环氧基环己基甲基)己二酸酯、二环戊二烯二环氧化物、"GT-300、GT-400、ZEHPE3150;大赛璐化学工业制"等)、酰亚胺型脂环式环氧树脂、三羟基苯基甲烷型环氧树脂、双酚A酚醛清漆树脂型环氧树脂、四苯基乙垸型环氧树脂、縮水甘油基苯二甲酸酯树脂、四縮水甘油基二甲苯酚乙垸树脂、含萘基的环氧树脂(萘酚芳烷型环氧树脂、萘酚酚醛清漆树脂型环氧树脂、4官能萘型环氧树脂、市售品"ESN-190、ESN-360;新日铁化学(株)制")、"HP-4032、EXA-4750、EXA-4700;大日本油墨化学工业(株)制等"、苯酚化合物与二乙烯基苯或二环戊二烯等二烯烃化合物的加成反应而获得的聚苯酚化合物与表氯醇的反应物、用过乙酸等将4-乙烯基环己烯-l-氧化物的开环聚合物进行环氧化的产物、具有线状含磷结构的环氧树脂、具有环状含磷结构的环氧树脂、a-甲基苯乙烯型液晶环氧树脂、二苯甲酸基苯型液晶环氧树脂、偶氮苯基型液晶环氧树脂、偶氮甲川苯基型液晶环氧树脂、联萘型液晶环氧树脂、吖嗪型环氧树脂、縮水甘油基甲基丙烯酸酯共聚系环氧树脂("CP-50S、CP-50M;日本油脂(株)制"等)、环己基马来酰亚胺与缩水甘油基甲基丙烯酸酯的共聚环氧树脂、双(縮水甘油氧基苯基)芴型环氧树脂、双(縮水甘油氧基苯基)金刚烷型环氧树脂等，但并非局限于这些。这些环氧树脂可以单独使用l种，还可以并用2种以上。另外，上述在1分子中具有至少2个环氧基的环氧化合物中的环氧基可以在卩位具有垸基，特别优选卩位被烷基取代的环氧基(更具体地卩-垸基取代縮水甘油基等)。上述至少含有卩位具有垸基的环氧基的环氧化合物可以是分子中所含2个以上的环氧基全部为(3-垸基取代縮水甘油基，还可以是至少1个的环氧基为p-烷基取代縮水甘油基。从室温的保存稳定性的观点出发，上述含有卩位具有烷基的环氧基的环氧化合物在上述感光性组合物中所含有的上述环氧化合物全量中的、全环氧基中的P-烷基取代縮水甘油基的比例优选为30%以上，更优选为40%以上，特别优选50%以上。上述(3-垸基取代縮水甘油基并无特别限定，可以根据目的适当地选择，例如可以举出(3-甲基缩水甘油基、(3-乙基縮水甘油基、P-丙基縮水甘油基、卩-丁基縮水甘油基等，其中，从提高上述感光性树脂组合物的保存稳定性的观点以及合成容易性的观点出发，优选p-甲基縮水甘油基。作为上述含有卩位具有烷基的环氧基的环氧化合物例如优选由多元酚化合物与P-烷基表氯醇衍生而来的环氧化合物。上述(3-烷基表氯醇并无特别限定，可以根据目的适当选择，例如可以举出(3-甲基表氯醇、(3-甲基表溴醇、P-甲基表氟醇等(3-甲基表卤醇；卩-乙基表氯醇、P-乙基表溴醇、(3-乙基表氟醇等P-乙基表卤醇；(3-丙基表氯醇、(3-丙基表溴醇、卩-丙基表氟醇等卩-丙基表卤醇；卩-丁基表氯醇、卩-丁基表溴醇、(3-丁基表氟醇等P-丁基表卤醇等。其中，从与多元酚化合物的反应性和流动性的观点出发优选|3-甲基表卤醇。上述多元酚化合物只要是1分子中含有2个以上芳香族羟基的化合物则无特别限定，可以根据目的适当决定，例如可以举出双酚A、双酚F、双酚S等双酚化合物，联苯、四甲基联苯等联苯化合物，二羟基萘、联萘等萘酚化合物，苯酚-甲醛縮聚物等酚醛清漆树脂型树脂、甲酚-甲醛缩聚物等碳原子数为1~10的单烷基取代苯酚-甲醛縮聚物、二甲苯酚-甲醛縮聚物等碳原子数为1~10的二垸基取代苯酚-甲醛缩聚物、双酚A-甲醛縮聚物等双酚化合物-甲醛縮聚物、苯酚与碳原子数为1~10的单烷基取代苯酚与甲醛的共縮聚物、苯酚化合物与二乙烯基苯的加成聚合物等。其中，在以提高流动性和保存稳定性为目的进行选择时，优选上述双酚化合物。作为上述含有卩位具有烷基的环氧基的环氧化合物例如可以举出双酚A的二-(3-烷基縮水甘油醚、双酚F的二-P-烷基縮水甘油醚、双酚S的二-P-烷基縮水甘油醚等双酚化合物的二-(3-烷基縮水甘油醚；联苯酚(tf7工乂一，)的二-(3-烷基缩水甘油醚、四甲基双酚的二-p-烷基縮水甘油醚等联苯化合物的二-卩-烷基縮水甘油醚；二羟基萘的二-P-烷基縮水甘油醚、联萘的二-(3-烷基縮水甘油醚等萘酚化合物的(3-垸基縮水甘油醚；苯酚-甲醛縮聚物的多-P-烷基縮水甘油醚、甲酚-甲醛縮聚物的多-P-烷基縮水甘油醚等碳原子数为1~10的单烷基取代苯酚-甲醛縮聚物的多-|3-烷基缩水甘油醚；二甲苯酚-甲醛縮聚物的多-P-垸基縮水甘油醚等碳原子数为1~10的二垸基取代苯酚-甲醛縮聚物的多-(3-烷基縮水甘油醚、双酚A-甲醛縮聚物的多-(3-垸基縮水甘油醚等双酚化合物-甲醛縮聚物的多-P-烷基縮水甘油醚；苯酚化合物与二乙烯基苯的加成聚合物的多-P-垸基縮水甘油醚等。其中，优选下述通式(C-l)所示的双酚化合物、由其与表氯醇等获得的聚合物衍生而来的(3-垸基縮水甘油醚、下述通式(C-2)所示的苯酚化合物-甲醛縮聚物的多-(3-烷基縮水甘油醚。通式(C一1)其中，上述通式(C-l)中，R表示氢原子和碳原子数为1~6的烷基中的任一个，n表示020的任一整数。其中，上述通式(C-2)中，R表示氢原子和碳原子数为1~6的烷基中的任一个，R"表示氢原子和CH3中的任一个，n表示020的任一整数。这些含有(3位具有垸基的环氧基的环氧化合物可以单独使用1种，还可以并用2种以上。另外，还可并用l分子中具有至少2个环氧基(环氧乙垸环)的环氧化合物以及含有(3位具有垸基的环氧基的环氧化合物。上述环氧化合物的骨架优选从双酚型环氧树脂、酚醛清漆型环氧树脂、具有脂环式基团的环氧树脂以及难溶性环氧树脂中选择的至少1种。上述在分子内具有至少2氧杂环丁垸环的环氧化合物，例如，除了双[(3-甲基-3-氧杂环丁烷基甲氧基)甲基]醚、双[(3-乙基-3-氧杂环丁烷基甲氧基)甲基]醚、1,4-双[(3-甲基-3-氧杂环丁垸基甲氧基)甲基]苯、1,4-双[(3-乙基-3-氧杂环丁烷基甲氧基)甲基]苯、丙烯酸(3-甲基-3-氧杂环丁烷基)甲酯、丙烯酸(3-乙基-3-氧杂环丁烷基)甲酯、甲基丙烯酸(3-甲基-3-氧杂环丁烷基)甲酯、甲基丙烯酸(3-乙基-3-氧杂环丁烷基)甲酯和它们的寡聚物或共聚物等多官能氧杂环丁烷类之外，还可以举出具有氧杂环丁烷基的化合物与酚醛清漆型树脂、聚(对羟基苯乙烯)、卡尔多(力K)型双酚类、杯(caiix，力y，夕义)芳烃类、杯(caiix，力y、7夕7)间苯二酚芳烃类、硅倍半氧垸(Silsesquioxane，、乂》ir7年才年廿y)等具有羟基的树脂等醚化合物，另外，还可以举出具有氧杂环丁烷环的不饱和单体与(甲基)丙烯酸垸基酯的共聚物等。另外，上述蜜胺衍生物，例如可以举出羟甲基蜜胺、烷基化羟甲基蜜胺(用甲基、乙基、丁基等将羟甲基醚化而成的化合物)等。它们可以单独使用1种，也可并用2种以上。其中，从保存稳定性良好、对提高感光层的表面硬度或固化膜的膜强度本身的点出发，优选垸基化羟甲基蜜胺，特别优选六甲基化羟甲基蜜胺。上述热交联剂在上述感光性组合物中的固态成分中的含量优选为1质量％~50质量％、更优选为3质量％~30质量％。该固态成分含量小于1质量％时，未见固化膜的膜强度提高，超过50质量％时，有时会发生显影性降低或曝光感光度降低。<中性的光聚合引发剂>上述光聚合引发剂可以使用中性的光聚合引发剂。另外根据需要也可以含有其它的光聚合引发剂。上述中性的光聚合引发剂没有特别的限定，可以根据目的适当选择，但优选具有至少芳香族基的化合物，更优选(双)酰基氧化膦以及酯类、乙酰苯系化合物、二苯甲酮系化合物、苯偶姻醚系化合物、縮酮衍生物化合物、噻吨酮化合物、肟化合物及其酯类，特别优选具有下述通式(I)以及通式(II)任一个所示的化合物部分结构的化合物。上述中性的光聚合引发剂也可并用2种以上。作为上述(双)酰基氧化膦，2，6-二甲基苯甲酰基二苯基氧化膦、2，4，6-三甲基苯甲酰基二苯基氧化膦、2，4，6-三甲基苯甲酰基苯基膦酸甲基酯、2，6-二氯苯甲酰基苯基氧化膦、2，6-二甲氧基苯甲酰基二苯基氧化膦、双(2，6-二甲氧基苯甲酰基)-2，4，4-三甲基-戊基氧化膦、双(2，4，6-三甲基苯甲酰基)-苯基氧化膦等。上述乙酰苯系化合物可以举出乙酰苯、甲氧基乙酰苯、l-苯基-2-羟基-2-甲基丙烷-1-酮、1-羟基环己基苯基酮、4-二苯氧基二氯乙酰苯、二乙氧基乙酰苯、1-(4-异丙基苯基)-2-羟基-2-甲基丙垸-1-酮等。上述二苯甲酮系化合物可以举出二苯甲酮、4-苯基二苯甲酮、苯甲酰基安息香酸甲基、4-苯基二苯甲酮、羟基二苯甲酮、3，3'-二甲基-4-甲氧基二苯甲酮、二苯氧基二苯甲酮等。上述苯偶姻醚系化合物可以举出苯偶姻乙醚、苯偶姻丙基醚等。上述縮酮衍生物化合物可以举出苄基二甲基縮酮等。上述噻吨酮化合物可以举出2-氯噻吨酮、2，4-二甲基噻吨酮、2，4-二乙基噻吨酮、2，4-二异丙基噻吨酮、异丙基噻吨酮等。上述肟酯化合物可以举出3-苯甲酸基亚氨基丁烷-2-酮、3-乙酸基亚氨基丁垸-2-酮、3-丙酰氧基亚氨基丁烷-2-酮、2-乙酸基亚氨基戊烷-3-酮、2-乙酸基亚氨基-l-苯基丙烷-l-酮、2-苯甲酸基亚氨基-l-苯基丙烷-l-酮、3-P-甲苯磺酰氧基亚氨基丁垸-2-酮、2-乙氧基羰氧基亚氨基-l-苯基丙烷-l-酮、日本特开2000-80068号、日本特表2004-534797号中记载的化合物等。其中，上述通式(I)以及(II)中，Ar表示芳香族基以及杂环基中的任一种。Y'表示氢原子以及1价取代基取代基中的任一种，￥2表示脂肪族基、芳香族基、杂环基、COY3、C02Y3以及CONY4y5中的任一种。Y3、￥4以及ys表示脂肪族基、芳香族基以及杂环基中的任一种。m表示l以上的整数。上述YM尤选氢原子、脂肪族基以及芳香族基中的任一种。上述Y^尤选脂肪族基、-CO-(脂肪族基)、-CO-(芳香族基)、-CO-(杂环基)、-C02-(脂肪族基)、-COr(芳香族基)以及《02-(杂环基)中的任一种。上述Y3以及^优选脂肪族基以及芳香族基中的任一种。上述中性的光聚合引发剂可以为上述通式(I)以及通式(II)所示的化合物结构经由连接基多个键合而成的化合物。予以说明，上述通式(I)以及通式(II)中，上述脂肪族基表示可以具有各自取代基的烷基、链烯基、炔基，上述芳香族基表示可以具有各自取代基的芳基、杂环，上述一价的取代基表示卤原子、可以具有取代基的氨基、烷氧羰基、羟基、醚基、硫醇基、硫醚基、甲硅烷基、硝基、氰基、可以具有各自取代基的垸基、链烯基、炔基、芳基、杂环基。上述芳香族基可以举出l个3个苯环形成稠环而成的基团、苯环与5元不饱和环形成稠环而成的基团，具体例可以举出苯基、萘基、蒽基、菲基、茚基、苊基、芴基，其中优选具有苯基及萘基中的任意一种的基团，特别优选具有萘基的基团。c;chc(y1)=n-o—y2)通式(n)另外，这些芳基也可以具有取代基，作为这样的取代基，可以列举出由除氢原子以外的l价非金属原子团构成的基团。可以列举出例如，后述的垸基、取代垸基或作为在取代垸基中的取代而表示的基团等。另外，作为上述杂环基(hetero基)，可以列举出吡咯环基、呋喃环基、噻吩环基、苯并吡咯环基、苯并呋喃环基、苯并噻吩环基、吡唑环基、异瞎唑环基、异噻唑环基、喷唑环基、苯并异嗯唑环基、苯并异噻唑环基、咪唑环基、螺唑环基、噻唑环基、苯并咪唑环基、苯并螺唑环基、苯并噻唑环基、批啶环基、喹啉环基、异喹啉环基、哒嗪环基、嘧啶环基、吡嗪环基、酞嗪环基、喹唑啉环基、喹瞎、啉环基、氮丙啶环基(7、乂y^:/環基)、菲啶环基、咔唑环基、嘌呤环基、吡喃环基、哌啶环基、哌嗪环基、吗啉环基、刚哚环基、B引嗪环基、色烯环基、噌啉环基、吖啶环基、酚噻嗪环基、四唑环基、三嗪环基等，其中特别优选呋喃环基、噻吩环基、咪唑环基、噻唑环基、苯并噻唑环基、吡啶环基、B引哚环基、吖啶环基。