偏光膜制造系统的制作方法
【专利摘要】本实用新型的偏光膜制造系统，包括：供给由偏光片和基材膜层叠而成的层叠体的层叠体供给装置；供给保护膜的保护膜供给装置；粘结剂涂敷装置，向来自层叠体供给装置的层叠体的偏光片侧和/或来自保护膜供给装置的保护膜涂覆光固化粘结剂；贴合处理装置，利用上述光固化粘结剂将层叠体的偏光片侧与保护膜贴合，形成偏光膜；光固化照射装置，对来自贴合处理装置的偏光膜实施光固化处理；偏光膜卷取装置，卷取来自光固化照射装置的偏光膜；固化前温度测定装置，设置在贴合处理装置的下游侧且光固化照射装置的上游侧，测定从贴合处理装置向光固化照射装置输送的偏光膜的表面温度。由此，能够容易地确认是否确保了偏光片与保护膜的光固化粘结质量。
【专利说明】偏光膜制造系统
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种偏光膜制造系统。
【背景技术】
[0002]液晶显示装置(IXD)、等离子显示装置(rop)、电致发光显示装置(ELD)等图像显示装置因其优越的性能而备受瞩目。也正是因此，图像显示装置的关键组成部分之一即偏光膜的制造技术也受到了越来越多的关注。
[0003]偏光膜是在偏光片的单面或双面上粘贴保护膜而成的。作为偏光片的制造方法，广为人知的是对经二向色性色素染色的单轴拉伸聚乙烯醇类树脂膜实施硼酸处理、水洗后，将该树脂膜干燥的方法。如此得到的偏光片通常要在前述的水洗及干燥后，直接贴合保护膜。这是因为，干燥后的偏光片物理强度弱，存在被卷起时沿加工方向撕裂等问题。因此，干燥后的偏光片通常是在直接涂布水系粘结剂之后，经由该粘结剂在两面上同时贴合保护膜。通常，作为保护膜，使用厚30?120 μ m的乙酸纤维素类树脂膜。
[0004]另一方面，由于乙酸纤维素类树脂膜透湿度高，因此，将这种膜作为保护膜贴合成的偏光膜在湿热环境下(例如，在温度为70°C、相对湿度为90%的条件下)存在品质劣化的问题。因此，为了解决这一问题，提出了使用透湿度比乙酸纤维素类树脂低的树脂作为保护膜的方法。
[0005]在利用现有装置向上述的偏光片上贴合这种透湿度低的树脂膜的情况下，在使用以水为主要溶剂的水系粘结剂(例如聚乙烯醇水溶液)贴合该树脂膜之后，在使溶剂干燥的所谓的湿压膜法中，存在不能获得足够的粘结强度、外观不良等问题。这是透湿度低的树脂膜通常比乙酸纤维素类树脂膜疏水性强、因透湿度低而使得溶剂即水不能充分干燥等原因导致的。
[0006]因此，日本特开2000-321432号公报提出了利用聚氨酯类粘结剂将上述由聚乙烯醇类树脂形成的偏光片与热塑性饱和降冰片烯类树脂膜粘结。然而，聚氨酯类粘结剂不但硬化需要时间，而且粘结力也谈不上一定够用。
[0007]另外，作为在聚乙烯醇类树脂形成的偏光片与透湿度低的树脂膜之间赋予较高粘结力、并且在如乙酸纤维素类树脂那种透湿度高的树脂膜与上述偏光片之间也赋予高粘结力的粘结剂，试着使用过光固化粘结剂。例如，日本特开2004-245925号公报公开了一种以不含有芳香环的环氧化合物为主要成分的粘结剂，提出了一种使该粘结剂在通过照射活性能量线(具体为紫外线)而发生的阳离子催化聚合作用下固化，将偏光片与保护膜粘结的方案。
[0008]但是，利用光固化粘结剂制造的偏光膜有时会出现偏光片与保护膜在粘结后彼此脱离，导致偏光膜不能投入使用的情况。
实用新型内容
[0009]本实用新型是鉴于上述问题而做出的，其目的在于提供一种能够容易地确认是否确保了偏光片与保护膜的光固化粘结质量的偏光膜制造系统。
[0010]本实用新型的发明人在对利用光固化粘结剂贴合偏光片与保护膜从而形成偏光膜的方法进行了深入的研究和分析后发现，光固化粘结剂对温度十分敏感，若进行光固化处理时的温度脱离规定范围(由光固化粘结剂的种类决定)，偏光膜的偏光片和保护膜在光固化粘结后很容易彼此脱离。
