一种可钢化的、镀有低辐射镀膜的玻璃制品的制作方法
【专利摘要】本发明涉及镀膜玻璃【技术领域】，尤其涉及一种可钢化的、镀有低辐射镀膜的玻璃制品；本发明包括玻璃基片层和镀膜层，镀膜层包括Si3N4层、NiCr层、Ag层和TiO2层；本发明对于可见光波段具有较高的透过率，能保证良好的自然采光，但同时又能有效限制太阳热辐射的透过，尤其是近红外热辐射的透过；本发明不仅保证了镀膜具有良好的耐磨耐刮伤特性、优良的抗酸碱耐腐蚀特性，而且保证了在相同的可见光透过率和辐射率下，光的反射率更加低、光的污染更小、抗氧化性能增强、耐氧化的时间更长。
【专利说明】一种可钢化的、镀有低辐射镀膜的玻璃制品
【技术领域】
[0001]本发明涉及玻璃【技术领域】，尤其涉及一种可钢化的、镀有低辐射镀膜的玻璃制品。
【背景技术】
[0002]市面上已有多种镀膜玻璃产品出现，但是这些镀膜玻璃产品所使用的镀膜材料都不能耐高温，对于需要钢化的玻璃，镀膜过程必须在钢化以后进行。对一些有特殊形状要求的玻璃，钢化以后定型为曲面，而曲面玻璃镀膜时很难保证膜层均匀。另外由于玻璃的钢化过程必须在被切割成所需尺寸后进行，因此将钢化后的玻璃进行镀膜时，工作台面上的玻璃也是按照切割后的尺寸来放置的。这样，那些不规则形状的玻璃使得工作台面的装载率低下，镀膜的效率也很低。
[0003]为此，人们对镀膜进行了大量研宄，希望能得到可以耐高温的镀膜，以便能在镀膜后进行玻璃钢化工艺。申请号为:200920068698.5的专利文献就公开了一种可钢化双银复合结构低辐射镀膜玻璃，该膜层结构自玻璃向外层依次为:玻璃、包含吸收层的基层复合电介质层、银层、阻隔层、包含吸收层的中层复合电介质层、银层、阻隔层、顶层电介质层，该技术通过选择各层的厚度和膜层成分，生产出可以进行高温热处理的双银结构低辐射镀膜玻璃。这对于镀膜后再进行钢化是一个突破，但是，该技术的层结构复杂，成本高，而且其性能单一，只是为了可以进行高温处理的性能。
【发明内容】
[0004]针对上述现有技术的不足，本发明的目的在于提供了一种结构简单，成本低廉，性能多元化的可钢化的、镀有低辐射镀膜的玻璃制品。
[0005]为了实现上述目的，本发明的技术方案如下:
[0006]一种可钢化的、镀有低辐射镀膜的玻璃制品，包括玻璃基片层和镀膜层，所述镀膜层自玻璃基片层向外，依次包括Si3N4层、NiCr层、Ag层、NiCr层、和Si 3N4层，所述玻璃制品结构为 Glass/Si3N4/NiCr/Ag/NiCr/Si3N4。
[0007]较佳地，所述镀膜层还包括Si3N4层和NiCr层，所述玻璃制品结构为:Glass/S i 3N4/NiCr/Si 3N4/Ni Cr/Ag/Ni Cr/S i 3N4。
[0008]较佳地，所述镀膜层还包括ZnO层、Si3N4层和1102层，所述玻璃制品结构为Glass/S i 3N4/Ni Cr/ZnO/Ni Cr/Ag/Ni Cr/S i 3N4/T i O2。
[0009]较佳地，所述镀膜层结构为S i3N4/Ni Cr/S i3N4/Ni Cr/Ag/Ni Cr/S i3N4/Ti O2。
[0010]较佳地，所述NiCr层单层的厚度为I?1nm ;所述Si3N4层单层的厚度为5?60nm ;所述Ag层单层的厚度为5?20nm ;所述Si3N4层单层的厚度为30?60nm ;所述1102层单层的厚度为2?15nm ;所述ZnO层单层的厚度为5?40nmo
[0011]本发明包括玻璃基片层和镀膜层，镀膜层自玻璃基片向外，依次包括Si3N4层、NiCr 层、Ag 层、NiCr 层、和 Si3N4层，所述玻璃制品结构为 Glass/Si 3N4/NiCr/Ag/NiCr/Si3N4;在此基础上，本发明还包括多一 Si3N4/NiCr层结构，相对现有技术的多层结构节约成本，工序简单。其中Ag层为功能层，其对于可见光波段具有较高的透过率，能保证自然采光良好，但同时又能有效限制太阳热辐射的透过、尤其是近红外热辐射的透过。
[0012]Si3N4层是硅氮复合物层，其结构致密、硬度高、防水性好。在高温条件下底层的Si3N4层能够阻止玻璃的Na离子穿透，避免对Ag功能层造成影响。而位于外层的Si 3N4层由于其具有高硬度，保证了膜层具有良好的耐磨耐刮伤特性。
[0013]NiCr层为保护层，其具有优良的抗酸碱耐腐蚀特性，能够保护Ag功能层不被氧化。