另外，这些杂环基也可以具有取代塞，这样的取代基可以列举出由除氢原子外的1价非金属原子团构成的基团。可以列举出例如，后述的烷基、取代烷基或作为在取代垸基中的取代基而表示的基团等。作为上述l价取代基，优选卤素原子、可具有取代基的氨基、垸氧基羰基、羟基、醚基、巯基、硫醚基、甲硅烷基、硝基、氰基、可以分别具有取代基的烷基、链烯基、炔基、芳基、杂环基。另外，作为上述由非金属原子基团构成的1价取代基，优选可以分别具有取代基的烷基、链烯基、炔基、芳基、杂环基。作为可以具有上述取代基的垸基，可以列举出碳原子数为从120的直链状、支链状及环状的烷基，其具体例可以列举出甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、庚基、辛基、壬基、癸基、十一烷基、十二烷基、十三烷基、十六烷基、十八烷基、二十烷基、异丙基、异丁基、s-丁基、叔丁基、异戊基、新戊基、l-甲基丁基、异己基、2-乙基己基、2-甲基己基、环己基、环戊基、2-降冰片基。这些垸基中，更优选碳原子数为112的直链状、碳原子数为312的支链状以及碳原子数为510的环状烷基。上述烷基可具有的取代基，例如可以举出去除氢原子的一价的非金属原子团构成的基，作为这样的取代基，例如可以举出卤原子(-F、-Br、-Cl、-1)、羟基、烷氧基、芳氧基、巯基、垸硫基、芳硫基、烷基二硫代基、芳基二硫代基、氨基、N-烷基氨基、N，N-二烷基氨基、N-芳基氨基、N，N-二芳基氨基、N-烷基-N-芳基氨基、酰氧基、氨基甲酰氧基、N-烷基氨基甲酰氧基、N-芳基氨基甲酰氧基、N，N-二烷基氨基甲酰氧基、N，N-二芳基氨基甲酰氧基、N-烷基-N-芳基氨基甲酰氧基、烷基硫氧(sulfoxy)基、芳基硫氧基、酰硫基、酰氨基、N-烷基酰氨基、N-芳基酰氨基、脲基、N'-垸基脲基、N',N'-二垸基脲基、N'-芳基脲基、N',N'-二芳基脲基、N'-烷基-N'-芳基脲基、N-烷基脲基、N-芳基脲基、N'-垸基-N-垸基脲基、N'-烷基-N-芳基脲基、N'，N'-二垸基-N-垸基脲基、N',N'-二垸基-N-芳基脲基、N'-芳基-N-垸基脲基、N'-芳基-N-芳基脲基、N',N'-二芳基-N-烷基脲基、N',N'-二芳基-N-芳基脲基、N'-烷基-N'-芳基-N-烷基脲基、N'-烷基-N'-芳基-N-芳基脲基、垸氧基羰基氨基、芳氧基羰基氨基、N-垸基-N-烷氧基羰基氨基、N-垸基-N-芳氧基羰基氨基、N-芳基-N-烷氧基羰基氨基、N-芳基-N-芳氧基羰基氨基、甲酰基、酰基、羧基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、氨基甲酰基、N-垸基氨基甲酰基、N,N-二垸基氨基甲酰基、N-芳基氨基甲酰基、N,N-二芳基氨基甲酰基、N-烷基-N-芳基氨基甲酰基、垸基亚磺酰基、芳基亚磺酰基、烷基磺酰基、芳基磺酰基、磺基(-S03H)及其共轭碱基(称作磺酸根(sulfonato)基)、烷氧基磺酰基、芳氧基磺酰基、氨亚磺酸酰(sulfinamoyl,7少7^于乇,少)基、N-烷基氨亚磺酸酰基、N,N-二烷基氨亚磺酸酰基、N-芳基氨亚磺酸酰基、W，N-二芳基氨亚磺酸酰基、N-烷基-N-芳基氨亚磺酸酰基、氨磺酰基、N-烷基氨磺酰基、N,N-二垸基氨磺酰基、N-芳基氨磺酰基、N,N-二芳基氨磺酰基、N-垸基-N-芳基氨磺酰基、膦酰基(-P03H2)及其共轭碱基(称作膦酸根(phosphonato，尔只沐于卜)基)、二烷基膦酰基(-P03(alkyl)2)(以下"alkyl"是指垸基，以下同)、二芳基膦酰基(-P03(aryl)2)(以下"aryl"是指芳基，以下同)、烷基芳基膦酰基(-PCMalkyl)(aryl))、单烷基膦酰基(-P03(alkyl))及其共轭碱基(称作烷基膦酸根基)、单芳基膦酰基(-P03H(aryl))及其共轭碱基(称作芳基膦酸根基)、膦酰氧基(-OP03H2)及其共轭碱基(称作膦酸根氧基)、二烷基膦酰氧基(-OP03H(alkyl)2)、二芳基膦酰氧基(-OP03H(aryl)2)、垸基芳基膦酰氧基(-OP03(alkyl)(aryl))、单垸基膦酰40氧基(-OP03H(alkyl)))及其共轭碱基(称作烷基膦酸根氧基)、单芳基膦酰氧基(-OP03H(aryl)))及其共轭碱基(称作芳基膦酸根氧基)、氰基、硝基、芳基、烯基、炔基、杂环基、甲硅烷基等。这些取代基中的烷基的具体例可以举出上述的垸基。作为上述取代基中的芳基的具体例，可以举出苯基、联苯基、萘基、甲苯基、二甲苯基、莱(mesityl)基、枯烯基、氯苯基、溴苯基、氯甲基苯基、羟基苯基、甲氧苯基、乙氧苯基、苯氧苯基、乙酸基苯基、苯甲酸基苯基、甲硫基苯基、苯硫基苯基、甲氨基苯基、二甲氨基苯基、乙酰氨基苯基、羧苯基、甲氧羰基苯基、乙氧苯基羰基、苯氧羰基苯基、N-苯羰基苯基、氰基苯基、磺基苯基、磺酸根苯基、膦酰基苯基、膦酸根苯基等。另外，上述取代基中的链烯基的例子可以举出乙烯基、l-丙烯基、1-丁烯基、肉桂基、2-氯-l-乙烯基等。作为上述取代基中的炔基的具体例，可以举出乙炔基、l-丙炔基、l-丁炔基、三甲基甲硅烷基乙炔基等。上述取代基中的杂环基，例如可以举出吡啶基、哌啶基等，上述取代基中的甲硅烷基，可以举出三甲基甲硅垸基等等。上述取代基中也可以包含酰基(RWCO-)，该酰基可以列举该R^例如为氢原子、上述的烷基、芳基的基团等。作为上述酰基(rq1co-)的rW，可以举出氢原子、以及上述的烷基、芳基等。在这些取代基中，较优选卤原子(-F、-Br、-Cl、-1)、烷氧基、芳氧基、烷硫基、芳硫基、N-烷基氨基、N，N-二烷基氨基、酰氧基、N-烷基氨基甲酰氧基、N-芳基氨基甲酰氧基、酰胺基、甲酸基、酰基、羧基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、氨基甲酰基、N-烷基氨基甲酰基、N，N-二烷基氨基甲酰基、N-芳基氨基甲酰基、N-垸基-N-芳基氨基甲酰基、磺基、磺酸根基、氨磺酰基、N-垸基氨磺酰基、N，N-二烷基氨磺酰基、N-芳基氨磺酰基、N-垸基-N-芳基氨磺酰基、膦酰基、膦酸根基、二烷基膦酰基、二芳基膦酰基、一烷基膦酰基、烷基膦酸根基、一芳基膦酰基、芳基膦酸根基、膦酰基氧基、膦酸根基氧基、芳基、链烯基等。另一方面，取代烷基中的亚垸基，例如可以举出从上述碳原子数为l20的烷基上除去任意一个氢原子而成为2价的有机残基的亚垸基，可以优选举出碳原子数为112的直链状的亚烷基、碳原子数为312的支链状的亚垸基以及碳原子数为510的环状亚垸基等。作为这样通过组合取代基和亚烷基得到的取代烷基的优选具体例，可以举出氯甲基、溴甲基、2-氯乙基、三氟甲基、甲氧基甲基、异丙氧基甲基、丁氧基甲基、叔丁氧基丁基、甲氧基乙氧基乙基、烯丙氧基甲基、苯氧基甲基、甲硫基甲基、甲苯基硫代甲基、吡啶基甲基、四甲基哌啶基甲基、N-乙酰基四甲基哌啶基甲基、三甲基甲硅烷基甲基、甲氧基乙基、乙氨基乙基、二乙胺基丙基、吗啉代丙基、乙酰氧基甲基、苯甲酸基甲基、N-环己基氨基甲酰氧基乙基、N-苯基氨基甲酰氧基乙基、乙酰胺基乙基、N-甲基苯甲酰基氨基丙基、2-氧基乙基、2-氧基丙基、羧基丙基、甲氧羰基乙基、烯丙氧基羰基丁基、氯苯氧羰基甲基、氨基甲酰基甲基、N-甲基氨基甲酰基乙基、N，N-二丙基氨基甲酰基甲基、N-(甲氧苯基)氨基甲酰基乙基、N-甲基-N-(磺基苯基)氨基甲酰基甲基、磺基丁基、磺酸根基(sulfonato，卜基)丁基、氨磺酰丁基、N-乙基氨磺酰甲基、N，N-二丙基氨磺酰丙基、N-甲苯基氨磺酰丙基、N，N-二丙基氨磺酰丙基、N-甲苯基氨磺酰丙基、N-甲基-N-(膦酰基苯基)氨磺酰辛基、膦酰基丁基、膦酸根基已基、二乙基膦酰基丁基、二苯基膦酰基丙基、甲基膦酰基丁基、甲基膦酸根基丁基、甲苯基膦酰基己基、甲苯基膦酸根基己基、膦酰基氧基丙基、膦酸根基氧基丁基、节基、苯乙基、a-甲基苄基、l-甲基-l-苯乙基、对甲苄基、肉桂基、烯丙基、1-丙烯基甲基、2-丁烯基、2-甲代烯丙基、2-甲基丙烯基甲基、2-丙炔基、2-丁炔基、3-丁炔基等。上述芳基可以举出13个苯环形成稠环而成的基、苯环与5员不饱和环形成稠环而成的基等。作为具体例，例如可以举出苯基、萘基、蒽基、菲基、茚基、苊基、銜基等。其中，更优选苯基、萘基。取代芳基可以使用作为在上述芳基的环形成碳原子上的取代基，具有去掉氢原子的一价的非金属原子团构成的基的取代基。作为优选的取代基的例子，可以举出上述的烷基、取代烷基、以及之前作为取代垸基中的取代基而例示的基团。作为上述取代芳基的优选具体例，可以举出联苯基、甲苯基、二甲苯基、茶基、枯烯基、氯苯基、溴苯基、氟苯基、氯甲基苯基、三氟甲基苯基、羟苯基、甲氧苯基、甲氧基乙氧基苯基、烯丙氧基苯基、苯氧苯基、甲硫基苯基、苯硫基苯基、乙胺基苯基、二乙胺基苯基、吗啉代苯基、乙酰氧基苯基、苯甲酸基苯基、N-环己基氨基甲酰氧基苯基、N-苯基氨基甲酰氧基苯基、乙酰胺基苯基、N-甲基苯甲酰基氨基苯基、羧苯基、甲氧羰基苯基、烯丙氧基羰基苯基、氯苯氧羰基苯基、氨基甲酰基苯基、N-甲基氨基甲酰基苯基、N，N-二丙基氨基甲酰基苯基、N-(甲氧苯基)氨基甲酰基苯基、N-甲基-N-(磺基苯基)氨基甲酰基苯基、磺基苯基、磺酸根基苯基、氨磺酰苯基、N-乙基氨磺酰苯基、N，N-二丙基氨磺酰苯基、N-甲苯基氨磺酰苯基、N-甲基-N-(膦酰基苯基)氨磺酰苯基、膦酰基苯基、膦酸根基苯基、二乙基膦酰基苯基、二苯基膦酰基苯基、甲基膦酰基苯基、甲基膦酸根基苯基、甲苯基膦酰基苯基、甲苯基膦酸根基苯基、烯丙基苯基、1-丙烯基甲基苯基、2-丁烯基苯基、2-甲基烯丙基苯基、2-甲基丙烯基苯基、2-丙炔基苯基、2-丁炔基苯基、3-丁炔基苯基等。作为上述链烯基、上述取代链烯基、上述炔基、以及上述取代炔基(-C(R02)=C(R03)(R04))及(-C三C(R05))，例如可以举出R02、R03、R04及RQ5为由一价的非金属原子团构成的基的基团。作为RQ2、R°3、RQ4、RQ5，例如举出氢原子、卤原子、烷基、取代烷基、芳基、取代芳基等。作为它们的具体例，可以举出上述例示的基团。其中，优选为氢原子、卤原子、碳原子数为110的直链状的垸基、支链状的垸基、环状的烷基。具体而言，可以举出乙烯基、l-丙烯基、l-丁烯基、l-戊烯基、1-己烯基、l-辛烯基、l-甲基-l-丙烯基、2-甲基-l-丙烯基、2-甲基-l-丁烯基、2-苯基-l-乙烯基、2-氯-l-乙烯基、乙炔基、l-丙炔基、l-丁炔基、苯基乙炔基等。作为上述杂环基，可以举出作为取代烷基的取代基例示的吡啶基等。作为上述取代氧基(RQ60-)，可以使用R^为去除氢原子的一价的非金属原子团构成的基的取代基。作为优选的取代氧基，可以举出烷氧基、芳氧基、酰氧基、氨基甲酰氧基、N-烷基氨基甲酰氧基、N-芳基氨基甲酰氧基、N，N-二垸基氨基甲酰氧基、N，N-二芳基氨基甲酰氧基、N-烷基-N-芳基氨基甲酰氧基、烷基硫氧基、芳基硫氧基、膦酰基氧基、膦酸根基氧基等。作为它们中的垸基以及芳基，可以举出上述作为垸基、取代烷基以及芳基、取代芳基而例示的基。另外，作为酰氧基中的酰基(R^CO-)，可以举出R^为作为前面的例子举出的烷基、取代垸基、芳基以及取代芳基的基。在这些取代垸基中，更优选垸氧基、芳氧基、酰氧基、芳基硫氧基。