一种新型防伪标识及其制备方法
【专利摘要】本发明提供了一种新型防伪标识，包括防伪标识基底和隐形防伪图案，隐形防伪图案由微纳材料与防伪标识基底构成区域差异形成，防伪标识基底表面包括隐形防伪图案区域和非图案区域，所述隐形防伪图案区域或非图案区域由微纳材料在防伪标识基底表面形成的薄膜层构成，微纳材料包括有机颗粒、无机颗粒、光刻胶、光敏树脂、金属、合金、陶瓷、聚合物、活性小分子、氧化物、硫化物、氮化物、碳化物或组成为III-V、II-IV或IV-VI族元素的二元或多元化合物。该新型防伪标识的隐形防伪图案在吹口气、或遇到水或水汽时即可显现，待水分挥发后又可隐形，可应用于医药、食品安全、金融等领域的防伪。本发明还提供了该新型防伪标识的制备方法。
【专利说明】一种新型防伪标识及其制备方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及防伪【技术领域】，具体涉及一种新型防伪标识及其制备方法。
【背景技术】
[0002]据《2013-2017年中国防伪行业市场前瞻与投资机会分析报告》统计，全世界受到假冒伪劣产品影响的市场达到了 3000亿美元，每年假冒伪劣产品的成交额已占世界贸易总额的10%。在我国，假冒伪劣产品规模是3000-4000亿人民币，特别是烟、酒、农贸、食品、化妆品等行业，已是假冒伪劣商品的重灾区。所以，防伪行业已成为21世纪的朝阳产业。
[0003]目前，我国防伪行业市场容量已达到了 8000亿元。中国有90%以上的药品、15%以上的食品、95%以上的烟酒产品都使用了防伪技术。前瞻产业研宄院防伪行业小组分析认为由于下游市场需求旺盛，中国防伪行业容量将会进一步增大。
[0004]最近，德国先进材料(Adv.Mater.2014，DO1:10.1002/adma.201401246)报道了一种呼口气就能够鉴别真伪的防伪技术，可以将微柱结构做到塑料片上，平时肉眼不可见，呼口气即可显示隐藏的文字或图案信息，这种隐形图案在防伪商标制作、指纹存储等多个领域具有潜在的应用前景，为未来新型防伪标识的开发与应用开辟了一条途径。然而，这些防伪技术的制备过程较为复杂繁琐，而且成本较高，限制了其应用。
【发明内容】
[0005]为解决上述问题，本发明旨在于提供一种新型防伪标识及其制备方法，其可制备得到隐形防伪图案，该隐形防伪图案在吹口气、或遇到水或水溶液时即可显现出来，待水分挥发后又可隐形，从而实现反复显现与隐形。
[0006]本发明第一方面提供了一种新型防伪标识，包括防伪标识基底和隐形防伪图案，所述隐形防伪图案由微纳材料与所述防伪标识基底构成区域差异形成，所述防伪标识基底表面包括隐形防伪图案区域和非图案区域，所述隐形防伪图案区域或所述非图案区域由微纳材料在所述防伪标识基底表面形成的薄膜层构成，所述微纳材料包括有机颗粒、无机颗粒、光刻胶、光敏树脂、金属、合金、陶瓷、聚合物、活性小分子、氧化物、硫化物、氮化物、碳化物或组成为II1-V、I1-1V或IV-VI族元素的二元或多元化合物，所述隐形防伪图案在吹口气、或遇到水或水汽时即可显现，待水分挥发后又可隐形。
[0007]所述隐形防伪图案的大小尺寸为微米或纳米级别。
[0008]优选地，所述有机颗粒包括聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚异丙基丙烯酸酯、聚丙烯酰胺和聚丙烯酸、或其改性颗粒中的一种或多种。所述有机颗粒可采用聚合法制备得到。所述有机颗粒的粒径范围为5纳米?50微米。
[0009]优选地，所述无机颗粒包括二氧化硅、二氧化钛、四氧化三铁、三氧化二铁、金和银、或其改性颗粒中的一种或多种。所述无机颗粒可采用溶胶凝胶法、氧化还原法或水热法制备得到。所述无机颗粒的粒径范围为5纳米?50微米。