[0014]本发明还可以包括，ZnO层、Si3N4层和T12层在相同的可见光透过率和辐射率下，光的反射率更加低，光的污染更小。在最外层增加了一层T12，抗氧化性能增强，耐氧化的时间更长。
[0015]本发明通过对每层的厚度及其材质选择，使得本发明不仅结构简单，成本低廉，而且性能多元化，它对于可见光波段具有较高的透过率，能保证自然采光良好，但同时又能有效限制太阳热辐射的透过、尤其是近红外热辐射的透过；本发明不仅保证了镀膜具有良好的耐磨耐刮伤特性、优良的抗酸碱耐腐蚀特性，而且保证了在相同的可见光透过率和辐射率下，光的反射率更加低、光的污染更小、抗氧化性能增强、耐氧化的时间更长。
【专利附图】
【附图说明】
[0016]图1为本发明5层膜的结构示意图；
[0017]图2为本发明7层膜的结构示意图；
[0018]图3为本发明8层膜的结构示意图。
【具体实施方式】
[0019]下面结合附图对本发明的【具体实施方式】作进一步的详细说明。
[0020]实施例1
[0021]见图1，一种可钢化的、镀有低辐射镀膜的玻璃制品，包括玻璃基片O层和镀膜层，镀膜层有五层，从基片开始，依次为厚度为5nm的Si3N4层1、厚度为Inm的NiCr层2、厚度为5nm的Ag层3、厚度为5nm的NiCr层4、和厚度为1nm的Si3N4层5。
[0022]玻璃制品结构为:Glass/Si3N4/NiCr/Ag/NiCr/Si3N4。
[0023]经检测，可见光透过率58%，反射14%，遮阳系数0.56，传热系数3.4W/M2*K。
[0024]实施例2
[0025]见图2，一种可钢化的、镀有低辐射镀膜的玻璃制品，包括玻璃基片层O和镀膜层，镀膜层有七层，从基片开始，依次为厚度为1nm的Si3N4层1、厚度为2nm的NiCr层2、厚度为5nm的Si3N4层3、厚度为1nm的NiCr层4、厚度为20nm的Ag层5、厚度为8nm的NiCr层6、和厚度为5nm的Si3N4层?。
[0026]玻璃制品结构为:Glass/Si3N4/NiCr/Si3N4/NiCr/Ag/NiCr/Si3N4。
[0027]经检测，可见光透过率62%，反射10%，遮阳系数0.56，传热系数3.4W/M2*K。
[0028]实施例3
[0029]见图3，一种可钢化的、镀有低辐射镀膜的玻璃制品，包括玻璃基片层O和镀膜层，镀膜层有八层，从基片开始，依次为厚度为15nm的Si3N4层1、厚度为2nm的NiCr层2、厚度为5nm的ZnO层3、厚度为2nm的NiCr层4、厚度为20nm的Ag层5、厚度为4nm的NiCr层6、厚度为30nm的Si3N4层7、厚度为2nm的T1 2层8。
[0030]玻璃制品结构为:Glass/Si3N4/NiCr/Zn0/NiCr/Ag/NiCr/Si3N4/Ti02o
[0031 ] 经检测，可见光透过率61 %，反射10 %，遮阳系数0.57，传热系数3.4W/M2*K。
[0032]实施例4
[0033]见图3，一种可钢化的、镀有低辐射镀膜的玻璃制品，包括玻璃基片层O和镀膜层，镀膜层有八层，从基片开始，依次为厚度为5nm的Si3N4层1、厚度为1nm的NiCr层2、厚度为5nm的ZnO层3、厚度为8nm的NiCr层4、厚度为1nm的Ag层5、厚度为Inm的NiCr层6、厚度为30nm的Si3N4层7、厚度为15nm的T1 4层8。
[0034]玻璃制品结构为:Glass/Si3N4/NiCr/Zn0/NiCr/Ag/NiCr/Si3N4/Ti02o
[0035]经检测，可见光透过率63 %，反射11 %，遮阳系数0.58，传热系数3.4W/M2*K。
[0036]实施例5
[0037]见图3，一种可钢化的、镀有低辐射镀膜的玻璃制品，包括玻璃基片层O和镀膜层，镀膜层有八层，从基片开始，依次为厚度为1nm的Si3N4层1、厚度为5nm的NiCr层2、厚度为8nm的ZnO层3、厚度为5nm的NiCr层4、厚度为20nm的Ag层5、厚度为5nm的NiCr层6、厚度为50nm的Si3N4层7、厚度为1nm的T1 2层8。
[0038]玻璃制品结构为:Glass/Si3N4/NiCr/Zn0/NiCr/Ag/NiCr/Si3N4/Ti02o
[0039]经检测，可见光透过率60 %，反射11 %，遮阳系数0.56，传热系数3.4W/M2*K。
[0040]实施例6