作为优选的氧基的具体例，可以举出甲氧基、乙氧基、丙氧基、异丙氧基、丁氧基、戊氧基、己氧基、十二烷氧基、苄氧基、烯丙氧基、苯乙氧基、羧基乙氧基、甲氧羰基乙氧基、乙氧羰基乙氧基、甲氧基乙氧基、苯氧基乙氧基、甲氧基乙氧基乙氧基、乙氧基乙氧基乙氧基、吗啉代乙氧基、吗啉代丙氧基、烯丙氧基乙氧基乙氧基、苯氧基、甲苯氧基、二甲苯氧基、茶氧基、枯烯基氧基、甲氧基苯氧基、乙氧基苯氧基、氯苯氧基、溴苯氧基、乙酰氧基、苯甲酸基、萘氧基、苯磺酰氧基、膦酰基氧基、膦酸根基氧基等。作为也含有酰胺基的氨基(RQ8NH-、(RQ9)(RQH))N-)，例如可以举出RQ8、RQ9、R,为去除氢原子的一价的非金属原子团构成的基团的取代基。其中，RG9、R,也可以结合形成环。作为上述氨基的优选例，可以举出N-垸基氨基、N，N-二烷基氨基、N-芳基氨基、N，N-二芳基氨基、N-垸基-N-芳基氨基、酰胺基、N-烷基酰氨基、N-芳基酰氨基、酰脲基、N'-垸基酰脲基、N'，N'-二垸基酰脲基、N'-芳基酰脲基、N'，N'-二芳基酰脲基、N'-垸基-N'-芳基酰脲基、N-烷基酰脲基、N-芳基酰脲基、N'-烷基-N-垸基酰脲基、N'-烷基-N-芳基酰脲基、N'，N'-二烷基-N-烷基酰脲基、N'-烷基-N'-芳基酰脲基、N'，N'-二垸基-N-烷基酰脲基、N'，N'-二垸基-N'-芳基酰脲基、N'-芳基-N-垸基酰脲基、N'-芳基-N-芳基酰脲基、N'，N'-二芳基-N-烷基酰脲基、N，，N，-二芳基-N-芳基酰脲基、N'-烷基-N，-芳基-N-烷基酰脲基、N'-烷基-N'-芳基-N-芳基酰脲基、烷氧羰基氨基、芳氧羰基氨基、N-垸基-N-垸氧羰基氨基、N-烷基-N-烷氧羰基氨基、N-芳基-N-烷氧羰基氨基、N-芳基-N-芳氧羰基氨基等。作为它们中的烷基、芳基，可以举出上述的作为垸基、取代烷基、以及芳基、取代芳基而例示的基。另外，酰氨基、N-垸基酰氨基、N-芳基酰胺基中的酰基(RQ7CO-)的R^如上所述。其中，更优选N-烷基氨基、N，N-二烷基氨基、N-芳基氨基、酰氨基。作为氨基的优选具体例，可以举出甲氨基、乙氨基、二乙氨基、吗啉代基、哌啶基、吡咯代基、苯氨基、苯甲酰氨基、乙酰氨基等。作为取代磺酰基(RQ11-S02-)，例如可以举出RQ11为由一价的非金属原子团构成的基的取代基。作为优选的例子，可以举出垸基磺酰基、芳基磺酰基。作为它们中的垸基及芳基，可以举出上述作为烷基、取代垸基、芳基、以及取代芳基而例示的基团。作为上述取代磺酰基的具体例，可以举出丁基磺酰基、苯磺酰基、氯苯基磺酰基等。上述磺酸根基(-S(V)如上所述，是指磺基(-S03H)的共轭碱阴离子基，通常优选与对阳离子一起使用。作为这样的对阳离子，可以适当选择使用通常已知的对阳离子，g卩，各种鎿类(例如铵类、锍类、鱗类、碘鐵类、叠氮鑰(7夕二々厶)类等)、以及金属离子类(例如Na+、K+、Ca2+、Zn2+等)。作为取代羰基(RQ13-CO-)，可以使用R^为由一价的非金属原子团构成的基的取代基。作为取代羰基的优选例，例如可以举出甲酰基、酰基、羧基、垸氧羰基、芳氧羰基、氨基甲酰基、N-垸基氨基甲酰基、N，N-二烷基氨基甲酰基、N-芳基氨基甲酰基、N，N-二芳基氨基甲酰基、N-垸基-N'-芳基氨基甲酰基等。作为它们中的烷基、芳基，可以举出上述作为烷基、取代烷基、以及芳基、取代芳基而例示的基团。其中，作为优选的取代羰基，可以举出甲酰基、酰基、羧基、垸氧羰基、芳氧羰基、氨基甲酰基、N-烷基氨基甲酰基、N，N-二烷基氨基甲酰基、N-芳基氨基甲酰基，进而更优选甲酸基、酰基、垸氧羰基以及芳氧羰基。作为优选的取代羰基的具体例，可以举出甲酰基、乙酰基、苯甲酰基、羧基、甲氧羰基、乙氧羰基、烯丙氧基羰基、二甲氨基苯基乙烯基羰基、甲氧羰基甲氧羰基、N-甲基氨基甲酰基、N-苯基氨基甲酰基、N，N-二乙基氨基甲酰基、吗啉代羰基等。作为取代亚磺酰基(RQ14-SO-)，可以使用R,为由一价的非金属原子团构成的基团的取代基。作为优选的例子，可以举出烷基亚磺酰基、芳基亚磺酰基、氨亚磺酰基、N-垸基氨亚磺酰基、N，N-二垸基氨亚磺酰基、N-芳基氨亚磺酰基、N，N-二芳基氨亚磺酰基、N-烷基-N-芳基氨亚磺酰基等。作为它们中的烷基、芳基，可以举出上述作为烷基、取代烷基、以及芳基、取代芳基而例示的基团。其中，作为更优选的例子，可以举出烷基亚磺酰基、芳基亚磺酰基。作为这样的取代亚磺酰基的具体例，可以举出己基亚磺酰基、苄基亚磺酰基、甲苯基亚磺酰基等。上述膦酰基是指膦酰基上的羟基的一个或两个被其他有机氧基取代的基团，作为优选的例子，可以举出上述的二烷基膦酰基、二芳基膦酰基、烷基芳基膦酰基、一烷基膦酰基、一芳基膦酰基等。其中，更优选二垸基膦酰基以及二芳基膦酰基。作为上述这样的具体例，可以举出二乙基膦酰基、二丁基膦酰基、二苯基膦酰基等。上述膦酸根基(-P03H2\-P03HO如前上述，是指膦酰基(-P03H2)的来源于酸第一解离或酸第二解离的共轭碱阴离子基。通常优选与对阳离子一起使用。作为这样的对阳离子，可以适当选择通常已知的对阳离子，例如各种鐺类(铵类、锍类、鱗类、碘錄类、叠氮鑰类等)、以及金属离子类(Na+、K+、Ca2+、Zn2D。取代膦酸根基是指上述的取代膦酰基中将一个羟基取代成有机氧基的基的共轭碱阴离子基，作为具体例，可以举出上述的一垸基膦酰基(-P03H(alkyl))、一芳基膦酰基(-P03H"ryl))的共轭碱。作为上述中性的光聚合引发剂，更优选下述通式(III)以及通式(IV)中的任一种所示的化合物。通式(迈)其中，上述通式(III)以及通式(IV)中，Rhh表示与通式(I)以及通式(ii)中的yi相同的含义，y^表示与通式(i)以及通式(n)中的f相同的含义。作为上述R,(h，较优选氢原子以及脂肪族基中的任一种，特别优选碳原子数为110的脂肪族基。作为上述脂肪族基，例如，可以举出甲基、乙基、丙基、辛基、丙烯基等。46作为上述Y"特别优选-CO(脂肪族基)。作为上述Y12中的脂肪族基，优选碳原子数为110的脂肪族基。具体而言，例如，优选甲基、乙基、丙基、丁基、辛基、环己基、苄基等。作为上述中性的光聚合引发剂的其它的具体例，例如，可以举出日本特开2001-233842号公报、日本特表2004-534797号公报、以及日本特表2002-519732号公报等中公开的化合物、以及下述结构式所示的化合物等。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage47</formula>上述结构式中、R表示n-C3H7、n-C8H17、樟垸及p-CH3C6H4的任意一种'f、rT、上述结构式中，R表示n-C3H7及p-CH3C6H4中的任意一种,<formula>formulaseeoriginaldocumentpage49</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage50</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage51</formula>作为上述中性的光聚合引发剂，也适合使用下述通式(V)所示的中性的光聚合引发剂。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage52</formula>其中，上述通式(V)中，Y2、Ar表示与通式(I)以及(II)中相同的含义。m表示0以上的整数。YS表示取代基，当m为2以上时，该Y5可以相同也可以不同。A表示4、5、6以及7元环中的任一种，这些环也可分别含有杂原子。上述通式(V)所示的化合物中性的光聚合引发剂中，较优选下述通式(VI)所示的化合物，特别优选下述通式(VII)以及(VIII)中的任一种所示的化合物。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage52</formula>通式(vi)其中，上述通式(VI)中，Y2、Y5、m以及Ar表示与通式(V)中相同的含义。X表示O以及S中的任一种。A表示5以及6元环中的任一种。通式(VII)其中，上述通式(vn)以及通式(vin)中，￥6表示也可取代基的烷基。L表示06中的任一种整数。￥7表示烷基、垸氧基、芳氧基、卤原子、磺酰基以及酰氧基中的任一种，当1为2以上时，该^可以相同也可以不同。X以及A表示与通式(VI)相同的意义。上述通式(v)以及(vi)中，作为ys所示的化合物取代基，没有特别的限制，例如可以举出烷基、垸氧基、芳氧基、卤原子、磺酰基、酰氧基、硝基、酰基氨基等。其中，优选垸基、垸氧基、芳氧基、卤原子、磺酰基以及酰氧基中的任一种。在此，上述通式(V)所示的化合物中性的光聚合引发剂的具体例，可以举出下述结构式(1)(54)所示的化合物，但在本发明并不限定于此。通式(孤)结构式(23)结构式(24)结构式(25)结构式(26)结构式(27)结构式(28)结构式("O结构式(9〉结构式(10)结构式(11)结构式(12)结构式(22)结构式(7)结构式(20)结构式(21)结构式(2)结构式(8)结构式(19)<formula>formulaseeoriginaldocumentpage55</formula>结构式(29)结构式(30〉Ph结构式(31)结构式(32〉结构式(33)结构式(34〉结构式(35)结构式(39)结构式(40)<formula>formulaseeoriginaldocumentpage55</formula>结构式(41)结构式(45)结构式(46)结构式(47)结构式(42)乂力结构式(48)WteO"结构式(43)结构式(44)结构式(W)结构式(50)结构式(51)结构式(k)结构式3)结构式其中，上述结构式(1)(54)中，Me表示甲基。Ph表示苯基。Ac表示乙酰基。上述中性的光聚合引发剂的含量例如，以固态成分换算优选为0.1质量％15质量％，较优选为0.5质量％10质量％，特别优选为1.0质量%8.0质量％。若少于0.1质量％则感光度会下降，有时变得难以得到充分硬度的固化膜，多于15质量％则不仅膜化时有时胶粘性变差并且由于Tg变差因而固化膜变脆。'-其它的光聚合引发剂-上述其它的光聚合引发剂，只要具有引发上述聚合性化合物的聚合的能力即可，没有特别的限制，可从公知的光聚合引发剂中适宜选择，例如，优选对紫外线区域可见光的光线具有感光性的物质，还可以是与光激发的感光剂发生某种作用产生活性自由基的活性剂，还可以是对应单体的种类引发阳离子聚合的引发剂。另外，上述光聚合引发剂优选含有至少1种在波长约300~800nm的范围内至少具有约50分子吸光系数的成分。上述波长更优选为330500nrn。上述其它的光聚合引发剂例如可以举出具有卤化烃衍生物(例如具有三嗪骨架者、具有噁二唑骨架者等)、六芳基二咪唑、肟衍生物、有机过氧化物、硫化合物、酮化合物、吖啶化合物、金属茂类等。具体可以举出在日本特开2005-258431号公报中记载的化合物等。这些中，从感光层的感光度、保存性以及感光层与基板的密合性等观点出发，优选酮化合物吖疲化合物。上述其它的光聚合物引发剂可以单独使用1种或并用2种以上使用。上述光聚合引发剂的上述感光性组合物中的固态成分含量优选为0.1质量％30质量。％，较优选为0.5质量％20质量％，特别优选为0.5质量％15质量％。<其它成分〉作为上述其它成分，例如，可以举出填料、密合促进剂、增敏剂、热聚合抑制剂、增塑剂、着色剂(着色颜料或染料)等，还可以与其它的助剂类(例如，导电性粒子、填充剂、消泡剂、阻燃剂、流平剂、剥离促进剂、抗氧化剂、香料、表面张力调整剂、链转移剂等)。