正反交错提花尺寸稳定性好面料的制作方法
【专利摘要】本发明涉及一种正反交错提花尺寸稳定性好面料，包括基布(1)，基布(1)的正反两面均设有提花层(2)，提花层(2)包括若干个提花区域(21)和非提花区域(22)，所述提花区域(21)和非提花区域(22)均呈块状且交错排列，所述基布(1)由织物制成，所述织物由经纱和纬纱相互交织而成，所述的经纱和纬纱为二上二下设置，所述的经纱为50D/72F涤纶低弹丝，纬纱为5D/36F涤纶低弹丝，且所述的经纱和纬纱为斜纹组织结构。正反交错提花尺寸稳定性好面料的正反面均设置交错分布的提花区域和非提花区域，增强了面料的层次感。
【专利说明】正反交错提花尺寸稳定性好面料
(—)【技术领域】
[0001]本发明涉及一种面料，尤其涉及一种制作服装、玩具的面料，属于纺织面料领域。
(二)【背景技术】
[0002]提花面料手感柔软舒适，透气性能好，颇受人们的喜爱。现有的提花面料多为单面提花或双面提花，层次感不强。且尺寸稳定性不好。
(三)
【发明内容】
[0003]本发明的目的在于克服上述不足，提供一种层次感强的正反交错提花尺寸稳定性好面料。
[0004]本发明的目的是这样实现的:一种正反交错提花尺寸稳定性好面料，包括基布，所述基布的正反两面均设有提花层，所述提花层包括若干个提花区域和非提花区域，所述提花区域呈块状，所述提花区域和非提花区域交错排列，位于正反两面的提花区域和非提花区域交错对称分布，所述基布由织物制成，所述织物由经纱和纬纱相互交织而成，所述的经纱和纬纱为二上二下设置，所述的经纱为50D/72F涤纶低弹丝，纬纱为OT/36F涤纶低弹丝，且所述的经纱和纬纱为斜纹组织结构。
[0005]与现有技术相比，本发明的有益效果是:
[0006]1、正反交错提花尺寸稳定性好面料的正反面均设置交错分布的提花区域和非提花区域，增强了面料的层次感。
[0007]2、本发明经纱和纬纱之间的空间大，具有较好的弹力和舒适感。本发明使用了涤纶低弹丝，既具有象氨纶类弹性织物的优点，又比氨纶类弹性织物的价格低，且织物的尺寸稳定性好。
(四)【专利附图】
【附图说明】
[0008]图1为本发明正反交错提花尺寸稳定性好面料的平面示意图。
[0009]图2为图1的A-A剖视图。
[0010]其中:基布1、提花层2、提花区域21、非提花区域22。
(五)【具体实施方式】
[0011]参见图1和图2，本发明涉及一种正反交错提花尺寸稳定性好面料，包括基布1，所述基布I的正反两面均设有提花层2。所述提花层2包括若干个提花区域21和非提花区域22，所述提花区域21和非提花区域22均呈块状且交错排列。位于正反两面的提花区域21和非提花区域22交错对称分布。
[0012]所述基布I由织物制成，所述织物由经纱和纬纱相互交织而成，所述的经纱和纬纱为二上二下设置，所述的经纱为50D/72F涤纶低弹丝，纬纱为OT/36F涤纶低弹丝，且所述的经纱和纬纱为斜纹组织结构。
【权利要求】
1.一种正反交错提花尺寸稳定性好面料，包括基布(I)，所述基布(I)的正反两面均设有提花层(2)，其特征在于:所述提花层(2)包括若干个提花区域(21)和非提花区域(22)，所述提花区域(21)和非提花区域(22)均呈块状且交错排列，位于正反两面的提花区域(21)和非提花区域(22)交错对称分布，所述基布(I)由织物制成，所述织物由经纱和纬纱相互交织而成，所述的经纱和纬纱为二上二下设置，所述的经纱为50D/72F涤纶低弹丝，纬纱为OT/36F涤纶低弹丝，且所述的经纱和纬纱为斜纹组织结构。
【文档编号】B32B27/02GK103879041SQ201210593663
【公开日】2014年6月25日 申请日期:2012年12月21日 优先权日:2012年12月21日
【发明者】沈卫军 申请人:沈卫军