[0011]有鉴于此，本实用新型的发明人提出了如下所述的、在偏光膜的制造过程中对偏光片、保护膜、二者组成的偏光膜的表面温度进行监视的方案，以此来确认是否确保了偏光片与保护膜的光固化粘结质量。
[0012]具体而言，本实用新型的一方面提供了一种偏光膜制造系统，包括:层叠体供给装置，其供给由偏光片和基材膜层叠而成的层叠体；保护膜供给装置，其供给保护膜；粘结剂涂敷装置，其向来自所述层叠体供给装置的层叠体的偏光片侧和/或来自所述保护膜供给装置的保护膜上涂覆光固化粘结剂；贴合处理装置，其利用所述光固化粘结剂将来自所述层叠体供给装置的层叠体的偏光片侧与来自所述保护膜供给装置的保护膜贴合，形成偏光膜；光固化照射装置，其对来自所述贴合处理装置的偏光膜实施光固化处理，使所述光固化粘结剂固化；偏光膜卷取装置，其卷取来自所述光固化照射装置的偏光膜；并且，该偏光膜制造系统还包括:固化前温度测定装置，其设置在所述贴合处理装置的下游侧且所述光固化照射装置的上游侧，测定从所述贴合处理装置向所述光固化照射装置输送的偏光膜的表面温度。
[0013]根据本实用新型，在偏光膜制造过程中，能够利用设置在贴合处理装置的下游侧且光固化照射装置的上游侧的固化前温度测定装置，测定从贴合处理装置向光固化照射装置输送的偏光膜的表面温度。即，能够在偏光膜制造过程中监视偏光膜的表面温度是否脱离了规定范围。因此，能够容易地确认是否确保了偏光片与保护膜的光固化粘结质量。
[0014]另外，优选地，偏光膜制造系统还包括:贴合前温度测定装置，其设置在所述贴合处理装置的上游侧，测定来自所述层叠体供给装置的层叠体的偏光片侧和/或来自所述保护膜供给装置的保护膜的表面温度。
[0015]另外，优选地，所述贴合前温度测定装置设置在所述粘结剂涂敷装置的下游侧。
[0016]另外，优选地，偏光膜制造系统还包括:涂膜厚度测定装置，其设置在所述粘结剂涂敷装置的下游侧且所述贴合处理装置的上游侧，测定涂覆在所述层叠体的偏光片侧和/或所述保护膜上的光固化粘结剂的厚度。
[0017]另外，优选地，偏光膜制造系统还包括:固化后温度测定装置，其设置在所述光固化照射装置的下游侧且所述偏光膜卷取装置的上游侧，测定从所述光固化照射装置向所述偏光膜卷取装置输送的偏光膜的表面温度。
[0018]另外，优选地，所述层叠体供给装置具有供给所述层叠体的层叠体供给部以及对来自该层叠体供给部的层叠体的偏光片侧实施表面改质处理的层叠体改质处理部。
[0019]另外，优选地，所述保护膜供给装置具有供给保护膜的保护膜供给部以及对来自该保护膜供给部的保护膜实施表面改质处理的保护膜改质处理部。
[0020]本实用新型的另一方面提供了一种偏光膜制造系统，包括:偏光片供给装置，其供给偏光片；保护膜供给装置，其供给保护膜；粘结剂涂敷装置，其向来自所述偏光片供给装置的偏光片和/或来自所述保护膜供给装置的保护膜上涂覆光固化粘结剂；贴合处理装置，其利用所述光固化粘结剂将来自所述偏光片供给装置的偏光片与来自所述保护膜供给装置的保护膜贴合，形成偏光膜；光固化照射装置，其对来自所述贴合处理装置的偏光膜实施光固化处理，使所述光固化粘结剂固化；偏光膜卷取装置，其卷取来自所述光固化照射装置的偏光膜；该偏光膜制造系统还包括:固化前温度测定装置，其设置在所述贴合处理装置的下游侧且所述光固化照射装置的上游侧，测定从所述贴合处理装置向所述光固化照射装置输送的偏光膜的表面温度。