通过适当含有这些成分，可以调整目标感光性组合物的稳定性、照片性、膜物性等性质。-填料(无机填充剂)-上述填料(无机填充剂)是具有提高永久图案的表面硬度、较低地抑制线膨胀系数或者较低地抑制固化膜本身的介电常数或介质损耗角正切作用的物质，因此可优选地适用于本发明的感光性组合物。上述填料(无机填充剂)没有特别的限定，可从公知.的填料中进行适宜选择，例如，可以举出高岭土、硫酸钡、钛酸钡、氧化硅粉、微粉状氧化硅、气相法二氧化硅、无定形二氧化硅、结晶性二氧化硅、熔融二氧化硅、球状二氧化硅、滑石、粘土、碳酸镁、碳酸钙、氧化铝、氢氧化铝、云母等。上述填料(无机填充剂)的平均粒径优选不足3,，较优选为0.1pm2pm。该平均粒径在3pm以上时，有时由于光散射会发生析像度降低。上述填料(无机填充剂)的添加量优选为5质量％75质量％，更优选为8质量％70质量％，特别优选为10质量％65质量％。该添加量如果不足5质量。％，则有时不能使线膨胀系数充分地降低，如果超过90质量％，则在感光层表面形成固化膜时，该固化膜的膜质变脆，在使用永久图案形成布线时，会有损作为布线的保护膜的功能。根据需要还可以添加有机微粒。作为优选的有机微粒，没有特别的限定，可以根据目的适当选择，例如，可以举出蜜胺树脂、苯胍胺树脂、交联聚苯乙烯树脂等。另外，还可以使用平均粒径为0.1^im2^im、吸油量为100n^/g200r^/g左右的由二氧化硅、交联树脂构成的球状多孔质微粒等。由于上述填料(无机填充剂)中含有平均粒径为0.1pm2(im的粒子，因此，可以将永久图案的形成与印制电路布线基板的薄型化同时进行，即使薄层化为厚度5pm2(nim，填料(无机填充剂)粒子也不会破坏永久图案的表里双面，结果是，即使在高加速试验(HAST)中也不会产生树枝状晶体，可得到耐热性、耐湿性优良的永久图案。-密合促进剂-为了提高各层间的密合性、或感光层与基体的密合性，可以在各层中使用公知的所谓密合促进剂。上述密合促进剂例如可以优选地举出日本特开平5-11439号公报、日本特开平5-341532号公报以及日本特开平6-43638号公报等所记载的密合促进剂。具体地可以举出苯并咪唑、苯并噁唑、苯并噻唑、2-巯基苯并咪唑、2-巯基苯并噁唑、2-巯基苯并噻唑、3-吗啉代甲基-l-苯基-三唑-2-硫、3-吗啉代甲基-5-苯基-噁二唑-2-硫、5-氨基-3-吗啉代甲基-噻二唑-2-硫以及2-巯基-5-甲基硫代-噻二唑、三唑、四唑、苯并三唑、羧基苯并三唑、含氨基的苯并三唑、硅烷偶联剂等。上述密合促进剂的含量相对于上述感光层的总成分优选为0.001质量%20质量％，较优选为0.01质量％10质量％，特别优选为0.1质量%5质量％。-增敏剂-上述感光性组合物也可含有增敏剂。在将上述感光层曝光并显影时，从提高使该感光层的曝光部分的厚度在该曝光以及显影后不发生变化的上述光的最小能量(感光度)的观点出发，特别优选并用上述增敏剂。上述增敏剂可以根据上述光照射机构(例如，可见光线或紫外光以及57可见光激光等)适宜选择。上述增敏剂在活性能量线的作用下成为激发状态，可以通过与其他物质(例如自由基产生剂、酸产生剂等)相互作用(例如能量移动、电子移动等)而产生自由基或酸等有用基团。上述增敏剂至少含有从縮环系化合物、氨基苯基甲酮系化合物、多环芳香族类、具有酸性环的化合物、具有碱性环的化合物、具有荧光增白剂环的化合物中选择的至少一种，根据需要也可以含有其它增敏剂。从提高感光度的点出发，增敏剂进一步优选为杂缩环系化合物、氨基二苯甲酮系化合物，特别优选为杂縮环系化合物。一一縮环系化合物一一在上述例示化合物中，芳香族环或杂环发生縮环的化合物(縮环系化合物)优选杂縮环系化合物。上述杂縮环系化合物是指在环中具有杂元素的多环式化合物，在上述环中，优选含有氮原子。上述杂縮环系化合物例如可以举出杂縮环系酮化合物。在上述杂縮环系化合物中，进一步优选吖啶酮化合物及噻吨酮化合物，其中特别优选噻吨酮化合物。作为上述杂縮环系酮化合物，具体而言，例如可以举出吖啶酮、氯吖啶酮、N-甲基吖啶酮、N-丁基吖啶酮、N-丁基-氯吖啶酮等吖啶酮化合物；噻吨酮、异丙基噻吨酮、2，4-二乙基噻吨酮、l-氯-4-丙氧基噻吨酮、QuantacureQTX(商品名)等噻吨酮化合物；3-(2-苯并呋喃甲酰基)-7-二乙基氨基香豆素、3-(2-苯并呋喃甲酰基)-7-(l-吡咯烷基)香豆素、3_苯甲酰_7_二乙基氨基香豆素、3-(2-甲氧基苯甲酰)-7-二乙基氨基香豆素、3_(4-二甲基氨基苯甲酰)-7-二乙基氨基香豆素、3，3，-羰基双(5，7-二-正丙氧基香豆素)、3，3，-羰基双(7-二乙基氨基香豆素)、3-苯甲酰-7-甲氧基香豆素、3-(2-呋喃甲酰)-7-二乙基氨基香豆素、3-(4-二乙基氨基肉桂酰基)-7-二乙基氨基香豆素、7-甲氧基-3-(3-吡啶基羰基)香豆素、3-苯甲酰-5，7-二丙氧基香豆素、7-苯并三唑-2-酰基香豆素、7-二乙基氨基-4-甲基香豆素、此外还有日本特开平5-19475号、日本特开平7-271028号、日本特开2002-363206号、日本特开2002-363207号、日本特开2002-363208号、日本特开2002-363209号公报等中记载的香豆素化合物等香豆素类等。另外，还可以举出公知的多环芳香族类(例如芘、茈、9，10-苯并菲)、氧杂蒽类(例如荧光素、四溴萤光素、四碘荧光素、若丹明B、孟加拉玫瑰红)、花青苷类(例如吲哚羰花青、硫代羰花青、氧杂羰花青)、部花青类(例如部花青、羰部花青)、噻嗪类(例如硫堇、亚甲蓝、甲苯胺蓝)、蒽醌类(例如蒽醌)、斯夸琳(7夕7y夕厶)类(例如斯夸琳)等。上述增敏剂的含量，相对上述感光性组合物的全部固体成分，优选为0.01质量％4质量％，更优选为0.02质量％2质量％，特别优选为0.05质量。％1质量％。该含量若不到0.01质量Q^，则有时感光度降低，如果超过4质量％，则图案的形状有时会恶化。上述感光性组合物中的上述增敏剂与光聚合引发剂的含量的质量比优选为[(增敏剂)/(肟衍生物)]=1/0.11扁，更优选为1/卜1/50。上述增敏剂的含量与上述光聚合引发剂的含量的质量比如果在上述范围之外，则感光度可能会降低，而且感光度的经时变化可能会恶化。-热聚合抑制剂-上述热聚合抑制剂可以为了防止上述感光层中的上述聚合性化合物的热聚合或经时聚合而添加。.上述热聚合抑制剂例如可以举出4-甲氧基苯酚、氢醌、烷基或芳基取代氢醌、叔丁基邻苯二酚、联苯三酚、2-羟基二苯甲酮、4-甲氧基-2-羟基二苯甲酮、氯化亚铜、吩噻嗪、氯醌、萘胺、P-萘酚、2,6-二叔丁基-4-甲酚、2，2'-亚甲基双(4-甲基-6-叔丁基苯酚)、吡啶、硝基苯、二硝基苯、苦味酸、4-甲苯胺、亚甲蓝、与酮的有机螯合剂反应物、水杨酸甲酯、吩噻嗪、亚硝基化合物、亚甲基化合物与A1的螯合剂等。上述热聚合抑制剂的含量相对于上述聚合性化合物优选为0.001质量%~5质量％、更优选为0.005质量％~2质量％、特别优选为0.01质量。％~1质量％。上述含量小于0.001质量％时，保存时的稳定性会降低，超过5质量％时，相对于活性射线的感光度会降低。-增塑剂-上述增塑剂可以为了控制上述感光层的膜物性(可挠性)而添加。作为上述增塑剂，例如可以举出邻苯二酸二甲酯、邻苯二甲酸二丁酯、邻苯二甲酸二异丁酯、邻苯二甲酸二庚酯、邻苯二甲酸二辛酯、邻苯二甲酸二环己酯、邻苯二甲酸二(十三垸基)酯、邻苯二甲酸丁基苄基酯、邻苯二甲酸二异癸酯、邻苯二甲酸二苯基酯、邻苯二甲酸二烯丙基酯、邻苯二甲酸辛基癸酰基酯等邻苯二甲酸酯类；三甘醇二乙酸酯、四甘醇二乙酸酯、邻苯二甲酸二甲基葡萄糖酯、乙基邻苯二甲酰基乙基乙醇酸酯、甲基邻苯二甲酰基乙基乙醇酸酯、丁基邻苯二甲酰基丁基乙醇酸酯、三甘醇二辛酸酯等二醇酯类；磷酸三甲苯酚酯、磷酸三苯酯等磷酸酯类；4-甲苯磺酰胺、苯磺酰胺、N-正丁基苯磺酰胺、N-正丁基乙酰胺等酰胺类；己二酸二异丁酯、己二酸二辛酯、癸二酸二甲酯、癸二酸二丁酯、癸二酸二辛酯、壬二酸二辛酯、顺丁烯二酸二丁酯等脂肪酸二元酸酯类；柠檬酸三乙酯、柠檬酸三丁酯、甘油三乙酸酯、月桂酸丁酯、4，5-二乙氧基环己烷-l，2-二羧酸二辛酯等聚乙二醇、聚丙二醇等乙二醇类。上述增塑剂的含量相对于上述感光层的总成分优选为0.1质量％~50质量％、更优选为0.5质量。％~40质量％、特别优选为1质量％~30质量％。-着色颜料-作为上述着色颜料，没有特别限制，可以根据目的适当选择，例如可以举出维多利亚纯蓝BO(C丄42595)、(碱性)槐黄(C.I.4画)、脂溶(fat)黑HB(C丄26150)、莫诺赖特'黄GT(C丄颜料黄12)、永久黄GR(C.I.颜料黄17)、永久黄HR(C.I.颜料黄83)、永久胭脂红FBB(C.I.颜料红146)、广告画颜料红ESB(C.I.颜料紫19)、永久红宝石FBH(C.I.颜料红11)、法斯特尔粉红B苏普拉(C.I.颜料红81)、莫钠斯特拉尔坚牢蓝(C.I.颜料蓝15)、莫诺赖特坚牢黑B(C.I.颜料黒1)、碳、C丄颜料红97、C丄颜料红122、C.I.颜料红149、CI.颜料红168、C.I.颜料红177、C.I.颜料红180、C.I.颜料红192、C.I.颜料红215、C.I.颜料绿7、C丄颜料绿36、C丄颜料蓝15:1、C.I.颜料蓝15:4、C.I.颜料蓝15:6、C.I.颜料蓝22、C.I.颜料蓝60、C.I.颜料蓝64等。它们可以单独使用一种或并用两种以上。另外，根据需要，也可以使用从公知的染料中适当选择的染料。上述着色颜料在上述感光性组合物固态成分中的固态成分含量可以考虑永久图案形成时的感光层的曝光感光度、析像度等决定，随上述着色颜料的种类而不同，一般优选为0.01质量％~10质量％、更优选为0.05质量5~5质量％。(感光性膜)本发明的感光性膜是在支撑体上层叠由感光性组合物形成的感光层而形成的。优选在上述感光层上层叠保护层，进一步根据需要层叠缓冲层、阻氧层(PC层)等其它的层。上述感光性膜的形态没有特别的限定，可以根据目的适当地选择，例如，在上述支撑体上依次具有上述感光层、上述保护层的形态；在上述支撑体上依次具有上述PC层、上述感光层、上述保护层的形态；在上述支撑体上依次具有上述缓冲层、上述PC层、上述感光层、上述保护层的形态等。予以说明，上述感光层可以为单层，也可以为多层。<感光层〉作为上述感光层在上述感光性膜上被设置的地方，没有特别限制，可以根据目的适宜选择，但是通常被层叠在上述支撑体上。上述感光层优选利用如下所述的光进行曝光，即利用具有n个接受并射出来自光照射机构的光的描绘部的光调制机构，对来自上述光照射机构的光进行调制之后，从排列有具有可以校正上述描绘部的射出面的变形引起的像差的非球面的微透镜的微透镜阵列通过的光。在曝光并显影上述感光层时，作为该感光层的曝光部分的厚度在该曝光及显影后不发生变化的、在上述曝光中使用的光的最小能量优选为，100mJ/cm2以下，较优选为70mJ/cm2以下。在上述曝光使用的光的最小能量若超过100mJ/cm2，则间歇时间边长，故不优选。这里"使该感光层的曝光部分的厚度在该曝光及显影后不发生变化的、在上述曝光中使用的光的最小能量"是指所谓的显影感光度，例如可以由表示对上述感光层进行曝光时的上述曝光所用光的能量(曝光量)与通过上述曝光之后的上述显影处理而产生的上述固化层厚度的关系的曲线(感光度曲线)求得。上述固化层的厚度随着上述曝光量的增加而增加，之后，达到与上述曝光前的上述感光层的厚度基本一致且基本一定。上述显影感光度为通过读取上述固化层厚度基本达到一定时的最小曝光量而求得的值。