专利名称：一种用于平面显示器的基片加工系统中的基片传输设备的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种用于平面显示器的基片加工系统中的基片传输设备，特别涉及一种可以通过在基片传输过程中防止用于传送基片的传送轴下垂，从而提高平面显示器成品率的基片传输设备。
背景技术：
一般来讲，作为平面显示器的一种，液晶显示器(LCD)就是通过基片加工系统制备的，该系统包括在具有预定工作空间的燃烧室、热处理池或扩散炉中进行的沉积工序、扩散工序、成型布线以及热处理工序等一系列工艺过程。
为了提高生产效率，该基片加工系统中有很多基片传送装置，从而可以在加工基片的过程中传送基片。这些传送装置包括多个对玻璃基片起到支撑和传送作用的传送轴。
近年来，随着大屏幕平面显示器的发展，能够传送用于这类大屏幕显示器的大尺寸玻璃基片的基片传送设备也得到了飞速的发展。这些传送轴沿着玻璃基片的纵向呈平行分布。
当用于LCD的玻璃基片的尺寸达到1000mm×1200mm时，为了能够平稳地传送玻璃基片，每一个传送轴的长度大于上述玻璃基片的长度。
在每个传送轴上等距安装有多个与玻璃基片直接接触的传送辊。传送轴与驱动轴相连，而驱动轴又与马达等驱动设备相接，因而，该传送轴可以从驱动轴获取旋转力。也就是说，当马达开动时，该传送轴就可以转动并传送玻璃基片。
诸如磷掺杂设备、流体清洗设备等一系列设备就安装在传动中的基片上方，因而，在传送玻璃基片过程中就可以进行磷掺杂以及流体清洗等工序的操作。
但是，由于传送轴被设计为又长又窄，并且是在两端进行支撑，因而很容易在玻璃基片的重量以及作用在玻璃基片上的流体推力的作用下过载。
由于没有支撑传送轴中部的装置，因而在传送轴上从两端向中间负荷逐渐增大。结果，很容易出现传送轴中部下垂的现象，给大屏幕平面显示器的生产造成很大困难，进而降低成品率。
发明内容
因此，为了解决以上问题而提出了本发明。
本发明的一个目的就是提供一种用于平面显示设备基片加工系统中的基片传输设备，以便通过在基片传输过程中防止传送基片的传送轴发生下垂而提高平面显示器成品率。
本发明的第一方面提供了一种用于平面显示器的基片加工系统中的基片传送设备，包括用于传送基片的多个传送轴，所述传送轴位于用于处理基片的工作区中；和用于防止传送轴下垂的下垂预防装置，所述下垂预防装置位于传送轴附近。
本发明的第二方面也提供了一种用于平面显示器的基片加工系统中的基片传送设备，包括用于传送基片的多个传送轴，所述传送轴位于用于处理基片的工作区中；用于旋转传送轴的驱动装置；和用于通过向传送轴喷射流体而防止传送轴下垂的流体喷射支架。
本发明的第三方面还提供了一种用于平面显示器的基片加工系统中的基片传送设备，包括用于传送基片的多个传送轴，所述传送轴位于用于处理基片的工作区中；用于旋转传送轴的驱动装置；和用于通过接触传送轴下半部分而防止传送轴下垂的滚子。
通过本发明的技术方案可以看出，用于平面显示器基片加工系统中的基片传输设备可以通过在传送大尺寸基片时防止传送轴下垂，从而提高平面显示器基片的成品率。
可以理解，以上所述的本发明概要描述以及下文所述的详细说明是示例性的和展示性的，并用于对权利要求书中所要求的本发明提供进一步的解释。
为了使本发明能更易于理解，可以借助于附图对本发明加以具体阐述，这些附图组成了本发明的一部分，它有利于对具体实施例进行说明，并可以与说明相结合解释本发明的原理图1为本发明中基片传送设备的透视图；图2为图1所描述的传送轴的放大平面图；图3为图1中传送轴的放大正视图；图4为说明本发明第一实施例中轴下垂预防装置的截面图；图5为说明本发明第二实施例中轴下垂预防装置的截面图；图6为说明本发明第三实施例中轴下垂预防装置的截面图；图7为说明本发明第四实施例中轴下垂预防装置的截面图。
具体实施例方式
下面结合较佳实施例对本发明加以详细描述，并结合附图对实施例中的实例进行说明，在附图中，将尽可能使用相同的编号来标示相同或相似的部分。
图1所示的是本发明的基片传送设备，图2、图3所示的是图1中所述传送轴的结构。
如上述图中所示，基片传输设备2横穿安装在燃烧室C、热处理池或者扩散炉等工作区中。