[0021]根据本实用新型，在偏光膜制造过程中，能够利用设置在贴合处理装置的下游侧且光固化照射装置的上游侧的固化前温度测定装置，测定从贴合处理装置向光固化照射装置输送的偏光膜的表面温度。即，能够在偏光膜制造过程中监视偏光膜的表面温度是否脱离了规定范围。因此，能够容易地确认是否确保了偏光片与保护膜的光固化粘结质量。
[0022]另外，优选地，偏光膜制造系统还包括:贴合前温度测定装置，其设置在所述贴合处理装置的上游侧，测定来自所述偏光片供给装置的偏光片和/或来自所述保护膜供给装置的保护膜的表面温度。
[0023]另外，优选地，所述贴合前温度测定装置设置在所述粘结剂涂敷装置的下游侧。
[0024]另外，优选地，偏光膜制造系统还包括:涂膜厚度测定装置，其位于所述粘结剂涂敷装置的下游侧且所述贴合处理装置的上游侧，测定涂覆在所述偏光片和/或所述保护膜上的光固化粘结剂的厚度。
[0025]另外，优选地，偏光膜制造系统还包括:固化后温度测定装置，其设置在所述光固化照射装置的下游侧且所述偏光膜卷取装置的上游侧，测定从所述光固化照射装置向所述偏光膜卷取装置输送的偏光膜的表面温度。
[0026]另外，优选地，所述偏光片供给装置具有层叠体供给部和基材膜剥离部，所述层叠体供给部供给由偏光片和基材膜层叠而成的层叠体，所述基材膜剥离部设置在所述层叠体供给部的下游侧，将来自该层叠体供给部的层叠体中的基材膜剥去，形成偏光片。
[0027]另外，优选地，所述偏光片供给装置还具有偏光片改质处理部，该偏光片改质处理部设置在所述基材膜剥离部的下游侧，对来自该基材膜剥离部的偏光片实施表面改质处理。
[0028]另外，优选地，所述保护膜供给装置具有供给保护膜的保护膜供给部以及对来自该保护膜供给部的保护膜实施表面改质处理的保护膜改质处理部。
【专利附图】
【附图说明】
[0029]图1是表示本实用新型的实施例1的偏光膜制造系统的示意图。
[0030]图2是表示本实用新型的实施例2的偏光膜制造系统的示意图。
[0031]图3是表示本实用新型的实施例3的偏光膜制造系统中的偏光片供给装置的示意图。
[0032]附图标记说明
[0033]1层叠体供给装置偏光片供给装置；2层叠体侧粘结剂涂敷装置(粘结剂涂敷装置)；2’偏光片侧粘结剂涂敷装置(粘结剂涂敷装置)；3保护膜供给装置；4保护膜侧粘结剂涂敷装置(粘结剂涂敷装置);5贴合处理装置；6光固化照射装置；7偏光膜卷取装置；11、11’层叠体供给部；12层叠体改质处理部；12’偏光片改质处理部；13’基材膜剥离部；11”原料膜供给部；12”膨润处理部；13”染色处理部；14”交联处理部；15”拉伸处理部；16”调整处理部；17”干燥处理部；31保护膜供给部；32保护膜改质处理部；131”剥离辊；132”引导辊；133”卷取辊；B基材膜；F保护膜；M原料膜；P偏光片；PB层叠体；PF偏光膜；C1、C2涂膜厚度测定装置；D1、D2贴合前温度测定装置；S固化前温度测定装置；T固化后温度测定装置。
【具体实施方式】
[0034]以下，将参照附图对本实用新型的【具体实施方式】进行说明。
[0035]<实施例1>
[0036]图1是表示本实用新型的实施例1的偏光膜制造系统的示意图。
[0037]如图1所示，本实施例1中的偏光膜制造系统主要包括层叠体供给装置1、层叠体侧粘结剂涂敷装置2、保护膜供给装置3、保护膜侧粘结剂涂敷装置4、贴合处理装置5、光固化照射装置6和偏光膜卷取装置7。
[0038]层叠体供给装置1具有层叠体供给部11和层叠体改质处理部12。
[0039]层叠体供给部11安装有由偏光片Ρ和基材膜Β层叠成的层叠体ΡΒ的卷筒(参照图1中的层叠体ΡΒ的放大图)。在偏光膜的制造过程中，该层叠体供给部11向下游侧的层叠体改质处理部12供给层叠体ΡΒ。
