1.一种荧光电化铝烫金箔，包括基材薄膜，其特征在于：在基材薄膜（1）之上，依次均匀涂覆有离型层（2）、色层（3）、荧光层（4）、真空镀铝层（5）和粘结层（6），其中荧光层（4）介于色层（3）和真空镀铝层（5）之间。
2.根据权利要求1所述的荧光电化铝烫金箔，其特征在于：所述基材薄膜（1）厚度在6～22μm之间。
3.根据权利要求1所述的荧光电化铝烫金箔，其特征在于：所述离型层（2）涂层厚度在0.2～1.0μm之间。
4. 根据权利要求1所述的荧光电化铝烫金箔，其特征在于：所述色层（3）涂层干量在0.8～1.5 g/m2、涂层厚度在0.3～0.8μm之间。
5. 根据权利要求1所述的荧光电化铝烫金箔，其特征在于：所述荧光层（4）涂层干量在0.6～1.4 g/m2、涂层厚度在0.5～1.6μm之间。
6. 根据权利要求1所述的荧光电化铝烫金箔，其特征在于：所述粘结层（6）涂层干量在0.8～1.9 g/m2、涂层厚度在0.3～0.7μm之间。
7.根据权利要求2所述的荧光电化铝烫金箔，其特征在于：所述基材薄膜（1）厚度在12μm。
8.根据权利要求3所述的荧光电化铝烫金箔，其特征在于：所述离型层（2）涂层厚度在0.3μm之间。
9. 根据权利要求4所述的荧光电化铝烫金箔，其特征在于：所述色层（3）涂层干量1.0～1.25 g/m2、涂层厚度0.4μm。
10. 根据权利要求5所述的荧光电化铝烫金箔，其特征在于：所述荧光层（4）涂层干量0.7 g/m2、涂层厚度0.8μm；所述粘结层（6）涂层干量在1.0～1.2 g/m2、涂层厚度0.5μm。