[0010]优选地，所述光刻胶包括SU 8及AZ等系列光刻胶。例如可以是光敏聚酰亚胺光刻胶。所述隐形防伪图案由光刻胶、光敏树脂通过光刻后形成。
[0011]所述金属、合金、陶瓷、氧化物、硫化物、氮化物、碳化物或组成为II1-V、I1-1V或IV-VI族元素的二元或多元化合物可通过化学沉积或物理沉积的方式在所述防伪标识基底上形成薄膜层。所述聚合物、活性小分子可通过化学沉积、物理沉积、表面改性、表面接枝的方式或结合喷墨打印、3D打印、涂覆、压印的方法在所述防伪标识基底上形成薄膜层。所述金属可以是金，所述陶瓷可以是掺铝氧化锌，所述二元化合物可以是氟碳材料，所述聚合物可以是聚二甲基硅氧烷、parylene C(二氯聚对二甲苯)，所述活性小分子可以是氯硅烷、氟硅烷，所述氧化物可以是氧化钛、氧化锆，所述硫化物可以是硫化锌、所述氮化物可以是氮化硼、所述碳化物可以是氟化碳，但本发明对各种材料的选择不局限于此，可满足本发明要求，实现本发明的材料均可。
[0012]本发明隐形防伪图案由微纳材料与防伪标识基底构成区域差异形成，可以是将微纳材料在所述隐形防伪图案区域或在所述非图案区域制备形成的薄膜层构成。
[0013]优选地，所述隐形防伪图案由有机颗粒、无机颗粒、金属、合金、陶瓷、聚合物、活性小分子、氧化物、硫化物、氮化物、碳化物或组成为II1-V、I1-1V或IV-VI族元素的二元或多元化合物在隐形防伪图案区域形成的薄膜层构成。所述薄膜层的厚度为单分子层厚度或微米级别厚度。
[0014]优选地，所述防伪标识基底的材料包括塑料、橡胶、玻璃、硅片、陶瓷或金属。
[0015]优选地，所述隐形防伪图案采用喷墨打印、3D打印、涂覆、压印、光刻、物理沉积、化学沉积、表面改性和表面接枝法中的一种或多种方法结合制备在所述防伪标识基底上。
[0016]所述涂覆包括喷涂、刮涂、旋涂。所述物理沉积的方式包括真空蒸镀、溅射镀膜、电弧等离子体镀、离子镀膜、分子束外延等。所述化学沉积的方式包括电化学沉积、化学气相沉积等。
[0017]第二方面，本发明提供一种新型防伪标识的制备方法，包括以下步骤:
[0018]提供一防伪标识基底，将微纳材料采用喷墨打印、3D打印、涂覆、压印、光刻、物理沉积、化学沉积、表面改性和表面接枝法中的一种或多种方法结合，并根据预设防伪图案制备在所述防伪标识基底上，干燥后，形成隐形防伪图案，即得到新型防伪标识，所述新型防伪标识包括防伪标识基底和隐形防伪图案，所述隐形防伪图案由微纳材料与所述防伪标识基底构成区域差异形成，所述防伪标识基底表面包括隐形防伪图案区域和非图案区域，所述隐形防伪图案区域或所述非图案区域由微纳材料在所述防伪标识基底表面形成的薄膜层构成，所述隐形防伪图案在吹口气、或遇到水或水汽时即可显现，待水分挥发后又可隐形，所述微纳材料包括有机颗粒、无机颗粒、光刻胶、光敏树脂、金属、合金、陶瓷、聚合物、活性小分子、氧化物、硫化物、氮化物、碳化物或组成为II1-V、I1-1V或ιν-νι族元素的二元或多元化合物。
[0019]优选地，所述有机颗粒包括聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚异丙基丙烯酸酯、聚丙烯酰胺和聚丙烯酸、或其改性颗粒中的一种或多种。所述有机颗粒可采用聚合法制备得到。所述有机颗粒的粒径范围为5纳米?50微米。
[0020]优选地，所述无机颗粒包括二氧化硅、二氧化钛、四氧化三铁、三氧化二铁、金和银、或其改性颗粒中的一种或多种。所述无机颗粒可采用溶胶凝胶法、氧化还原法或水热法制备得到。所述无机颗粒的粒径范围为5纳米?50微米。
[0021]优选地，所述光刻胶包括SU 8及AZ等系列光刻胶。例如可以是光敏聚酰亚胺光刻胶。所述隐形防伪图案由光刻胶、光敏树脂通过光刻后形成。