[0040]层叠体改质处理部12设置在层叠体供给部11的下游侧，对来自该层叠体供给部11的层叠体ΡΒ的偏光片Ρ侧实施表面改质处理。
[0041]层叠体侧粘结剂涂敷装置2设置在层叠体供给装置1的下游侧(具体为层叠体改质处理部12的下游侧)且贴合处理装置5的上游侧。该层叠体侧粘结剂涂敷装置2用于在从层叠体供给装置1 (具体为层叠体改质处理部12)向贴合处理装置5输送的层叠体ΡΒ的偏光片Ρ侧涂覆光固化粘结剂。
[0042]在本实施例1中，在层叠体侧粘结剂涂敷装置2的下游侧、贴合处理装置5的上游侦牝可以设置测定涂覆在层叠体ΡΒ的偏光片Ρ侧的光固化粘结剂的厚度的涂膜厚度测定装置C1。利用涂膜厚度测定装置C1，可以监视涂覆在层叠体ΡΒ的偏光片Ρ侧的光固化粘结剂的厚度是否在规定范围内。
[0043]由此，能够避免光固化粘结剂的涂覆厚度脱离规定范围所导致的层叠体ΡΒ与保护膜F在粘结后彼此之间的脱离。
[0044]另外，在本实施例1中，在层叠体侧粘结剂涂敷装置2的下游侧、贴合处理装置5的上游侧，可以设置贴合前温度测定装置D1，该贴合前温度测定装置D1用于测定涂覆了光固化粘结剂后的层叠体ΡΒ的表面温度。利用贴合前温度测定装置D1，可以监视层叠体ΡΒ在贴合前的表面温度。
[0045]由此，能够避免层叠体ΡΒ的表面温度脱离规定范围所导致的层叠体ΡΒ与保护膜F在粘结后彼此之间的脱离。
[0046]此外，涂膜厚度测定装置C1与贴合前温度测定装置D1之间的位置关系可以根据需要任意设定，既可以如图1所示，将涂膜厚度测定装置C1设置在贴合前温度测定装置D1的上游侧，也可以反过来，将涂膜厚度测定装置C1设置在贴合前温度测定装置D1的下游侦牝也可以采用其他方式。
[0047]作为涂膜厚度测定装置C1，可以使用能够检测所涂覆的光固化粘结剂的厚度的各种检测装置，只要能够实现其厚度检测功能即可。在本实施例1中，优选使用传感器(如膜厚计等，作为膜厚计，可列举出株式会社胜铁克生产的型号为0L241或0L200的膜厚计)作为涂膜厚度测定装置C1。
[0048]另外，作为贴合前温度测定装置D1，可以使用能够检测层叠体PB的表面温度的各种检测装置，只要能够实现其表面温度检测功能即可。在本实施例1中，优选使用温度传感器(如辐射温度传感器等，作为辐射温度传感器，可以列举出基恩士有限公司生产的型号为FT-50A或FT-H20的辐射温度传感器等)作为贴合前温度测定装置D1。
[0049]保护膜供给装置3具有保护膜供给部31和保护膜改质处理部32。
[0050]保护膜供给部31安装有保护膜F的卷筒。在偏光膜的制造过程中，该保护膜供给部31在驱动辊的驱动作用下转动，连续地向保护膜改质处理部32送出保护膜F。另外，作为保护膜F的材料，可以列举出例如(甲基)丙烯酸类树脂、纤维素类树脂如二乙酰纤维素或三乙酰纤维素、环烯烃类树脂、烯烃类树脂如聚丙烯、酯类树脂如聚对苯二甲酸乙二醇酯类树脂、聚酰胺类树脂、聚碳酸酯类树脂或其共聚物树脂等。
[0051]保护膜改质处理部32设置在保护膜供给部31的下游侧，对从来自该保护膜供给部31的保护膜F的将要与上述层叠体PB的偏光片P侧贴合的表面实施表面改质处理，提高该表面的亲水性。
[0052]保护膜侧粘结剂涂敷装置4设置在保护膜供给装置3的下游侧(具体为保护膜改质处理部32的下游侧)且贴合处理装置5的上游侧。该保护膜侧粘结剂涂敷装置4用于在从保护膜供给装置3 (具体为保护膜改质处理部32)向贴合处理装置5输送的保护膜F的表面上涂覆光固化粘结剂。
[0053]在本实施例1中，在保护膜侧粘结剂涂敷装置4的下游侧、贴合处理装置5的上游侧，可以设置测定涂覆在保护膜F的表面上的光固化粘结剂的厚度的涂膜厚度测定装置C2。利用涂膜厚度测定装置C2，可以监视涂覆在保护膜F的表面上的光固化粘结剂的厚度是否在规定范围内。