基片传输设备包括彼此等距放置的多个传送轴4。传送轴4的两端由框架F支撑，并可自由旋转。该传送轴4通过蜗杆/蜗轮结构G与传动轴6相接。而诸如马达M等驱动设备可以旋转传动轴6。
传送轴4的两端通过轴承可旋转地安装在框架F向上突出的边框P上。传送辊8环绕安装在传送轴4上，通过提供适当的摩擦阻力，当传送轴4旋转时可以在不损坏基片的前提下非常方便地传送基片S。另外，为了防止传送轴下垂，在传送轴的下部还安装有传送轴下垂预防装置。
该传送轴预防装置可以安装在传送轴4下的支撑座上(图中未显示)，也可以安装在诸如支撑传送轴4的框架F等设备上。
在本发明的第一实施例中，用于防止传送轴4下垂的下垂预防装置采用非接触式设计，这样该下垂预防装置可以在没有物理接触基片传送轴4的情况下防止基片传送轴4下垂。
如图2、图3及图4所示，第一实施例中的非接触式下垂预防装置包括安装在框架F上的流体喷射支架10。
每一个流体喷射支架10包括一个安装在传送轴4下半部的喷嘴部分12和一个用于在框架F上固定喷嘴部分12的基座部分14。喷嘴部分12具有半球形内圆周面，以限定可以容纳传送轴4的凹陷部分16。在凹陷部分16上形成有向传送轴4外圆周面喷射流体的喷嘴18。喷嘴18的位置低于传送轴4的中心轴线。
喷嘴18彼此相对，以向传送轴4的相对两端喷射诸如压缩空气的流体。
基座部分14带有一个用于接收流体的流体入口20，以及一个从流体入口20延伸并与喷嘴18相通的流体通道22。
流体喷射支架10安装在所有基片传送轴4的下方，也可以按一个以上传送轴4的间隔进行安装。
下面将详细地描述上述根据第一实施例的轴下垂预防装置的工作原理。
当通过流体喷射支架10的流体入口20注入流体时，该流体直接导入到相对的喷嘴18，然后喷射到传送轴的外圆周面上。
由于喷嘴18的位置低于传送轴4的中心轴11，所喷射的流体向传送轴4施加向上的作用力。也就是说，该作用力的方向与使传送轴4下垂的方向相反，因而可以最大限度地减少传送轴4的下垂。此时，从喷嘴18喷射出的流体通过传送轴4与喷嘴部分12之间的空隙流入空气中。
图5示出了根据本发明第二实施例的轴下垂预防装置。
在此实施例中，喷嘴部分12通过喷嘴P1、P2、......Pn向传送轴4几乎整个外圆周面喷射流体。
除向传送轴4几乎整个外圆周面喷射流体外，也就是说，除了喷嘴部分12包围着传送轴4中部的整个外圆周面外，本实施例中的流体喷射支架10的结构与第一实施例相同。
这样，由于在传送轴4与流体喷射支架10之间的整个区域形成了一个受压流体层Y，因此，当传送轴4受到外力向上、下、左、右发生位移时，传送轴4的这种位移就可以通过受压流体层Y得以校正。
为了保证能够正常传送基片，喷嘴部分12的直径小于环绕传送轴4安装的传送辊8的直径。
图6示出了根据本发明第三实施例的轴下垂预防装置。
在本实施例中，由于其喷嘴部分与第一实施例和第二实施例中的喷嘴部分相同或相似，因此本附图仅仅示意性地示出了喷嘴部分。
本实施例与第一实施例及第二实施例的不同之处在于，可以对传送轴4的左右侧或上下侧施加不同的流体压力。
在喷嘴部分12的四个位置分别形成有24、26、28和30四个喷嘴，并且通过喷嘴24、26、28及30喷射出的流体的压力可以调整为彼此不同。也就是说，通过喷嘴24、26、28及30喷射出的流体的压力可以按照传送轴4下垂的方向分别进行调整。
例如，可以通过喷嘴24及26喷射其压力为第一压力的流体，而通过喷嘴28及30喷射其压力为低于第一压力的第二压力的流体。
此时，喷嘴24及26连接到第一流体压力发生器，而喷嘴28及30连接到第二流体压力发生器，这样，就可以通过L1、L2、L3及L4等线路独立控制向喷嘴24和26以及喷嘴28和30输送的流体压力。该流体压力控制可以通过一些众所周知的常规方法实现，因而此处省略了其详细说明。
图7示出了根据本发明第四实施例的轴下垂预防装置。
在本实施例中，利用了一种接触式的设计来防止传送轴下垂。
轴下垂预防装置包括安装在诸如框架F等支撑板上的一个基座部分14，在基座部分14上的支撑架38，以及与传送轴4滚动接触的滚轮40和42，其中滚轮40和42安装在支撑架38上。