[0022]优选地，所述隐形防伪图案由有机颗粒、无机颗粒、金属、合金、陶瓷、聚合物、活性小分子、氧化物、硫化物、氮化物、碳化物或组成为II1-V、I1-1V或IV-VI族元素的二元或多元化合物在隐形防伪图案区域形成的薄膜层构成。所述薄膜层的厚度为单分子层厚度或微米级别厚度。
[0023]优选地，所述隐形防伪图案的大小尺寸为微米或纳米级别。
[0024]优选地，所述防伪标识基底的材料包括塑料、橡胶、玻璃、硅片、陶瓷或金属。
[0025]优选地，所述化学沉积、表面改性、表面接枝法可结合喷墨打印、3D打印、涂覆、压印的方法。
[0026]所述涂覆包括喷涂、刮涂、旋涂。所述物理沉积的方式包括真空蒸镀、溅射镀膜、电弧等离子体镀、离子镀膜、分子束外延等。所述化学沉积的方式包括电化学沉积、化学气相沉积等。
[0027]具体地，本发明提供一种新型防伪标识的制备方法，包括以下步骤:
[0028]将有机颗粒或无机颗粒分散到溶剂中制备成混合液；
[0029]将所得混合液通过喷墨打印、3D打印、涂覆或压印的方式在所述隐形防伪图案区域制备出隐形防伪图案，得到新型防伪标识，所述隐形防伪图案区域由有机颗粒或无机颗粒在所述防伪标识基底表面形成的薄膜层构成。
[0030]优选地，喷墨打印前基底通过plasma表面处理3?600s。
[0031]优选地，所述混合液中有机颗粒或无机颗粒的质量浓度为0.0001%?99.99%。
[0032]所述溶剂为水或有机溶剂。
[0033]具体地，本发明提供一种新型防伪标识的制备方法，包括以下步骤:
[0034]将具有预设防伪图案的薄膜粘附在防伪标识基底上覆盖所述非图案区域；然后在所述隐形防伪图案区域通过物理沉积或化学沉积的方式沉积一层金属、合金、陶瓷、聚合物、活性小分子、氧化物、硫化物、氮化物、碳化物或组成为II1-V、I1-1V或IV-VI族元素的二元或多元化合物；最后剥离所述具有预设防伪图案的薄膜即得到新型防伪标识。所述隐形防伪图案区域由金属、合金、陶瓷、聚合物、活性小分子、氧化物、硫化物、氮化物、碳化物或组成为II1-V、I1-1V或IV-VI族元素的二元或多元化合物在所述防伪标识基底表面形成的薄膜层构成。
[0035]所述具有预设防伪图案的薄膜相当于掩膜板，所述隐形防伪图案区域为镂空设置，用于在物理沉积或化学沉积时保护非图案区域。优选地，具有预设防伪图案的薄膜采用PDMS膜。优选地，基底采用玻璃基底。
[0036]优选地，所述金属、合金、陶瓷、聚合物、活性小分子、氧化物、硫化物、氮化物、碳化物或组成为II1-V、I1-1V或IV-VI族元素的二元或多元化合物形成的薄膜层的厚度为0.01纳米?10微米。
[0037]优选地，所述物理沉积的方式包括真空蒸镀、溅射镀膜、电弧等离子体镀、离子镀膜、分子束外延等。所述化学沉积的方式包括电化学沉积、化学气相沉积等。
[0038]更具体地，本发明提供一种新型防伪标识的制备方法，包括以下步骤:
[0039]将具有预设防伪图案的薄膜粘附在防伪标识基底上覆盖所述非图案区域；然后在所述隐形防伪图案区域真空蒸镀上一层金；最后剥离所述具有预设防伪图案的薄膜即得到新型防伪标识，所述隐形防伪图案区域由微纳材料金形成的薄膜层构成。
[0040]优选地，真空蒸镀前plasma表面处理3?600s。
[0041]优选地，真空蒸镀时间为I?180s。
[0042]具体地，本发明提供一种新型防伪标识的制备方法，包括以下步骤:
[0043]将液态光刻胶或光敏树脂涂覆在防伪标识基底表面，得到光刻胶或光敏树脂层；
[0044]然后将具有预设防伪图案的模板与所述防伪标识基底对齐；
[0045]将所述模板压入所述光刻胶或光敏树脂层并经紫外照射固化，脱模后，即得到新型防伪标识。
[0046]优选地，所述防伪标识基底为硅片。
[0047]优选地，所述光刻胶为光敏聚酰亚胺光刻胶。