[0054]由此，能够避免光固化粘结剂的涂覆厚度脱离规定范围所导致的层叠体PB与保护膜F在粘结后彼此之间的脱离。
[0055]另外，在本实施例1中，在保护膜侧粘结剂涂敷装置4的下游侧、贴合处理装置5的上游侧，可以设置贴合前温度测定装置D2，该贴合前温度测定装置D2用于测定涂覆了光固化粘结剂后的保护膜F的表面温度。利用贴合前温度测定装置D2，可以监视保护膜F在贴合前的表面温度。
[0056]由此，能够避免保护膜F的表面温度脱离规定范围所导致的层叠体PB与保护膜F在粘结后彼此之间的脱离。
[0057]此外，涂膜厚度测定装置C2与贴合前温度测定装置D2之间的位置关系可以根据需要任意设定，既可以如图1所示，将涂膜厚度测定装置C2设置在贴合前温度测定装置D2的上游侧，也可以反过来，将涂膜厚度测定装置C2设置在贴合前温度测定装置D2的下游侦牝也可以采用其他方式。
[0058]作为涂膜厚度测定装置C2，可以使用能够检测所涂覆的光固化粘结剂的厚度的各种检测装置，只要能够实现其厚度检测功能即可。在本实施例1中，优选使用传感器(如膜厚计等，作为膜厚计，可列举出株式会社胜铁克生产的型号为0L241、0L200的膜厚计)作为涂膜厚度测定装置C2。
[0059]另外，作为贴合前温度测定装置D2，可以使用能够检测保护膜F的表面温度的各种检测装置，只要能够实现其表面温度检测功能即可。在本实施例1中，优选使用温度传感器(如辐射温度传感器等，作为辐射温度传感器，可以列举出基恩士有限公司生产的型号为FT-50A、FT-H20的辐射温度传感器)作为贴合前温度测定装置D2。
[0060]贴合处理装置5设置在层叠体侧粘结剂涂敷装置2及保护膜侧粘结剂涂敷装置4的下游侧，如图1所示，其使用彼此间隔设置而形成辊隙的贴合辊对，利用层叠体侧粘结剂涂敷装置2及保护膜侧粘结剂涂敷装置4涂覆的光固化粘结剂，将从层叠体侧粘结剂涂敷装置2侧输入的层叠体PB与从保护膜侧粘结剂涂敷装置4侧输入的保护膜F贴合，形成偏光膜PF。
[0061]光固化照射装置6设置在贴合处理装置5的下游侧，对来自贴合处理装置5的偏光膜PF实施光固化处理，使光固化粘结剂固化。
[0062]偏光膜卷取装置7设置在光固化照射装置6的下游侧，由未图示的电机驱动，用于将经过光固化照射装置7处理后的偏光膜PF卷绕起来。
[0063]在本实施例1中，在贴合处理装置5的下游侧、光固化照射装置6的上游侧，可以设置固化前温度测定装置S，利用该固化前温度测定装置S，测定从贴合处理装置5向光固化照射装置6输送的偏光膜PF的表面温度。
[0064]另外，在光固化照射装置6的下游侧、偏光膜卷取装置7的上游侧，可以设置固化后温度测定装置T，利用该固化后温度测定装置T，测定从光固化照射装置6向偏光膜卷取装置7输送的偏光膜PF的表面温度。
[0065]由此，能够在偏光膜制造过程中监视偏光膜的表面温度是否脱离了规定范围。因此，能够容易地确认是否确保了偏光片与保护膜的光固化粘结质量。
[0066]作为固化前温度测定装置S、固化后温度测定装置T，可以使用能够检测偏光膜PF表面温度的各种检测装置，只要能够实现其表面温度检测功能即可。在本实施例1中，优选使用温度传感器(如辐射温度传感器等，作为辐射温度传感器，可列举出基恩士有限公司生产的型号为FT-50A、FT-H20的辐射温度传感器)作为固化前温度测定装置S、固化后温度测定装置T。
[0067]<实施例2>
[0068]本实施例2与实施例1大部分是相同的，因此为了避免重复说明，以下将仅对实施例2不同于实施例1之处进行说明。
[0069]图2是表示本实用新型的实施例2的偏光膜制造系统的示意图。