61这里，当上述固化层的厚度与上述曝光前的上述感光层的厚度为士l^m以内时，视为上述固化层的厚度不会随曝光和显影而变化。作为上述固化层和上述曝光前的上述感光层的厚度的测定方法并无特别限定，可以根据目的适当地选择，可以举出使用膜厚测定装置、表面粗糙度测定机(例如SURFCOM(寸一7〕厶)1400D(东京精密(株)制))等进行测定的方法。上述感光层的厚度并无特别限定，可以根据目的适当选择，例如优选为3nm100pm，较优选为5(im70pm。上述感光层的形成方法可以举出将本发明的上述感光性组合物溶解、乳化或分散于水或溶剂中，配制感光性组合物溶液，通过将该溶液直接涂布于上述支撑体上并使之干燥而层叠的方法。上述感光性组合物溶液的溶剂没有特别的限定，可根据目的适当选择，例如可以举出甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇、正丁醇、仲丁醇、正己醇等醇类；丙酮、甲基乙基甲酮、甲基异丁基甲酮、环己酮、二异丁基甲酮等酮类；乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙酸正戊酯、硫酸甲酯、丙酸乙酯、酞酸二甲酯、苯甲酸乙酯及甲氧基丙基乙酸酯等酯类；甲苯、二甲苯、苯、乙苯等芳香族烃类；四氯化碳、三氯乙烯、氯仿、1，1，l-三氯乙烷、二氯甲烷、一氯苯等卤代烃类；四氢呋喃、二乙醚、乙二醇一甲醚、乙二醇一乙醚、l-甲氧基-2-丙醇等醚类；二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、二甲亚砜、环丁砜等。它们可以单独使用l种或并用2种以上。另夕卜，也可以添加公知的表面活性剂。上述涂布的方法没有特别的限定，可以根据目的适当选择，例如可以举出使用旋涂法、缝隙涂布法、辊涂法、模涂法、帘涂法等在上述支撑体上直接涂布的方法。上述干燥的条件根据各成分、溶剂的种类、使用比例等不同，但通常在60。C11(TC的温度下干燥30秒15分左右。本发明中，上述感光层由含有粘合剂和聚合性化合物且根据需要还含有其它的成分的感光性组合物形成。<支撑体>作为上述支撑体，没有特别限制，可以根据目的适当选择，优选可以剥离上述感光层而且光的透过性良好的支撑体，进而更优选表面的平滑性良好。上述支撑体优选合成树脂制而且透明的支撑体，例如可以举出聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚丙烯、聚乙烯、三乙酸纤维素、二乙酸纤维素、聚(甲基)丙烯酸垸基酯、聚(甲基)丙烯酸酯共聚物、聚氯乙烯、聚乙烯醇、聚碳酸酯、聚苯乙烯、赛璐玢、聚偏二氯乙烯共聚物、聚酰胺、聚酰亚胺、氯乙烯'醋酸乙烯共聚物、聚四氟乙烯、聚三氯乙烯、纤维素系膜、尼龙膜等各种塑料膜，其中，特别优选聚对苯二甲酸乙二醇酯。它们可以单独使用1种或并用2种以上。作为上述支撑体的厚度，没有特别限制，可以根据目的适当选择，例如优选2150pm，更优选5100nm，特别优选850|im。上述支撑体可以为单层，也可以具有多层。作为上述支撑体的形状，没有特别限制，可以根据目的适当选择，但优选长条状。作为上述长条状的支撑体的长度，没有特别限制，例如可以举出10m20000m的长度。<保护层〉上述感光性膜也可以在上述感光层上形成保护层。作为上述保护层，例如可以举出在上述支撑体中使用的保护层，纸，层叠有聚乙烯、聚丙烯的纸等，其中，优选聚乙烯膜、聚丙烯膜。作为上述保护层的厚度，没有特别限制，可以根据目的适当选择，例如优选5pm100(im，更优选8^im50pm，特别优选10^im30(im。作为上述支撑体与保护层的组合(支撑体/保护层)，例如可以举出聚对苯二甲酸乙二醇酯/聚丙烯、聚对苯二甲酸乙二醇酯/聚乙烯、聚氯乙烯/赛璐玢、聚酰亚胺/聚丙烯、聚对苯二甲酸乙二醇酯/聚对苯二甲酸乙二醇酯等。另外，通过表面处理支撑体及保护层中的至少一个，能够调节层间粘接力。上述支撑体的表面处理也可以用于提高与上述感光层的粘接力而实施，例如可以举出底涂层的涂设、电晕放电处理、火焰处理、紫外线照射处理、高频照射处理、亮光放电照射处理、活性等离子照射处理、激光光线照射处理等。另外，作为上述支撑体与上述保护层之间的静摩擦系数，优选为0.31.4，更优选为0.51.2。如果上述静摩擦系数不到0.3，则由于过滑，在成为辊状的情况下，可能会发生巻偏离，如果超过1.4，可能会难以巻成良好的辊状。上述感光性膜例如优选巻绕在圆筒状的巻芯上，以长条状巻成辊状保管。作为上述长条状的感光性膜的长度，没有特别限制，例如可以从10m20000m的范围内适当选择。另外，为了便于用户使用，也可以进行切断加工，使100m1000m范围内的长条状成为辊状。此外，这种情况下，优选上述支撑体被巻绕成为最外侧。另外，也可以将上述辊状的感光性膜切成薄片状。保管时，从保护端面、防止边缘熔合的观点出发，优选在端面设置隔离件(separator)(特别是防湿性的隔离件、放干燥剂的隔离件)，另外还优选包装也使用透湿性低的材料。上述保护层也可以为了调节上述保护层与上述感光层之间的粘接性而进行表面处理。上述表面处理例如在上述保护层的表面形成由聚有机硅氧烷、氟化聚烯烃、聚氟乙烯、聚乙烯醇等聚合物构成的底涂层。该底涂层的形成可以通过在上述保护层的表面涂布上述聚合物的涂布液之后，使其在3(TC150'C下干燥1分钟30分钟形成。上述使其干燥时的温度特别优选为50°C120°C。<其它层>作为上述感光性膜中的其他层，没有特别限制，可以根据目的适当选择，例如可以举出缓冲层、阻氧层(PC层)、剥离层、粘接层、光吸收层、表面保护层等层。可以单独具有这些层中的l层，也可以具有2层以上。另外，也可以在上述感光层上具有保护膜。<感光性膜的制造方法>上述感光性膜例如可通过下述方法进行制造。首先，将上述感光性组合物中含有的材料溶解、乳化或分散于水或溶剂中，配制感光性膜用的感光性组合物溶液。作为上述溶剂，没有特别限制，可以举出与上述感光性组合物溶液的溶剂相同的溶剂。接着，可以在上述支撑体上涂布上述感光性组合物溶液并使其干燥而形成感光层，制造感光性膜。作为上述感光性组合物溶液的涂布方法，可以举出与上述的方法。上述感光性膜由于使用了上述感光性组合物，所以镀敷耐性、保存性、感光度、显影性以及密合性良好，可优选地用于保护膜、层间绝缘膜以及阻焊剂图案等永久图案等各种图案的形成，滤色片、柱材、肋材、间隔件、隔壁等液晶构造构件的制造，全息照相(hologmm)、微型电机、校样(proof)等图案的形成等中，特别是能够优选地用于印制电路板的永久图案的形成中。特别的是，由于上述感光性膜的厚度均一，因此在形成永久图案时，即使将永久图案(保护膜、层间绝缘膜、阻焊剂等)薄层化，在高加速试验(HAST)中，也不会产生枝状晶体，可得到耐热性、耐湿性优良的高精细的永久图案，因此可以更精细地层叠于基材。(感光性层叠体)上述感光性层叠体是在基体上至少具有上述感光层、层叠根据目的适当选择的其他层而成的。—基体一上述基体应该成为形成有感光层的被处理基体或转印有本发明的感光性膜的至少感光层的被转印体，没有特别限制，可以根据目的适当选择，例如可以从表面平滑性高的基体到具有有凸凹的表面的基体中任意选择。优选板状的基体，可以使用所谓的基板。具体而言，可以举出公知的印刷线路板制造用基板(印刷基板)、玻璃板(例如钠钙玻璃板等)、合成树脂性膜、纸、金属板等。'<感光性层叠体的制造方法>作为上述感光性层叠体的制造方法，作为第一方式，可以举出在上述基体的表面涂布并干燥上述感光性组合物的方法，作为第二方式，可以举出对上述感光性膜中的至少感光层进行加热及加压的至少一种，并同时转印进而层叠的方法。上述第一方式的感光性层叠体的制造方法是在上述基体上涂布及干燥上述感光性组合物，从而形成感光层。作为上述涂布及干燥的方法，没有特别限制，可以根据目的适当选择，例如可以举出使上述感光性组合物溶解、乳化或分散于水或溶剂，配制感光性组合物溶液，将该溶液直接涂布于上述基体的表面并使之干燥，由此进行层叠的方法。作为上述涂布方法以及干燥条件没有特别的限定，可以根据目的适当选择，在相同于上述感光性膜所用的方法和条件下进行。上述第2方式的感光性层叠体的制造方法为在上述基体的表面边进行加热及加压的至少一方边层叠本发明的感光性膜。予以说明，上述感光性膜具有上述保护层时，优选剥离该保护层，按照上述感光层重叠于上述基体的方式进行层叠。上述加热温度没有特别的限制，可根据目的适当选择，例如，优选为15°C180°C,较优选为60°C140°C。上述加压的压力，没有特别的限制，可根据目的适当选择，例如，优选为0.1MPa1.0MPa，较优选为0.2MPa0.8MPa。作为进行上述加热的至少任意一种的装置，没有特别限制，可以根据目的适当选择，例如可以优选举出层叠机(例如大成层压机公司制，VP-II，日合摩顿株式会社(-于^一千一卜y株式会社)制VP130)等。上述感光性膜和感光性层叠体由于使用上述感光性组合物，能够高效地形成镀敷耐性、保存性、感光度、显影性以及密合性良好且高精细的永久图案，因此，能够优选地用于保护膜、层间绝缘膜和阻焊剂图案等永久图案等各种图案的形成，滤色片、柱材、肋材、间隔件、隔壁等液晶构造构件的制造，全息照相、微型电机、校样等图案的形成等中，特别是能够优选地用于印制电路板的永久图案的形成中。特别的是，由于上述感光性膜的厚度均一，因此在形成永久图案时，即使将永久图案(保护膜、层间绝缘膜、阻焊剂等)薄层化，在高加速试验(HAST)中，也不会产生枝状晶体，可得到耐热性、耐湿性优良的高精细的永久图案，因此可以更精细地层叠于基材。(永久图案的形成方法)在上述永久图案的形成方法中，至少包括曝光工序，还包括适当选择的显影工序等其它工序。予以说明，图案形成装置通过上述图案形成方法的说明可明确，但具有上述感光性层叠体，至少具有光照射机构和光调制机构。<曝光工序>上述曝光工序为对上述感光层进行曝光的工序。关于上述感光层以及基体的材料如下所述。作为上述曝光的对象，只要是上述感光层即可，没有特别限制，可以根据目的适当选择，例如，如上所述，优选对在基体上边进行加热及加压的至少一方边层叠感光性组合物而形成的感光性层叠体中的感光层进行。作为上述曝光，没有特别限制，可以根据目的适当选择，可以举出数字曝光、模拟曝光等，其中，优选数字曝光。上述模拟曝光并无特别限定，可以根据目的适当选择，例如举出举出隔着具有规定的图案的光掩模，用(超)高压汞灯、氙气灯、卤素灯等进行曝光的方法。作为上述数字曝光，只要是不用上述光掩模进行的曝光即可，没有特别限制，可以根据目的适当选择，例如优选使至少具备光照射机构及光调制机构的曝光头和上述感光层的至少任意一个移动，同时，利用上述光调制机构对应图案信息调制从上述光照射机构射出的光并同时从上述曝光头对上述感光层进行照射从而进行曝光。作为上述数字曝光中使用的光源，只要是发出从紫外到近红外线的光源即可，没有特别限制，可以根据目的适当选择，例如可以使用(超)高压汞灯、氙气灯、炭棒弧光灯、卤素灯及复印机用等的荧光管或激光等公知光源，其中优选(超)高压汞灯、激光，更优选激光。(超)高压汞灯是向石英玻璃管等中密封汞的放电灯，将汞的蒸气压设定在高值来提高发光效率的装置。亮线光谱中，可以使用用ND过滤器等而只有1种波长的亮线光谱，也可以使用具有多种亮线光谱的光线。上述激光的"laser"是LightAmplificationbyStimulatedEmissionofRadiation(利用光的受激射出的光的放大)的首字母简称。