[0048]优选地，涂覆聚酰亚胺光刻胶前，对娃片进行plasma表面处理3?600s。
[0049]优选地，聚酰亚胺涂覆在硅片上的厚度为0.05?200 μ m。
[0050]优选地，紫外固化时间为0.5?120min。
[0051]具体地，本发明提供一种新型防伪标识的制备方法，包括以下步骤:
[0052]将聚合物溶于溶剂中，得到混合溶液；
[0053]根据预设防伪图案，将所述混合溶液通过喷墨打印的方式在所述隐形防伪图案区域打印制备出隐形防伪图案，然后加热固化所述聚合物；再在所述非图案区域进行Plasma处理或是熏蒸上一层活性小分子；再将上述固化后的聚合物剥离，即得到所述新型防伪标识。所述聚合物覆盖隐形防伪图案区域后，再利用聚合物保护该区域，未被覆盖的基底区域即非图案区域被plasma处理或是熏蒸上一层活性小分子得到改性，从而在聚合物薄膜被剥离后，形成区域差异，获得隐形防伪图案。
[0054]所述溶剂包括水或有机溶剂，有机溶剂例如可以是正己烷。
[0055]更具体地，本发明提供一种新型防伪标识的制备方法，包括以下步骤:
[0056]将正己烷和聚二甲基硅氧烷(PDMS)及交联剂均匀混合，得到混合溶液；
[0057]根据预设防伪图案，将所述混合溶液通过喷墨打印的方式在所述隐形防伪图案区域打印制备出隐形防伪图案，然后加热固化PDMS ;再在所述非图案区域进行plasma处理或是熏蒸上一层活性小分子；再将上述固化后的PDMS剥离，即得到新型防伪标识。
[0058]该方法通过喷墨打印结合表面改性或表面接枝制备得到新型防伪标识，PDMS是起到保护隐形防伪图案区域的作用，在后续的plasma或是熏蒸分子的时候，能够保证PDMS所覆盖地方不被Plasma或是活性小分子接枝上去，而后来剥离PDMS就可以使得微图案形成，该隐形防伪图案是通过化学改性的区域差异而形成的，即PDMS覆盖的区域基底即隐形防伪图案区域未被plasma或是活性小分子改性，而未覆盖区域即非图案区域则被改性。
[0059]优选地，所述正己烷和聚二甲基硅氧烷及交联剂的混合质量比为(10?100):(2?500): (0.1?I) ο所述交联剂包括Sylgard 184。
[0060]优选地，所述加热固化的温度为20?200°C。
[0061]优选地，PDMS剥离前通过plasma表面处理3?600s。
[0062]优选地，在所述加热固化操作后，进一步通过化学气相沉积法在所述非图案区域沉积氯硅烷，然后再剥离PDMS，得到新型防伪标识。
[0063]本发明提供的新型防伪标识，其隐形防伪图案在吹口气、或遇到水或水溶液时即可显现出来，待水分挥发后又可隐形，从而实现反复显现与隐形，隐形防伪图案的清晰度随湿度变化而变化，能够实现对湿度的快速、肉眼可见的响应，可用于医药、食品安全、金融等领域的防伪。本发明提供的新型防伪标识的制备方法，其制备过程简单，成本较低；吹口气即可让图案显现，快捷便利；水分挥发即可将图案隐形，可用于信息存储；本发明制备方式多样化，拓展了工艺流程；本发明利用微纳材料表面特性实现图案显现，方法难以复制。
【具体实施方式】
[0064]以下所述是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本【技术领域】的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也视为本发明的保护范围。
[0065]实施例1
[0066]一种新型防伪标识，包括塑料片和设置在塑料片表面的隐形防伪图案，所述塑料片表面包括隐形防伪图案区域和非图案区域，所述隐形防伪图案区域由微纳材料银颗粒形成的薄膜层构成，其制备方法，包括以下步骤:
[0067](I) plasma 表面处理
[0068]将塑料片利用plasma表面处理30s后用于后续的喷墨打印；
[0069](2)喷墨打印