滚轮40和42的位置低于传送轴4的中心轴。最好使滚轮40和42和传送轴4之间的摩擦阻力最小的方式来安装滚轮40和42。滚轮40和42可以是滚珠轴承，也可以是套筒。
当传送轴4由于受外力影响发生下垂时，通过支撑传送轴4的滚轮40和42就可以进行校正。
在上述实施例中，轴下垂预防装置最好安装在传送轴4的中部位置。
然而，也可以将轴下垂预防装置安装在传送轴两个以上等距的位置上。
在其他实施例中，轴下垂预防装置还可以应用磁极间的相互作用来实现，也就是说，利用同性磁极间的排斥力实现。例如，如果框架F或轴下垂预防装置的极性是N极，传送轴4的极性也是N极，此时在轴下垂预防装置与传送轴4之间就会产生排斥力，此排斥力就可以防止传送轴4下垂。轴下垂预防装置与传送轴4也都可以是S极。轴下垂预防装置与传送轴4可以是永磁体，也可以是电磁体。如上所述，用于平面显示器基片加工系统中的基片传输设备可以通过在传送大尺寸基片时防止传送轴下垂，从而提高平面显示器基片的成品率。
当然，本领域技术人员公知本发明可以有不同的修改和替换。因此应该理解本发明覆盖了在附加权利要求的范围及等同范围内包括的各种修改和替换。
权利要求
1.一种用于平面显示器的基片加工系统中的基片传送设备，包括用于传送基片的多个传送轴，所述传送轴位于用于处理基片的工作区中；和用于防止传送轴下垂的下垂预防装置，所述下垂预防装置位于传送轴附近。
2.根据权利要求1所述的基片传送设备，其特征在于，所述轴下垂预防装置包括一个用于向传送轴喷射流体的流体喷射支架。
3.根据权利要求2所述的基片传送设备，其特征在于，所述流体喷射支架包括至少两个向传送轴的下半部分喷射流体的喷嘴。
4.根据权利要求2所述的基片传送设备，其特征在于，所述流体喷射支架被设计为在多个方向向传送轴喷射流体。
5.根据权利要求2所述的基片传送设备，其特征在于，所述流体喷射支架包括上喷嘴、下喷嘴、左喷嘴和右喷嘴，上喷嘴和下喷嘴连接到第一流体发生器，左喷嘴和右喷嘴连接到第二流体发生器，从而通过控制第一和第二流体发生器产生的流体的压力防止传送轴在某一个方向上产生位移。
6.根据权利要求1所述的基片传送设备，其特征在于，所述轴下垂预防装置包括和传送轴的外圆周面的相对两侧接触的滚轮。
7.根据权利要求1所述的基片传送设备，其特征在于，所述轴下垂预防装置安装在传送轴的中部。
8.根据权利要求1所述的基片传送设备，其特征在于，每一个轴下垂预防装置与传送轴是由具有相同磁极性的磁铁形成的。
9.一种用于平面显示器的基片加工系统中的基片传送设备，包括用于传送基片的多个传送轴，所述传送轴位于用于处理基片的工作区中；用于旋转传送轴的驱动装置；和用于通过向传送轴喷射流体而防止传送轴下垂的流体喷射支架。
10.根据权利要求9所述的基片传送设备，其特征在于，所述流体喷射支架包括一对向传送轴下半部分喷射流体的喷嘴。
11.根据权利要求9所述的基片传送设备，其特征在于，所述流体喷射支架被设计为在多个方向向传送轴喷射流体。
12.根据权利要求9所述的基片传送设备，其特征在于，所述流体喷射支架包括上喷嘴、下喷嘴、左喷嘴和右喷嘴，所述喷嘴连接到不同的流体发生器，从而控制喷射流体的压力。
13.根据权利要求9所述的基片传送设备，其特征在于，所述下垂预防装置安装在传送轴的中部。
14.一种用于平面显示器的基片加工系统中的基片传送设备，包括用于传送基片的多个传送轴，所述传送轴位于用于处理基片的工作区中；用于旋转传送轴的驱动装置；和用于通过接触传送轴下半部分而防止传送轴下垂的滚子。
15.根据权利要求14所述的基片传送设备，其特征在于，所述滚子安装在传送轴的中部。
全文摘要
本发明公开了一种用于平面显示设备的基片加工系统中的基片传输设备，它包括用于传送基片的多个传送轴，这些传送轴位于用于处理基片的工作区中；和位于传送轴下的用于防止传送轴下垂的下垂预防装置。
文档编号G02F1/133GK1517756SQ20041003901
公开日2004年8月4日 申请日期2004年1月20日 优先权日2003年1月27日
发明者李东万 申请人:显示器生产服务株式会社