作为发出上述激光的装置，是利用在具有旋转分布的物质中发生的诱导射出的现象，利用光波的放大、振荡，创造相干性、方向性更强的单色光的振荡器及放大器°作为上述激光的激发介质，有结晶、玻璃、液体、色素、气体等，可以从这些介质中使用固体激光、液体激光、气体激光、半导体激光等公知67的激光。具体而言，作为气体激光，可以举出Ar离子激光(364nm、351nm)、Kr离子激光(356nm、351nm)、He-Cd激光(325nm)，作为固体激光，可以举出YAG激光、YVCV激光(1，064nm)、YAG激光或YV04激光的2倍波(532nm)、3倍波(355nm)、4倍波(266nm)、波导型波长转换元件与AlGaAs、InGaAs半导体的组合(380nm400nm)、波导型波长转换元件与AlGalnP或AlGaAs半导体t的组合(300nm350nm)、AlGalnN(350nm470nm)等。作为其中优选的激光，从成本方面出发，可以举出AlGalnN半导体激光(市售InGaN系半导体激光375nm或405nm)，从生产率方面出发，为高输出的355nm激光。上述激光的波长例如优选为200nm1500nm，更优选为300nm800nm，进而优选为330nm500nm，特别优选为350nm420nm。-光调制机构-作为上述光调制机构，具有代表性的方法可以举出优选具有n个描绘部，对应上述图案信息控制上述描绘部的方法。具体而言，可以举出数字-微镜'器件(DMD)、MEMS(微电子机械系统(MicroElectroMechanicalSystems))型的空间光调制元件(SLM;空间光调节器(SpecialLightModulator))、利用电光学效果调制透过光的光学元件(PLZT元件)、液晶光开闭器(FLC)等，其中，可以优选举出DMD。使用上述DMD的情况下，来自光源的光被适当的光学系照射在上述DMD上，来自在DMD上二维排列的各镜的反射光，经过其他光学系等，在感光层上形成排列成二维的光点的像。可以以如下所述的形式，对感光层的全面进行曝光，即如果不直接在光点与光点之间曝光，而使上述二维排列的光点的像，相对二维的排列方向略微倾斜的方向摇动，后方列的光点在最初列的光点与光点之间进行曝光。上述DMD通过控制各镜角度，开-关控制上述光点，可以形成图像图案。通过排列使用具有这样的上述DMD的曝光头，可以对应各种宽度的基板。在上述DMD中，上述光点的亮度只有开或关这2个等级，但如果使用镜等级型空间调制元件，则可以进行256个等级的曝光。另外，上述光调制机构优选具有基于要形成的图案信息生成控制信号的图案信号生成机构。这种情况下，上述光调制机构对应上述图案信号生成机构所生成的控制信号来调制光。作为上述控制信号，没有特别限制，可以根据目的适当选择，例如可以优选举出数字信号。另一方面，上述光调制机构的其他代表性方法，可以举出使用多角镜(polygonmirror)的方法。在此，多角镜是指在周围具有一列的平面反射面的旋转构件。上述多角镜在感光层上反射照射来自光源的光，而反射光的光点被该平面镜的旋转扫描。通过使基板相对该扫描方向成直角地移动，可以对基板上的感光层的全面进行曝光。接着，可以通过开-关来自光源的光的强度或将其控制为中间色调，形成图像图案。此时，可以通过使来自光源的光成为多束，縮短扫描时间。作为上述光调制机构，除了上述以外，还可以举出日本特开平5-150175号公报中记载的使用多角镜描绘的例子；日本特表2004-523101号公报(国际公开第2002/039793号手册)中记载的视觉地获取下部层的图像的一部分，利用使用多角镜的装置，使上部层的位置与下部层的位置一致、曝光的例子；日本特开2004-56080号公报中记载的具有DMD曝光的例子；日本特表2002-523905号公报中记载的具备多角镜的曝光装置、日本特开2001-255661号公报中记载的具备多角镜的曝光装置、日本特开2003-50469号公报中记载的组合DMD、LD、多重曝光的例子；日本特开.2003-156853号公报中记载的利用基板的部位改变曝光量的曝光方法的例子；日本特开2005-43576号公报中记载的错位调整的曝光方法的例子等。-光照射机构-作为上述光照射机构即光的照射方法，没有特别限制，可以根据目的适当选择上述曝光光源，优选举出复合进而照射2种以上的来自这些光源的光，特别优选举出照射复合2种以上的光的激光(合波激光)。作为上述合波激光的照射方法，没有特别限制，可以根据目的适当选择，例如可以优选举出利用具有多种激光光源、多模光纤和从该多种激光光源照射的激光进行聚光并使其在上述多模光纤复合的聚光光学系的机构，构成并照射合波激光的方法。对上述激光的光束直径，没有特别限制，可以根据目的适当选择，从深色隔离壁的析像度的观点出发，在高斯(Gaussian)光束的lV值下优选为5|am30(im，更优选为7fxm20jxm。优选对应图像数据对激光进行空间光调制。因而，为此优选使用作为空间光调制元件的上述DMD。作为具有上述光调制机构及上述光照射机构的曝光装置，例如可以使用日本特开2005-222039号公报、日本特开2005-258431号公报、日本特开2006-30966号公报等中记载的装置，但本发明中的曝光装置不被其所限定。70上述图案的形成方法在为形成保护膜、层间绝缘膜、阻焊剂图案等永久图案或滤色片的永久图案形成方法的情况下，优选具备在进行上述显影工序之后，对感光层进行固化处理的固化处理工序。作为上述固化处理，没有特别限制，可以根据目的适当选择，例如可以优选举出全面曝光处理、全面加热处理等。作为上述全面曝光处理的方法，例如可以举出在上述显影之后，对形成有上述永久图案的上述层叠体上的全面进行曝光的方法。利用该全面曝光，可以促进将要形成上述感光层的感光性组合物中的树脂的固化，可以使上述永久图案的表面固化。作为进行上述全面曝光的装置，没有特别限制，可以根据目的适当选择，例如可以举出超高压汞灯等UV曝光机、氙气灯使用的曝光机、激光曝光机等。曝光量通常为10mJ/cm22000mJ/cm2。作为上述全面加热处理的方法，可以举出在上述显影之后，对已形成的上述永久图案的上述层叠体上的全面进行加热的方法。利用该全面加热，可以提高上述永久图案的表面的膜强度。作为上述全面加热中的加热温度，优选为120°C250°C，更优选为120°C200°C。如果该加热温度不到120°C，则有时不能得到利用加热处理的膜强度的提高，如果超过25(TC，则有时发生上述感光性组合物中的树脂的分解，膜质轻微变脆。作为上述全面加热的加热时间，优选为10分钟120分钟，更优选为15分钟60分钟。作为进行上述全面加热的装置，没有特别限制，可以从公知的装置中根据目的适当选择，例如可以举出干烤箱(dryoven)、热板、IR加热器等。上述图案的形成方法可以用于在利用405nm的激光曝光的直接描绘中必需防止氧引起的感光层的感光度降低的各种图案的形成等中，可以优选用于兼顾高密度化和高生产率的图案的形成。在上述永久图案形成方法中，利用上述永久图案的形成方法所形成的永久图案如果是上述保护膜、上述层间绝缘膜，则可以保护布线不受来自外部的冲击或弯曲，特别是上述层间绝缘膜的情况下，例如可以用于半导体或构件向多层布线基板或内装布线基板等的高密度实装。本发明的上述永久图案形成方法由于使用本发明的上述感光性组合物，所以可以优选地用于保护膜、层间绝缘膜及阻焊剂图案等永久图案等各种图案的形成，滤色片、柱材、肋材、间隔件、隔壁等液晶结构构件的制造，全息摄影、微型电机、印样等的制造中，特别是能够优选地用于印刷电路板等永久图案的形成中。实施例以下，利用实施例对本发明进一步具体地说明，但本发明只要不违背其主旨，并不限定于以下的实施例。予以说明，只要没有特别说明，"份"为质量标准。(实施例1)-感光性膜的制造-在作为支撑体的厚度为16pm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(东丽株式会社制、16FB50)上，涂布由下述组成形成的感光性组合物溶液并使之干燥，在上述支撑体上形成厚度为3(Vm的感光层。在上述感光层上层叠作为保护层的厚度为20pm的聚丙烯膜(王子特殊纸株式会社制，阿璐凡(7/1^7乂)E-200)，制造感光性膜。<感光性组合物溶液〉的组成下述式B-l所示的粘合剂的溶液..............................37.2质量份A-DPH(新中村化学工业株式会社制。以下称为聚合性化合物"J-1")..............................................................…'9.15质量份下述式K-1所示的化合物(大东化学公司制)..........0.63质量份DETX(日本化药株式会社制).................................0.32质量份(将上述的K-1所示的化合物以及DETX称为光聚合引发剂"H-1"。予以说明，感光性组合物溶液中的"H-1"的组成为0.95质量份。)下述式M-1所示的化合物(东京化成工业株式会社制)…l质量份艾泡陶特(工求卜一卜)YDF-170(东都化成株式会社制、双酚F型环氧树脂。以下称为热交联剂"N-1"。)........................5.00质量份颜料分散液(以下称为"G-1"。)..............................35.7质量份麦嘎法库(^力、7:r:y夕)F-780F(大日本油墨株式会社制)的30质量％甲乙酮溶液...................................................0.13质量份甲乙酮(溶剂)......................................................12.0质量份另外，上述颜料分散液通过下述方式来配制，S卩，在预先混合二氧化硅(Admatechs株式会社(7K^亍、;/夕7株式会社)制、SO-C2)30质量份、下述式B-l所示的粘合剂的溶液48.2质量份、酞菁蓝0.51质量份、蒽醌系黄色颜料(PY24)0.14质量份和乙酸正丙酯59.0质量份后，利用电动磨机M-250(EIGER公司(7一^f一公司)制)、使用直径为l.Omm的氧化锆珠，以线速度9m/s分散3小时。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage73</formula>(合成例1)粘合剂B-l的合成在1000mL三颈烧瓶中放入l-甲氧基-2-丙醇卯.6g，在氮气流下加热至9(TC。向其中花3个小时的时间滴加甲基丙烯酸苄酯105.8g、甲基丙烯酸120.6g的l-甲氧基-2-丙醇156g溶液、V-601(和光纯药制)7.24g的l陽甲氧基-2-丙醇50g溶液。滴下终止后，再加热l时间使之反应。接着，花1小时的时间滴加V-601(和光纯药制)2.00g的l-甲氧基-2-丙醇20g溶液。滴加终止后，再加热3时间使之反应，然后停止加热，得到甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸G0/70mol^比)的共聚物。接着，在滴液漏斗中加入甲基丙烯酸縮水甘油酯105.2g、1-甲氧基-2-丙醇20g，在上述烧瓶中加入对甲氧基苯酚0.34g，搅拌使之溶解。溶解后加入三苯基膦0.82g，加热至IO(TC，然后花1小时的时间从滴液漏斗滴加甲基丙烯酸缩水甘油酯，进行加成反应。利用气相色谱法确认到甲基丙烯酸縮水甘油酯消失，使加热停止。