[0070]将粒径为20纳米的银颗粒分散于水中，得到质量浓度为0.05%的银颗粒混合液，将所得银颗粒混合液加入到喷墨打印机中，在电脑中输入预设防伪图案，即可在经plasma表面处理的塑料片上打印出来，获得新型防伪标识。
[0071]实施例2
[0072]一种新型防伪标识，包括玻片和设置在玻片表面的隐形防伪图案，所述玻片表面包括隐形防伪图案区域和非图案区域，所述隐形防伪图案区域由微纳材料金颗粒形成的薄膜层构成，其制备方法，包括以下步骤:
[0073](I) plasma 表面处理
[0074]将玻片通过plasma表面处理25s后待用；
[0075](2)贴上图案膜
[0076]将具有预设防伪图案的PDMS膜平整贴到玻片表面，覆盖非图案区域；
[0077](3)真空蒸镀
[0078]将贴好PDMS膜的玻片放入真空蒸镀机中，在隐形防伪图案区域真空蒸镀上一层金纳米颗粒，蒸镀时间为5s，取出后，剥离所述PDMS膜即得到新型防伪标识。
[0079]实施例3
[0080]一种新型防伪标识，包括硅片和设置在硅片表面的隐形防伪图案，所述硅片表面包括隐形防伪图案区域和非图案区域，所述隐形防伪图案区域通过微纳材料聚酰亚胺光刻胶光刻后形成，其制备方法，包括以下步骤:
[0081]⑴旋涂
[0082]将液态光敏聚酰亚胺光刻胶旋涂到硅片表面，利用匀胶机匀胶分两步进行:首先以旋涂速度为500转/分旋涂30s，然后以1500转/分旋涂Imin ；
[0083](2)纳米压印
[0084]将带有微纳结构的压印模板与硅片对齐后压入光刻胶中，利用紫外固化(功率为100W) 1s后脱模，剥离聚酰亚胺膜即得到新型防伪标识。
[0085]实施例4
[0086]一种新型防伪标识，包括玻片和设置在玻片表面的隐形防伪图案，所述玻片表面包括隐形防伪图案区域和非图案区域，所述隐形防伪图案区域由微纳材料聚二甲基硅氧烷形成，其制备方法，包括以下步骤:
[0087](I)聚二甲基硅氧烷混合液的制备
[0088]在一个100毫升的混合杯中，分别加入20g的正己烷，20g的PDMS，2g的交联剂Sylgard 184，利用混匀机混合均匀，5分钟后取出，得到聚二甲基硅氧烷混合液；
[0089](2)喷墨打印
[0090]将聚二甲基硅氧烷混合液加入到喷墨打印机中，在电脑中输入预设防伪图案，即可在玻片上打印出来，待打印完后置于热台上于100°C下烘烤30min ;
[0091](3) plasma 表面处理
[0092]将烘烤后的PDMS冷却到室温，然后利用plasma表面处理lOmin，揭下PDMS即可获得新型防伪标识。
[0093]实施例5
[0094]一种新型防伪标识，包括玻片和设置在玻片表面的隐形防伪图案，所述玻片表面包括隐形防伪图案区域和非图案区域，所述非图案区域由玻片基底经plasma表面处理构成，其制备方法，包括以下步骤:
[0095](I)聚二甲基硅氧烷混合液的制备
[0096]在一个100毫升的混合杯中，分别加入20g的正己烷，40g的PDMS，Ig的交联剂Sylgard 184，利用混匀机混合均匀，5分钟后取出，得到聚二甲基硅氧烷混合液；
[0097](2)喷墨打印
[0098]将聚二甲基硅氧烷混合液加入到喷墨打印机中，在电脑中输入预设隐形防伪图案，即可在玻片隐形防伪图案区域内打印出来，待打印完后置于热台上于50°C下烘烤120min ；
[0099](3) plasma 表面处理
[0100]将烘烤后的PDMS冷却到室温，然后在玻片非图案区域利用plasma表面处理lOmin，揭下PDMS即可获得新型防伪标识。
[0101]实施例6
[0102]一种新型防伪标识，包括玻片和设置在玻片表面的隐形防伪图案，所述玻片表面包括隐形防伪图案区域和非图案区域，所述非图案区域由玻片基底经氯硅烷改性构成，其制备方法，包括以下步骤:
[0103](I)聚二甲基硅氧烷混合液的制备
[0104]在一个100毫升的混合杯中，分别加入20g的正己烷，40g的PDMS，2g的交联剂Sylgard 184，利用混匀机混合均匀，5分钟后取出，得到聚二甲基硅氧烷混合液。
[0105](2)喷墨打印
[0106]将聚二甲基硅氧烷混合液加入到喷墨打印机中，在电脑中输入预设隐形防伪图案，即可在玻片隐形防伪图案区域内打印出来，待打印完后置于热台上于50°C下烘烤120mino
[0107](3) plasma 表面处理
[0108]将烘烤后的PDMS冷却到室温，然后在玻片非图案区域利用plasma表面处理lOmin，并熏蒸单分子层氯硅烷，最后剥离PDMS，即可获得新型防伪标识。
[0109]实施例7
[0110]一种新型防伪标识，包括硅片和设置在硅片表面的隐形防伪图案，所述硅片表面包括隐形防伪图案区域和非图案区域，所述隐形防伪图案区域由微纳材料parylene C(二氯聚对二甲苯)形成的薄膜层构成，其制备方法，包括以下步骤:
[0111](I)升华
[0112]在一个蒸发腔内加入Parylene C 二聚体原料，升温至175°C升华。
[0113](2)裂解
[0114]将升华后的二聚体提起导入裂解腔，在680°C将二聚体的分子键断开，产生活性的Parylene单体；
[0115](3)聚合沉积
[0116]将Parylene单体送到室温的真空沉积室里，在粘附有具有预设防伪图案的PDMS多孔膜的硅片上进行聚合沉积，沉积厚度为I μ m，最后移除PDMS多孔膜即获得新型防伪标识。
[0117]实施例8
[0118]一种新型防伪标识，包括石英片和设置在石英片表面的隐形防伪图案，所述石英片表面包括隐形防伪图案区域和非图案区域，所述隐形防伪图案区域由微纳材料掺铝氧化锌形成的薄膜层构成，其制备方法，包括以下步骤:
[0119]以覆盖有镂空图案铝板的1mmX 1mm石英片为基底，利用射频磁控溅射法在隐形防伪图案区域制备出隐形防伪图案，靶材为三氧化铝的氧化锌多晶烧结靶，铝的掺杂质量分数为2 %，设置本底真空度为7.5 X 10_4Pa，沉积气压为2Pa，溅射功率为170W，氩气流量为20ml/min，溅射时间为60min，溅射完成后取出石英片即获得新型防伪标识。
[0120]实施例9
[0121]一种新型防伪标识，包括聚酰亚胺塑料片和设置在聚酰亚胺塑料片表面的隐形防伪图案，所述聚酰亚胺塑料片表面包括隐形防伪图案区域和非图案区域，所述隐形防伪图案区域由微纳材料氟碳材料形成的薄膜层构成，其制备方法包括以下步骤:
[0122]以粘附有具有预设防伪图案的PDMS薄膜的聚酰亚胺塑料片为基底，利用等离子体增强化学气相沉积法在隐形防伪图案区域制备出隐形防伪图案，反应气体为流量比1:8的014和C4F8，射频功率为100W，沉积温度为室温，沉积时间为lOmin，沉积完成后取出塑料片，移除PDMS膜即获得新型防伪标识。
[0123]以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。
【权利要求】
1.一种新型防伪标识，其特征在于，包括防伪标识基底和隐形防伪图案，所述隐形防伪图案由微纳材料与所述防伪标识基底构成区域差异形成，所述防伪标识基底表面包括隐形防伪图案区域和非图案区域，所述隐形防伪图案区域或所述非图案区域由微纳材料在所述防伪标识基底表面形成的薄膜层构成，所述微纳材料包括有机颗粒、无机颗粒、光刻胶、光敏树脂、金属、合金、陶瓷、聚合物、活性小分子、氧化物、硫化物、氮化物、碳化物或组成为111；、11-17或族元素的二元或多元化合物，所述隐形防伪图案在吹口气、或遇到水或水汽时即可显现，待水分挥发后又可隐形。
