1.一种抗氧化烫印箔，其特征在于：在基材薄膜（1）之上，依次均匀涂覆有离型层（2）、色层（3）、真空镀铝层（4）、抗氧化层（5）和粘结层（6），抗氧化层（5）介于真空镀铝层（4）和粘结层（6）之间。
2.根据权利要求１所述的抗氧化烫印箔，其特征在于：所述基材薄膜（1）厚度在8～20μm之间。
3.根据权利要求2所述的抗氧化烫印箔，其特征在于：所述基材薄膜（1）厚度为12～15μm。
4.根据权利要求１所述的抗氧化烫印箔，其特征在于：所述离型层（2）厚度在0.1～0.8μm之间，涂布干量在0.05±0.004 g/m2。
5.根据权利要求4所述的抗氧化烫印箔，其特征在于：所述离型层（2）厚度为0.5±0.02μm、涂布干量0.05±0.002 g/m2。
6.根据权利要求１所述的抗氧化烫印箔，其特征在于：所述色层（3）厚度在0.2～1.0μm之间，涂布干量在0.8～1.5 g/m2之间。
7.根据权利要求6所述的抗氧化烫印箔，其特征在于：所述色层（3）厚度为0.5～0.8μm，涂布干量在1.0±0.02 g/m2。
8.根据权利要求１所述的抗氧化烫印箔，其特征在于：所述真空镀铝层（4）厚度在5～15μm之间。
9.根据权利要求8所述的抗氧化烫印箔，其特征在于：所述真空镀铝层（4）厚度在12±1μm之间。
10.根据权利要求１所述的抗氧化烫印箔，其特征在于：所述抗氧化层（5）为聚4,4-硫代双-( 5-甲基-2-叔丁基苯酚)、TDI-PB-SBHPP、PBHA、PTBHQ或PHBA ，所述抗氧化层（5）涂层厚度在2～10μm之间。
11.根据权利要求10所述的抗氧化烫印箔，其特征在于：所述抗氧化层（5）为8±0.5μm的TDI-PB-SBHPP。
12. 根据权利要求１所述的抗氧化烫印箔，其特征在于：所述粘结层（6）由热塑性树脂与二氧化硅粉末构成，涂布干量在1.3±0.5 g/m2之间。
13. 根据权利要求12所述的抗氧化烫印箔，其特征在于：所述粘结层（6）由热塑性树脂与二氧化硅粉末构成，涂布干量在1.3±0.2 g/m2之间。