加入l-甲氧基-2-丙醇45.8g，配制酸值为121mgKOH/g、质均分子量为3.1万、固态成分45质量％的粘合剂B-l的溶液。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage74</formula>在上述式M-1所示的化合物中，作为取代基的氯基"-Cl"的am值为0.37。-对基体的层叠-对覆铜层叠板(无镀通孔、铜厚12pm)的表面实施化学研磨处理来制作上述基体。以上述感光性膜的感光层与上述覆铜层叠板相接的方式一边剥离上述感光性膜中的保护膜，一边使用真空层叠机(日合摩顿株式会社(Nichigo-mortonco.Ltd)，VP130)使该保护膜层叠于该覆铜层叠板上，制作依次层叠上述覆铜层叠板、上述感光层、上述聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(支撑体)而成的层叠体。压接条件为抽真空时间为40秒、压接温度为70°C、压接压力为0.2MPa、加压时间为10秒。<保护膜的剥离性>将所得到的上述感光性膜剪断，在内径为4英寸、长度为220mm的巻芯上巻绕成宽度为200mm、长度为80m的辊状。设定于上述真空层压机，于室温25'C进行保护膜的剥离试验，目视观察并评价剥离性。评价标准以下上述。结果示于表2。-评价标准-〇保护膜与感光层的界面处的剥离为轻剥离，在保护膜表面完全不残留感光性组合物。保护膜与感光层的界面处的剥离为中剥离，没有产生剥离音且在保护膜表面微量残留感光性组合物。X:保护膜与感光层的界面处的剥离为重剥离，在保护膜表面残留了感光性组合物。对上述层叠体按照以下的方式进行感光度的评价。<感光度>将上述层叠体于室温(23°C、55%RH)静置10分钟。对所得到的上述层叠体的感光层表面，使用INPREXIP-3000(富士胶片公司制、像素间距二1.0pm)、以21/2倍间隔照射从0.5mJ/cr^至500mJ/cm2的光能量不同的光，对L/S(线/宽)=50^im/50nm的图案数据进行曝光，使L/S(线/宽)二50^im/5(Him的线图案固化。于室温静置10分钟，然后从上述感光性层叠体剥取上述支撑体，对覆铜层叠板上的感光层的整个面以喷射压为0.15MPa喷射30'C的1质量％的碳酸钠水溶液进行显影，显影时间为上述最短显影时间的2倍3倍的时间(或40秒60秒)，将未固化的区域溶解除去。使用激光显微镜(VK-9500、基恩士公司(年一工乂7公司)制；物镜50倍)测定由上述方式得到的L^50pm的图案的线宽，以得到线宽度为5(Him的曝光量作为感光度(最适曝光量)。结果示于表2。<显影性(最短显影时间)>从上述层叠体剥取聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(支撑体)，对覆铜层叠板上的上述感光层的整个面，以(U5MPa喷射3(TC的1质量％的碳酸钠水溶液，测定从碳酸钠水溶液的喷射开始到覆铜层叠板上的感光层被溶解除去所需要的时间，将其作为最短显影时间。该最短显影时间越短，显影性越优良。结果示于表2。<生保存性(显影之前的保存性)的评价〉将上述层叠体于室温(23°C、55%RH)下密封于防湿袋(黑色聚乙烯制的筒状袋、膜厚80,、水蒸气透过率25g/m"24hr以下)中于40'C保存3日，然后利用与上述最短显影时间的评价中的方法相同的方法测定上述最短显影时间，将按照上述最短显影时间评价所得到的值设为to、将保存3日后的上述最短显影时间的值设为ti，算出t"to的值。该ti/to值越接近于1，意味着生保存性越优良。将按照以下的评价标准得到的结果示于表2。◎t,/to为1.0^"0<1.5〇t!/t。为1.5^"0<2.0△:t"t。为2.0St,/to〈4.0X:"/to为4.0^t,/to<非电解镀金耐性的评价>作为上述基体，除了使用对覆铜层叠板(无镀通孔、铜厚度12pm)的表面实施化学研磨处理而得到的基体之外，在与上述层叠体同样地制作而成的层叠体的感光层表面，使用INPREXIP-3000(富士胶片公司制、像素间距二1.0^m)、以最适曝光量形成30^im1000iam的独立细线图案，在室温下静置10分钟，然后从上述感光性层叠体剥取上述支撑体，对覆铜层叠板上的感光层的整个面，以喷射压为0.15MPa喷射3(TC的1质量%的碳酸钠水溶液进行显影，显影时间为上述最短显影时间的2倍3倍的时间(或者40秒60秒)，将未固化的区域溶解除去。然后，利用超高压水银灯以200mJ/cn^进行全面曝光，再于15(TC下加热处理1小时(后烘烤)，形成阻焊剂图案(永久图案)。--非电解镀金工序--将形成了阻焊剂图案(永久图案)的试验基板浸渍于3(TC的酸性脱脂液(日本玛库达米特公司(7夕夕、、一^、;/卜公司)帝ij、MetexL-5B的20质量％水溶液)浸渍3分钟后，在流水中浸渍3分钟进行水洗。接着，在室温下、14.3质量％的过硫酸铵水溶液中浸渍3分钟后，在流水中浸渍3分钟进行水洗，再于室温下将试验基板浸渍于10质量％的硫酸水溶液中，在流水中浸渍30秒1分钟进行水洗。接着，将该基板浸渍于3(TC的催化剂溶液(美录德公司(力P亍:y夕7公司)制、钣金活化剂350的10质量％水溶液)中7分钟后，在流水中浸渍3分钟进行水洗，接着，于85'C的镀镍液(美录德公司制、金属板Ni-865M、20容量％水溶液、PH4.6)中浸渍20分钟，进行非电解镀镍，然后于室温下、10质量％的硫酸水溶液中浸渍1分钟，然后在流水中浸渍30秒1分钟进行水洗。接着，将试验基板浸渍于75"C的镀金液(奥野制药工业公司制、OPC厶f、yrf—，K、PH1213、加厚镀金0.3pm)中4分钟，进行非电解镀金，然后在流水中浸渍3分钟进行水洗后，再于6(TC的温水中浸渍3分钟充分地水洗后干燥，得到非电解镀金的试验基板。对于该试验基板，进行外观的变化以及使用赛璐玢粘胶带的脱皮试验，按照以下的标准判定固化被膜的剥离状態。结果示于表2。-评价标准-完全没有剥落〇线宽为50pm以上的图像没有剥落线宽为500pm以上的图像没有剥落(实施例2)除了将感光性组合物溶液中的上述式M-1所示的化合物的添加量从1质量份变更为2质量份以外，与实施例1同样地制造层叠体以及永久图案，与实施例1同样地进行保护膜剥离性、感光度、显影性(最短显影时间)、生保存性、非电解镀金耐性的评价。结果示于表2。(实施例3)除了将感光性组合物溶液中的上述式M-1所示的化合物的添加量从1质量份变更为5质量份以外，与实施例1同样地制造层叠体以及永久图案，与实施例1同样地对保护膜剥离性、感光度、显影性(最短显影时间)、生保存性、非电解镀金耐性的评价。结果如表2所示。(实施例4)将感光性组合物溶液中的上述式M-l所示的化合物变更为下述式M-2所示的化合物(东京化成工业株式会社制)、将添加量变更为2质量份，除此以外，与实施例1同样地制造层叠体以及永久图案，与实施例1同样地进行保护膜剥离性、感光度、显影性(最短显影时间)、生保存性、非电解镀金耐性的评价。结果如表2所示。即使是线宽为500pm以上的图像也有剥落NN火人H2NNNH2M-2上述式M-2所示的化合物中，作为取代基的甲基"-CH3"的cim值为-0.07。(实施例5)将感光性组合物溶液中的上述式M-l所示的化合物变更为下述式M-3所示的化合物(东京化成工业株式会社制)、将添加量变更为2质量份，除此以外，与实施例1同样地制造层叠体以及永久图案，与实施例1同样地进行保护膜剥离性、感光度、显影性(最短显影时间)、生保存性、非电解镀金耐性的评价。结果如表2所示。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage79</formula>上述式M-3所示的化合物中，作为取代基的乙烯基"-CHCH2"的am值为-O.l。(实施例6)将感光性组合物溶液中的上述式M-l所示的化合物变更为下述式M-4所示的化合物(东京化成工业株式会社制)、将添加量变更为2质量份，除此以外，与实施例1同样地制造层叠体以及永久图案，与实施例1同样地进行对保护膜剥离性、感光度、显影性(最短显影时间)、生保存性、非电解镀金耐性的评价。结果示于表2。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage79</formula>上述式M-4所示的化合物中，作为取代基的苯基"-Ph"的am值为0.06。(实施例7)将感光性组合物溶液中的上述式M-l所示的化合物变更为下述式M-5所示的化合物(东京化成工业株式会社制)、将添加量变更为2质量份，除此以外，与实施例1同样地制造层叠体以及永久图案，与实施例1同样地进行对保护膜剥离性、感光度、显影性(最短显影时间)、生保存性、非电解镀金耐性的评价。结果示于表2。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage80</formula>在上述式M-5所示的化合物中，作为取代基的氢原子"-H"的cim值为0。(实施例8)将感光性组合物溶液中的上述式M-l所示的化合物变更为下述式M-6所示的化合物(东京化成工业株式会社制)、将添加量变更为2质量份，除此以外，与实施例1同样地制造层叠体以及永久图案，与实施例1同样地进行对保护膜剥离性、感光度、显影性(最短显影时间)、生保存性、非电解镀金耐性的评价。结果示于表2。NHBuN1H2N义N人NH2M-6在上述式M-6所示的化合物中，作为取代基的1个氢原子被丁基取代了的氨基"-NHBu"的am值为-0.21。(实施例9)将感光性组合物溶液中的上述式M-l所示的化合物变更为下述式M-8所示的化合物、将添加量变更为2质量份，除此以外，与实施例l同样地制造层叠体以及永久图案，与实施例1同样地进行对保护膜剥离性、感光度、显影性(最短显影时间)、生保存性、非电解镀金耐性的评价。结果示于表380<image>imageseeoriginaldocumentpage81</image>(合成例2)上述式M-8所示的化合物的合成在2000L三颈烧瓶中，加入已溶融的苯酚500mL，加热至60。C。向其中加入二氰基二酰胺(东京化成工业株式会社制)128g、氯化铵(和光纯药株式会社制)98g，于125。C下加热搅拌8小时。冷却至60°C，然后加入2-丙醇1.5L并搅拌，用布氏漏斗滤取固态成分。将滤取到的微灰色固体在2-丙醇2L中搅拌后，再一次滤取，用送风干燥机干燥24小时，得到胍胺前体204g。在500mL三颈烧瓶中，加入胍胺前体ll.lg、一氯乙酸乙酯(东京化成工业株式会社制)12.3g、乙醇(和光纯药工业株式会社制)150mL，在搅拌下滴加乙醇钠的乙醇溶液(和光纯药工业株式会社制)37.4g。搅拌30分钟后，加热至65t:搅拌6小时。使反应液冷却后，搅拌下在水1L中加入内容物，搅拌1小时后，滤取固体。将上述固体在水、丙酮中洗涤后，用送风干燥机干燥，得到上述式M-8所示的化合物8.9g。(实施例10)将感光性组合物溶液中的上述式M-l所示的化合物变更为下述式M-9所示的化合物、将添加量变更为2质量份，除此以外，与实施例l同样地制造层叠体以及永久图案，与实施例1同样地对保护膜剥离性、感光度、显影性(最短显影时间)、生保存性、非电解镀金耐性进行评价。结果示于表3<formula>formulaseeoriginaldocumentpage82</formula>(合成例3)上述式M-9所示的化合物的合成在上述的合成例2(上述式M-8所示的化合物的合成)中，除了将一氯乙酸乙酯变更为三氟乙酸乙酯外，与合成例2同样地进行合成，得到上述式M-9所示的化合物16.8g。