2.如权利要求1所述的新型防伪标识，其特征在于，所述有机颗粒包括聚苯乙烯颗粒、聚甲基丙烯酸甲酯颗粒、聚异丙基丙烯酸酯颗粒、聚丙烯酰胺颗粒和聚丙烯酸颗粒、或其改性颗粒中的一种或多种；所述无机颗粒包括二氧化硅颗粒、二氧化钛颗粒、四氧化三铁颗粒、三氧化二铁颗粒、金和银颗粒、或其改性颗粒中的一种或多种。
3.如权利要求1所述的新型防伪标识，其特征在于，所述防伪标识基底的材料包括塑料、橡胶、玻璃、硅片、陶瓷或金属。
4.如权利要求1所述的新型防伪标识，其特征在于，所述隐形防伪图案采用喷墨打印、30打印、涂覆、压印、光刻、物理沉积、化学沉积、表面改性和表面接枝法中的一种或多种方法结合制备在所述防伪标识基底上。
5.一种新型防伪标识的制备方法，其特征在于，包括以下步骤: 提供一防伪标识基底，将微纳材料采用喷墨打印、30打印、涂覆、压印、光刻、物理沉积、化学沉积、表面改性和表面接枝法中的一种或多种方法结合，并根据预设防伪图案制备在所述防伪标识基底上形成隐形防伪图案，即得到新型防伪标识，所述新型防伪标识包括防伪标识基底和隐形防伪图案，所述隐形防伪图案由微纳材料与所述防伪标识基底构成区域差异形成，所述防伪标识基底表面包括隐形防伪图案区域和非图案区域，所述隐形防伪图案区域或所述非图案区域由微纳材料在所述防伪标识基底表面形成的薄膜层构成，所述隐形防伪图案在吹口气、或遇到水或水汽时即可显现，待水分挥发后又可隐形，所述微纳材料包括有机颗粒、无机颗粒、光刻胶、光敏树脂、金属、合金、陶瓷、聚合物、活性小分子、氧化物、硫化物、氮化物或碳化物或组成为III；、11-17或族元素的二元或多元化合物。
6.如权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述有机颗粒包括聚苯乙烯颗粒、聚甲基丙烯酸甲酯颗粒、聚异丙基丙烯酸酯颗粒、聚丙烯酰胺颗粒和聚丙烯酸颗粒、或其改性颗粒中的一种或多种；所述无机颗粒包括二氧化硅颗粒、二氧化钛颗粒、四氧化三铁颗粒、三氧化二铁颗粒、金和银颗粒、或其改性颗粒中的一种或多种。
7.如权利要求5或6所述的制备方法，其特征在于，包括以下步骤: 将有机颗粒或无机颗粒分散到溶剂中制备成混合液； 将所得混合液通过喷墨打印、30打印、涂覆或压印的方式在所述隐形防伪图案区域制备出隐形防伪图案，得到新型防伪标识，所述隐形防伪图案区域由有机颗粒或无机颗粒在所述防伪标识基底表面形成的薄膜层构成。
8.如权利要求5所述的制备方法，其特征在于，包括以下步骤: 将具有预设防伪图案的薄膜粘附在防伪标识基底上覆盖所述非图案区域；然后在所述隐形防伪图案区域通过物理沉积或化学沉积的方式沉积一层金属、合金、陶瓷、聚合物、活性小分子、氧化物、硫化物、氮化物、碳化物或组成为III；、11-17或族元素的二元或多元化合物；最后剥离所述具有预设防伪图案的薄膜即得到新型防伪标识。
9.如权利要求5所述的制备方法，其特征在于，包括以下步骤: 将液态光刻胶或光敏树脂涂覆在防伪标识基底表面，得到光刻胶或光敏树脂层； 然后将具有预设防伪图案的模板与所述防伪标识基底对齐； 将所述模板压入所述光刻胶或光敏树脂层并经紫外照射固化，脱模后，即得到新型防伪标识。
10.如权利要求5所述的制备方法，其特征在于，包括以下步骤: 将聚合物溶于溶剂中，得到混合溶液； 根据预设防伪图案，将所述混合溶液通过喷墨打印的方式在所述隐形防伪图案区域打印制备出隐形防伪图案，然后加热固化所述聚合物；再在所述非图案区域进行处理或是熏蒸上一层活性小分子；再将上述固化后的聚合物剥离，即得到所述新型防伪标识。
【文档编号】G09F3/02GK104464505SQ201410709302
【公开日】2015年3月25日 申请日期:2014年11月28日 优先权日:2014年11月28日
【发明者】杜学敏, 吴天准, 李腾跃, 韩学宁 申请人:中国科学院深圳先进技术研究院