[0070]如图2所示，与实施例1中的向贴合处理装置5输送保护膜F以及由偏光片P和基材膜B层叠而成的层叠体PB，利用贴合处理装置5将保护膜F与层叠体PB贴合在一起，从而形成偏光膜PF不同的是，本实施例2向贴合处理装置5输送的是保护膜F和偏光片P，利用贴合处理装置5将保护膜F与偏光片P贴合在一起，从而形成偏光膜PF。
[0071]具体而言，本实施例2利用偏光片供给装置1’取代了实施例1中的层叠体供给装置1，利用偏光片侧粘结剂涂敷装置2’取代了实施例1中的层叠体侧粘结剂涂敷装置2，涂膜厚度测定装置C1、贴合前温度测定装置D1分别检测光固化粘结剂在偏光片P上的涂覆厚度、偏光片P的表面温度。
[0072]如图2所示，偏光片供给装置1’具有层叠体供给部11’、基材膜剥离部13’和偏光片改质处理部12’。
[0073]层叠体供给部11’安装有由偏光片Ρ和基材膜Β层叠成的层叠体ΡΒ的卷筒(参照图2中的层叠体ΡΒ的放大图)。在偏光膜的制造过程中，该层叠体供给部11’向下游侧的基材膜剥离部13’供给层叠体ΡΒ。
[0074]基材膜剥离部13’设置在层叠体供给部11’的下游侧，将来自该层叠体供给部11’的层叠体ΡΒ中的基材膜Β剥去，形成偏光片Ρ。
[0075]基材膜剥离部13’可以为本领域的各种公知的基材膜剥离部，只要能够实现基材膜剥离功能即可。作为一种具体形态，如图2所示，基材膜剥离部13’具有剥离辊131’、弓丨导辊132’和卷取辊133’。层叠体ΡΒ的基材膜Β缠绕在剥离辊131’上，在该剥离辊131’处与偏光片Ρ分开，经过两引导辊132’之间的辊隙后缠绕在卷取辊133’上。在偏光膜制造过程中，卷取辊133’在未图示的电机的驱动下向图示方向旋转，从层叠体ΡΒ上剥下基材膜Β。剩下的偏光片Ρ则被送出到下游侧的偏光片改质处理部12’。
[0076]偏光片改质处理部12’设置在基材膜剥离部13’的下游侧，对来自该基材膜剥离部13’的偏光片Ρ的将与保护膜F贴合的表面实施改质处理。
[0077]偏光片侧粘结剂涂敷装置2’设置在偏光片供给装置1’的下游侧(具体为偏光片改质处理部12’的下游侧)且贴合处理装置5的上游侧。该偏光片侧粘结剂涂敷装置2’用于在从偏光片供给装置1’ (具体为偏光片改质处理部12’)向贴合处理装置5输送的偏光片Ρ涂覆光固化粘结剂。
[0078]贴合处理装置5设置在偏光片侧粘结剂涂敷装置2’及保护膜侧粘结剂涂敷装置4的下游侧，如图2所示，其使用彼此间隔设置而形成辊隙的贴合辊对，利用偏光片侧粘结剂涂敷装置2’及保护膜侧粘结剂涂敷装置4涂覆的光固化粘结剂，将从偏光片侧粘结剂涂敷装置2’侧输入的偏光片Ρ与从保护膜侧粘结剂涂敷装置4侧输入的保护膜F贴合，形成偏光膜PF。
[0079]另外，在偏光片侧粘结剂涂敷装置2’的下游侧、贴合处理装置5的上游侧，可以设置测定光固化粘结剂在偏光片Ρ上的涂覆厚度的涂膜厚度测定装置C1。由此，能够避免光固化粘结剂的涂覆厚度脱离规定范围所导致的偏光片Ρ与保护膜F在粘结后彼此之间的脱离。
[0080]并且，在偏光片侧粘结剂涂敷装置2’的下游侧、贴合处理装置5的上游侧，可以设置用于测定涂覆了光固化粘结剂后的偏光片Ρ的表面温度的贴合前温度测定装置D1。由此，能够避免偏光片Ρ的表面温度脱离规定范围所导致的偏光片Ρ与保护膜F在粘结后彼此之间的脱离。
[0081 ] 本实施例2的其他部分与实施例1相同。
[0082]根据本实施例2，能够起到与实施例1大致相同的技术效果。
[0083]<实施例3>
[0084]本实施例3与实施例2仅在偏光片供给装置的结构方面不同，因此为了避免重复说明，以下将仅对实施例3的偏光片供给装置1”进行说明。