(实施例11)将感光性组合物溶液中的上述式M-l所示的化合物变更为下述式M-10所示的化合物、将添加量变更为2质量份，除此以外，与实施例1同样地制造层叠体以及永久图案，与实施例1同样地对保护膜剥离性、感光度、显影性(最短显影时间)、生保存性、非电解镀金耐性进行评价。结果示于表3。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage82</formula>(合成例4)上述式M-10所示的化合物的合成在1000L三颈烧瓶中，加入2，4-二氨基-6-氯三嗪14.6g(东京化成工业株式会社制)、甘氨酸7.5g(和光纯药工业株式会社制)、乙醇60g以及水20g，在搅拌下滴加48。％的氢氧化钠水溶液8.5g。滴加后，加热至80°C，使之反应14小时。将体系内冷却，加入水500mL，过滤。在所得到的滤液中加入乙酸20g，固体析出，滤取该固体。将上述固体用水、丙酮清洗后，用送风干燥机进行干燥，得到上述式M-10所示的化合物12.6g。(实施例12)将感光性组合物溶液中的上述式M-l所示的化合物变更为下述式M-ll所示的化合物、将添加量变更为2质量份，除此以外，与实施例1同样地制造层叠体以及永久图案，与实施例1同样地对保护膜的剥离性、感光度、显影性(最短显影时间)、生保存性、非电解镀金耐性进行评价。结果示于表3(合成例5)上述式M-ll所示的化合物的合成在上述合成例2(上述式M-8所示的化合物的合成)中，除了将一氯乙酸乙酯变更为甲磺酰乙酸甲酯以外，与合成例2同样地合成，得到上述式M-ll所示的化合物12.2g。(实施例13)将感光性组合物溶液中的上述式M-l所示的化合物变更为下述式M-12所示的化合物、将添加量变更为2质量份，除此以外，与实施例1同样地制造层叠体以及永久图案，与实施例1同样地对保护膜的剥离性、感光度、显影性(最短显影时间)、生保存性、非电解镀金耐性进行评价。结果示于表3NH2丄N仑N〇ONH2上N々NoM-12(合成例6)上述式M-12所示的化合物的合成在上述合成例2(上述式M-8所示的化合物的合成)中，除了将一氯乙酸乙酯变更为草氨酸乙酯以外，与合成例2同样地进行合成，得到上述式M-12所示的化合物16.2g。(比较例1)将感光性组合物溶液中的上述式M-l所示的化合物变更为下述式M-7所示的化合物(东京化成工业株式会社制)、将添加量变更为2质量份，除此以外，与实施例1同样地制造层叠体以及永久图案，与实施例1同样地对保护膜的剥离性、感光度、显影性(最短显影时间)、生保存性、非电解镀金耐性进行评价。结果示于表4。NH2丄N々N义人H2NN八Nh^M-7在上述式M-7所示的化合物中，氨基"-NH2"的cmi值为-0.26。(比较例2)除了不使用感光性组合物溶液中的上述式M-l所示的化合物以外，与实施例1同样地制造层叠体以及永久图案，与实施例1同样地对保护膜的剥离性、感光度、显影性(最短显影时间)、生保存性、非电解镀金耐性进行评价。结果示于表4。(比较例3)将感光性组合物溶液中的光聚合引发剂H-1变更为碱性的光聚合引发剂H-2(IRG.369(汽巴精化株式会社制))、将上述式M-l所示的化合物变更为上述式M-2所示的化合物(东京化成工业株式会社制)、将添加量变更为2质量份，除此以外，与实施例1同样地制造层叠体以及永久图案，与实施例1同样地进行保护膜的剥离性、感光度、显影性(最短显影时间)、生保存性、非电解镀金耐性的评价。结果示于表4。(比较例4)将感光性组合物溶液中的上述式B-1所示的化合物粘合剂变更为作为环氧丙烯酸酯的粘合剂B-2(PR300(大日本油墨株式会社制))、将聚合性化合物J-l变更为聚合性化合物J-2(A-TMMT(新中村化学工业株式会社制))、将热交联剂N-l变更为热交联剂N-2(TEPIC(日产化学株式会社制))、将光聚合引发剂H-l变更为碱性光聚合引发剂H-2(IRG.369(汽巴精化株式会社制))、以上述式M-l所示的化合物变更为上述式M-2所示的化合物(东京化成工业株式会社制)、将添加量变更为2质量份，除此以外，与实施例1同样地制造层叠体以及永久图案，与实施例1同样地对保护膜的剥离性、感光度、显影性(最短显影时间)、生保存性、非电解镀金耐性进行评价。结果示于表4。(比较例5)将感光性组合物溶液中的上述式B-1所示的粘合剂变更为作为环氧丙烯酸酯的粘合剂B-2(PR300(大日本油墨株式会社制))、将聚合性化合物J-l变更为聚合性化合物J-2(A-TMMT(新中村化学工业株式会社制))、将热交联剂N-l变更为热交联剂N-2(TEPIC(日产化学株式会社制))、将光聚合引发剂H-l变更为碱性光聚合引发剂H-2(IRG.369(汽巴精化株式会社制))、将上述式M-l所示的化合物变更为上述式M-7所示的化合物(东京化成工业株式会社制)、将添加量变更为2质量份，除此以外，与实施例1同样地制造层叠体以及永久图案，与实施例1同样地对保护膜的剥离性、感光度、显影性(最短显影时间)、生保存性、非电解镀金耐性进行评价。结果示于表4。表2<table>tableseeoriginaldocumentpage86</column></row><table>表3实施例9实施例1o实施例11实施例12实施例13粘合剂1B—137.237.237.237.237.2!B—2聚合性化合物:J—19.159.159.159.159.15iJ—2热交联剂in—i55555n—2光聚合引发剂H—l0.950.950.950,950.95H—2化合物M—82M—92M_102M—112M—122甲乙酮(溶剂)1212121212颜料分散液G—135.735.735.735.735.7麦嘎法库F—780F的30质量％的甲乙酮溶液0.130.130.130.130.13保护膜剥离性.〇〇〇〇O感光度[mJ]2424202424显影时间[sec]1015101010生保存性〇◎◎◎◎镀敷耐性◎〇〇〇◎87<table>tableseeoriginaldocumentpage88</column></row><table>表5取代基CTm倌M—1一CI0.37M—2_CH3一O.07M—3—CHCH2一O.1M—4一Ph0.06M—5一H0M—6一NH已u一O.21M—8—CH2CI0.11M—9—CF30.43M—10HOOC、H0.10M—11O00.25M—120.28M—7—NH2一O.26在本发明的感光性组合物中，不仅作为阻焊剂所必要的显影性、硬度、耐热性、感光度优良，而且也获得了优良的镀敷耐性以及保存性，特别适用于要求高保存性的膜型阻焊剂中。本发明的感光性膜提高了镀敷耐性以及保存性且高效地形成了高精细的永久图案，因此可优选地用于保护膜、层间绝缘膜以及阻焊剂图案等永久图案等各种图案形成，滤色片、柱材、肋^"、间隔件、隔壁等液晶构造构件的制造，全息照相、微型电机、校样的制造等中，特别是优选地用于印制电路板的永久图案形成中。本发明的图案形成方法由于使用了上述感光性组合物，所以能够优选地用于保护膜、层间绝缘膜以及阻焊剂图案等永久图案等各种图案的形成，滤色片、柱材、肋材、间隔件、隔壁等液晶构造构件的制造，全息照相、微型电机、校样的制造等中，特别是能够优选地于印制电路板的永久图案的形成中。89权利要求1、一种感光性组合物，其特征在于，其含有(甲基)丙烯酸酯系粘合剂、聚合性化合物、中性的光聚合引发剂、热交联剂以及下述通式(1)所示的化合物，id="icf0001"file="A2009101410590002C1.tif"wi="24"he="18"top="58"left="82"img-content="drawing"img-format="tif"orientation="portrait"inline="yes"/>通式(1)所述通式(1)中，X表示氢原子或σm值为-0.22以上的取代基。2、根据权利要求1所述的感光性组合物，其中，通式(1)中，X选自氢原子、卤原子、总碳原子数为112的烷基、总碳原子数为612的芳基、链烯基以及至少1个氢被取代了的氨基中的至少一种。3、根据权利要求1所述的感光性组合物，其中，(甲基)丙烯酸酯系粘合剂为侧链含有酸性基和乙烯性不饱和键的高分子化合物。4、根据权利要求1所述的感光性组合物，其中，相对于感光性组合物固态成分中的固态成分的含有量，含有10质量%以上的聚合性化合物。5、根据权利要求l所述的感光性组合物，其中，中性的光聚合引发剂为肟酯系光聚合引发剂。6、根据权利要求l所述的感光性组合物，其中，热交联剂为选自环氧化合物、氧杂环丁烷化合物、聚异氰酸酯化合物、使封端剂与聚异氰酸酯化合物反应而得到的化合物以及蜜胺衍生物中的至少1种。7、一种感光性膜，其特征在于，在支撑体上具有含下述感光性组合物的感光层，所述感光性组合物含有(甲基)丙烯酸酯系粘合剂、聚合性化合物、中性的光聚合引发剂、热交联剂以及下述通式(1)所示的化合物，<image>imageseeoriginaldocumentpage3</image>所述通式(1)中，X表示氢原子或cnn值为-0.22以上的取代基。8、一种感光性层叠体，其特征在于，在基体上具有含下述感光性组合物的感光层，<image>imageseeoriginaldocumentpage3</image>所述感光性组合物含有(甲基)丙烯酸酯系粘合剂、聚合性化合物、中性的光聚合引发剂、热交联剂以及下述通式(1)所示的化合物，所述通式(1)中，X表示氢原子或cmi值为-0.22以上的取代基。9、一种永久图案的形成方法，其特征在于，其至少包括对由下述感光性组合物形成的感光层进行曝光的步骤，所述感光性组合物含有(甲基)丙烯酸酯系粘合剂、聚合性化合物、中性的光聚合引发剂、热交联剂以及下述通式(O所示的化合物，<image>imageseeoriginaldocumentpage3</image>所述通式(1)中，X表示氢原子或om值为-0.22以上的取代基。10、根据权利要求9所述的永久图案的形成方法，其中，曝光是在利用光调制机构调制光之后，使所述光从排列了具有非球面的微透镜而成的微透镜阵列中通过来进行的，所述非球面能够校正所述光调制机构中的描绘部的射出面的变形所引起的像差。11、根据权利要求9所述的永久图案的形成方法，其中，进行了所述曝光后，进行感光层的显影。12、根据权利要求ll所述的永久图案的形成方法，其中，进行了所述显影后，进行感光层的固化处理。13、一种印制电路板，其特征在于，由至少包括对下述感光层进行曝光的步骤的永久图案的形成方法来形成永久图案，所述感光层由含有(甲基)丙烯酸酯系粘合剂、聚合性化合物、中性的光聚合引发剂、热交联剂以及下述通式(1)所示的化合物的感光性组合物形成，<formula>formulaseeoriginaldocumentpage4</formula>所述通式(1)中，X表示氢原子或om值为-0.22以上的取代基。全文摘要本发明的感光性组合物的特征在于，含有(甲基)丙烯酸酯系粘合剂、聚合性化合物、中性的光聚合引发剂、热交联剂以及上述通式(1)所示的化合物，所述通式(1)中，X表示氢原子或σm值为-0.22以上的取代基。文档编号G03F7/09GK101587298SQ200910141059公开日2009年11月25日申请日期2009年5月18日优先权日2008年5月19日发明者有冈大辅,池田贵美申请人:富士胶片株式会社