[0041]一种可钢化的、镀有低辐射镀膜的玻璃制品，包括玻璃基片层和镀膜层，镀膜层有八层，从基片开始，依次为厚度为5nm的Si3N4层、厚度为1nm的NiCr层、厚度为5nm的Si3N4层、厚度为1nm的NiCr层、厚度为20nm的Ag层、厚度为5nm的NiCr层、厚度为50nm的Si3N4层、厚度为2nm的T1 2层
[0042]玻璃制品结构为:Glass/Si3N4/NiCr/Si3N4/NiCr/Ag/NiCr/Si3N4/Ti02。
[0043]经检测，可见光透过率55%，反射13%，遮阳系数0.52，传热系数3.4W/M2*K。
[0044]实施例7
[0045]一种可钢化的、镀有低辐射镀膜的玻璃制品，包括玻璃基片层和镀膜层，镀膜层有八层，从基片开始，依次为厚度为20nm的Si3N4层、厚度为Inm的NiCr层、厚度为40nm的Si3N4层、厚度为Inm的NiCr层、厚度为5nm的Ag层、厚度为Inm的NiCr层、厚度为60nm的Si3N4层、厚度为2nm的T1Jl
[0046]玻璃制品结构为:Glass/Si3N4/NiCr/Si3N4/NiCr/Ag/NiCr/Si3N4/Ti02。
[0047]经检测，可见光透过率58%，反射15%，遮阳系数0.54，传热系数3.4W/M2*K。
[0048]实施例8
[0049]一种可钢化的、镀有低辐射镀膜的玻璃制品，包括玻璃基片层和镀膜层，镀膜层有八层，从基片开始，依次为厚度为1nm的Si3N4层、厚度为5nm的NiCr层、厚度为25nm的Si3N4层、厚度为4nm的NiCr层、厚度为15nm的Ag层、厚度为2nm的NiCr层、厚度为60nm的Si3NJl、厚度为15鹽的T1 2层
[0050]玻璃制品结构为:Glass/Si3N4/NiCr/Si3N4/NiCr/Ag/NiCr/Si3N4/Ti02。
[0051]经检测，可见光透过率59%，反射13%，遮阳系数0.55，传热系数3.4W/M2*K。
[0052]上述实施例，只是本发明的较佳实施例，并非用来限制本发明实施范围，故凡以本发明权利要求所述的构造、特征及原理所做的等效变化或修饰，均应包括在本发明权利要求范围之内。
[0053]对本发明进行相关的实验:
[0054]1、耐热实验，本发明可耐高温720°C以下，在钢化炉加热时间可达300秒?900秒；镀膜层不仅没有被烧坏，而且颜色不会发生变化。
[0055]2、耐氧化实验，暴露在空气中耐氧化时间达到120?360小时。
[0056]3、耐磨性实验，即以镀膜面为磨耗面，将试样安装在磨耗试验机的水平回转台上旋转试样；试样旋转200次，试验前后可见光透射比平均值的差值的绝对值小于4%，符合GB-T-18915.1 ?18915.2-2002 镀膜玻璃国标。
[0057]4、耐酸性实验，即将25mm*50mm的试片为试样，将试样浸没在(23±2) °C、lmol/L浓度盐酸中，浸渍时间24h，试验前后可见光透射比平均值的差值的绝对值小于4%。符合GB-T-18915.1 ?18915.2-2002 镀膜玻璃国标。
[0058]5、耐喊性实验，即将25mm*50mm的试片为试样，将试样浸没在(23±2) °C>Imol/L浓度氢氧化钠溶液中，浸渍时间24h，试验前后可见光透射比平均值的差值的绝对值小于4%o 符合 GB-T-18915.1 ?18915.2-2002 镀膜玻璃国标。
【权利要求】
1.一种可钢化的、镀有低辐射镀膜的玻璃制品，包括玻璃基片层和镀膜层，其特征在于:所述镀膜层自所述玻璃基片层向外，依次包括Si3N4层、NiCr层、Ag层、NiCr层和Si3N4层；所述镀膜层还包括Si3N4层、NiCr层和T1Jl，所述玻璃制品结构为:Glass/Si 3N4/NiCr/Si3N4/NiCr/Ag/NiCr/Si3N4/Ti02o
2.根据权利要求1所述的玻璃制品，其特征在于:所述NiCr层单层的厚度为I?1nm；所述Si3N4层单层的厚度为5?60nmo
3.根据权利要求1所述的玻璃制品，其特征在于:所述Ag层单层的厚度为5?20nm。
4.根据权利要求1所述的玻璃制品，其特征在于:所述Si3N4层单层的厚度为30?60nmo
5.根据权利要求1所述的玻璃制品，其特征在于:所述T1Jl单层的厚度为2?15nm。
【文档编号】B32B17/00GK104494224SQ201410709981
【公开日】2015年4月8日 申请日期:2012年8月31日 优先权日:2012年8月31日
【发明者】余华骏, 黄颖, 崔平生 申请人:东莞南玻工程玻璃有限公司