[0085]图3是表示本实用新型的实施例3的偏光膜制造系统中的偏光片供给装置1”的示意图。
[0086]如图3所示，本实施例3中的偏光片供给装置1”具有原料膜供给部11”、膨润处理部12”、染色处理部13”、交联处理部14”、拉伸处理部15”、调整处理部16”和干燥处理部17”。
[0087]原料膜供给部11”安装有例如聚乙烯醇膜(PVA膜)等原料膜Μ的卷筒。在偏光膜的制造过程中，该原料膜供给部11”在驱动辊的驱动作用下转动，连续地向下游侧的膨润处理部12”送出原料膜Μ。
[0088]膨润处理部12”设置在原料膜供给部11”的下游侧，对经过内部的原料膜Μ实施膨润处理，除去原料膜Μ表面的异物和原料膜Μ中的增塑剂，以便在后续的处理工序中容易进行染色处理，提高薄膜的可塑性。
[0089]染色处理部13”设置在膨润处理部12”的下游侧，利用含有二向色性色素的染色浴，对经过内部的原料膜Μ实施染色处理。
[0090]交联处理部14”设置在染色处理部13”的下游侧，在其内部具有硼酸水溶液。来自染色处理部13”的被处理过的原料膜Μ在经过交联处理部14”中的硼酸水溶液时，被实施交联处理。
[0091]拉伸处理部15”设置在交联处理部14”的下游侧，拉伸处理部15”具有浸入拉伸处理浴中的多个处理辊，通过使原料膜Μ在周向速度不同的处理辊之间经过，对该原料膜Μ进行湿式的拉伸处理。通过该拉伸处理，能够使原料膜Μ以规定的延伸倍率延伸至规定尺寸。
[0092]调整处理部16”设置在拉伸处理部15”的下游侧，在其内部具有碘化物溶液(如碘化钾溶液)。来自拉伸处理部15”的被处理过的原料膜Μ在经过调整处理部16”中的碘化物溶液时，被实施调整处理。
[0093]干燥处理部17”设置在调整处理部16”的下游侧，经过调整处理部16”的调整处理后的原料膜Μ被送进干燥处理部17”的内部，在干燥处理部17”内被实施干燥处理，干燥至规定状态。
[0094]来自原料膜供给部11”的原料膜Μ在经过膨润处理部12”、染色处理部13”、交联处理部14”、拉伸处理部15”、调整处理部16”和干燥处理部17”的处理后，形成为偏光片Ρ，被送向下游侧的偏光片侧粘结剂涂敷装置2’。
[0095]本实施例3的其他部分与实施例2相同。
[0096]根据本实施例3，能够起到与实施例2大致相同的技术效果。
[0097]以上为了便于理解而示例性地描述了本实用新型的实施例1?3，但本实用新型并不限于上述具体形态。在本实用新型的技术思想的范畴内能够做出各种改变，这些改变也同样包含在本实用新型的范围内。
【权利要求】
1.一种偏光I吴制造系统，其特征在于，包括: 层叠体供给装置，其供给由偏光片和基材膜层叠而成的层叠体； 保护膜供给装置，其供给保护膜； 粘结剂涂敷装置，其向来自所述层叠体供给装置的层叠体的偏光片侧和/或来自所述保护膜供给装置的保护膜涂覆光固化粘结剂； 贴合处理装置，其利用所述光固化粘结剂将来自所述层叠体供给装置的层叠体的偏光片侧与来自所述保护膜供给装置的保护膜贴合，形成偏光膜； 光固化照射装置，其对来自所述贴合处理装置的偏光膜实施光固化处理，使所述光固化粘结剂固化； 偏光膜卷取装置，其卷取来自所述光固化照射装置的偏光膜； 该偏光膜制造系统还包括:固化前温度测定装置，其设置在所述贴合处理装置的下游侧且所述光固化照射装置的上游侧，测定从所述贴合处理装置向所述光固化照射装置输送的偏光膜的表面温度。
2.如权利要求1所述的偏光膜制造系统，其特征在于，还包括:贴合前温度测定装置，其设置在所述贴合处理装置的上游侧，测定来自所述层叠体供给装置的层叠体的偏光片侧和/或来自所述保护膜供给装置的保护膜的表面温度。
3.如权利要求2所述的偏光膜制造系统，其特征在于，所述贴合前温度测定装置设置在所述粘结剂涂敷装置的下游侧。
4.如权利要求2所述的偏光膜制造系统，其特征在于，还包括:涂膜厚度测定装置，其设置在所述粘结剂涂敷装置的下游侧且所述贴合处理装置的上游侧，测定涂覆在所述层叠体的偏光片侧和/或所述保护膜上的光固化粘结剂的厚度。
5.如权利要求1?4中任一项所述的偏光膜制造系统，其特征在于，还包括:固化后温度测定装置，其设置在所述光固化照射装置的下游侧且所述偏光膜卷取装置的上游侧，测定从所述光固化照射装置向所述偏光膜卷取装置输送的偏光膜的表面温度。
6.如权利要求1所述的偏光膜制造系统，其特征在于，所述层叠体供给装置具有供给所述层叠体的层叠体供给部以及对来自该层叠体供给部的层叠体的偏光片侧实施表面改质处理的层叠体改质处理部。
7.如权利要求1所述的偏光膜制造系统，其特征在于，所述保护膜供给装置具有供给保护膜的保护膜供给部以及对来自该保护膜供给部的保护膜实施表面改质处理的保护膜改质处理部。
8.—种偏光I吴制造系统，其特征在于，包括: 偏光片供给装置，其供给偏光片； 保护膜供给装置，其供给保护膜； 粘结剂涂敷装置，其向来自所述偏光片供给装置的偏光片和/或来自所述保护膜供给装置的保护膜涂覆光固化粘结剂； 贴合处理装置，其利用所述光固化粘结剂将来自所述偏光片供给装置的偏光片与来自所述保护膜供给装置的保护膜贴合，形成偏光膜； 光固化照射装置，其对来自所述贴合处理装置的偏光膜实施光固化处理，使所述光固化粘结剂固化； 偏光膜卷取装置，其卷取来自所述光固化照射装置的偏光膜； 该偏光膜制造系统还包括:固化前温度测定装置，其设置在所述贴合处理装置的下游侧且所述光固化照射装置的上游侧，测定从所述贴合处理装置向所述光固化照射装置输送的偏光膜的表面温度。
9.如权利要求8所述的偏光膜制造系统，其特征在于，还包括:贴合前温度测定装置，其设置在所述贴合处理装置的上游侧，测定来自所述偏光片供给装置的偏光片和/或来自所述保护膜供给装置的保护膜的表面温度。
10.如权利要求9所述的偏光膜制造系统，其特征在于，所述贴合前温度测定装置设置在所述粘结剂涂敷装置的下游侧。
11.如权利要求9所述的偏光膜制造系统，其特征在于，还包括:涂膜厚度测定装置，其位于所述粘结剂涂敷装置的下游侧且所述贴合处理装置的上游侧，测定涂覆在所述偏光片和/或所述保护膜上的光固化粘结剂的厚度。
12.如权利要求8?11中任一项所述的偏光膜制造系统，其特征在于，还包括:固化后温度测定装置，其设置在所述光固化照射装置的下游侧且所述偏光膜卷取装置的上游侧，测定从所述光固化照射装置向所述偏光膜卷取装置输送的偏光膜的表面温度。
13.如权利要求8所述的偏光膜制造系统，其特征在于，所述偏光片供给装置具有层叠体供给部和基材膜剥离部，所述层叠体供给部供给由偏光片和基材膜层叠而成的层叠体，所述基材膜剥离部设置在所述层叠体供给部的下游侧，将来自该层叠体供给部的层叠体中的基材膜剥去，形成偏光片。
14.如权利要求13所述的偏光膜制造系统，其特征在于，所述偏光片供给装置还具有偏光片改质处理部，该偏光片改质处理部设置在所述基材膜剥离部的下游侧，对来自该基材膜剥离部的偏光片实施表面改质处理。
15.如权利要求8所述的偏光膜制造系统，其特征在于，所述保护膜供给装置具有供给保护膜的保护膜供给部以及对来自该保护膜供给部的保护膜实施表面改质处理的保护膜改质处理部。
【文档编号】B32B38/10GK204142990SQ201420568529
【公开日】2015年2月4日 申请日期:2014年9月29日 优先权日:2014年9月29日
【发明者】铃木秀仁, 祝部学, 原宽高 申请人:日东电工株式会社