专利名称：具有调整气流路径功能的涂布干燥装置的制作方法
技术领域：
本发明关于一种涂布装置，尤指一种利用设置于承载平台的挡板结构调整气流路径的涂布干燥装置。
背景技术：
液晶显示器由于具有轻薄短小与省电等优点，已成为目前显示器与薄型电视市场上的主流产品。对于液晶显示器而言，彩色滤光片是重要的关键性零组件之一，通过彩色滤光片的滤光效果，液晶显示器方可显示出色彩亮丽的画面。
随着液晶显示器的规格与尺寸不断提升，对于彩色滤光片的特性，例如耐热性的要求也不断提升，而以现行技术而言，颜料分散法所制作出的彩色滤光片较能符合现阶段的需求，已成为目前制作彩色滤光片的各种方法中较普遍的方法。颜料分散法的作法是将颜料与光致抗蚀剂材质混合成所需的彩色光致抗蚀剂层，例如红色光致抗蚀剂层，接着将红色光致抗蚀剂层涂布于玻璃基板上，再经由曝光、显影与硬烤等工艺而于玻璃基板上制作出红色滤光图案，再依序将绿色与蓝色光致抗蚀剂层涂布于玻璃基板上，并重复上述工艺形成绿色滤光图案与蓝光滤光图案，而组合成液晶显示器的彩色滤光片。
然而，现行制作彩色滤光片的方法却因为现有涂布装置的限制而导致光致抗蚀剂层容易产生缺陷的问题。一般而言，抽除溶剂的工艺包含先进行一细抽动作，以较缓慢的速度初步地抽除光致抗蚀剂层内的溶剂，待光致抗蚀剂层所含的溶剂到达适当程度后再进行一粗抽动作，快速抽除溶剂以减少反应时间。然而，现有涂布装置的结构设计会使得在抽除溶剂时气流流动的路径贴近光致抗蚀剂层的表面，因此在进行粗抽动作时光致抗蚀剂层的表面容易由于气流流动造成膜厚不一的问题。液晶显示器由于膜厚不一所造成的显示缺陷，业界一般称此现象为真空干燥所致显示缺陷(VCD-vacuum chamberdrying mura)，而针对此问题现有方法是利用延长细抽动作的时间加以解决，然而如此一来将严重影响生产效率。
发明内容
本发明的目的之一在于提供一种具有调整气流路径功能的涂布干燥装置，以避免产生膜厚不均的问题，并提升生产效率。
为达上述目的，本发明提供一种具有调整气流路径功能的涂布干燥装置，包括一反应室；一真空系统，与该反应室连通，用以抽除该反应室内的气体；一承载平台，设置于该反应室内，该承载平台包含有一承载面，用以承载一基板；以及一挡板结构，设置于该承载平台的该承载面上并环绕该基板，且该挡板结构的高度大于该基板的厚度。据此，该真空系统抽除该反应室内的气体时，可均匀地抽除该光致抗蚀剂层内的该溶剂。
综上所述，本发明相对于现有技术的效果是显著的本发明利用挡板结构的设计调整气流路径，且由于流场的截面积变小而使气体流速改变，也具有提升气流路径的作用。通过挡板结构的设置，于抽除溶剂时可减少细抽动作的时间，而利用速度较快的粗抽动作抽除溶剂，不仅可增加生产效率，同时气流路径的提升也可避免产生膜厚不均的问题，而可有效提升品质。
图1为本发明一较佳实施例的具有调整气流路径功能的涂布干燥装置的示意图。
图2为本发明另一较佳实施例的具有调整气流路径功能的涂布干燥装置的示意图。
主要元件符号说明
50涂布装置 52反应室54真空系统 56承载平台56a 承载面 58排气孔60上盖 62基板64光致抗蚀剂层 66挡板结构具体实施方式
以下为有关本发明的详细说明与附图。然而所附图式仅供参考与辅助说明用，并非用来对本发明加以限制。
请参考图1，图1为本发明一较佳实施例的具有调整气流路径功能的涂布干燥装置的示意图，其中下述实施例是以一用于制作彩色滤光片的细缝式(slit)涂布装置为例说明本发明的特点，然而本发明的应用并不局限于此，而可应用于其它如旋转式涂布装置或真空干燥装置，或是用于制作非彩色滤光片的光致抗蚀剂层与其它涂布材料层等。如图1所示，本实施例的涂布装置50包含有一反应室52、一真空系统(例如真空泵)54，以及一承载平台56。真空系统54连通于反应室52，并可于需要真空状况下将反应室52内的气体通过设于承载平台56下方的排气孔58抽除。反应室52包含有一可启闭的上盖60，而承载平台56包含有一承载面56a，用以承载一基板(例如透明基板)62。于进行涂布工艺之前，上盖60会开启并容许基板62加载于反应室52；基板62经对位后会被固定于承载平台56的承载面56a上，且此时上盖60会关闭而位于基板62的上方。于进行涂布工艺时，涂布材料会经由涂布装置50的喷嘴(图未示)喷出而于基板62的表面形成一光致抗蚀剂层64。于本实施例中，光致抗蚀剂层64为一具滤光作用的彩色光致抗蚀剂层，例如红色光致抗蚀剂层、绿色光致抗蚀剂层或蓝色光致抗蚀剂层，但不限于此。由于光致抗蚀剂层64包含有大量溶剂，因此必须先抽除光致抗蚀剂层64内的溶剂后方可继续进行后续曝光显影等工艺。
本实施例的涂布装置50包含有一挡板结构66，设置于承载平台56的承载面56a上并环绕基板62。挡板结构66的高度大于基板62的厚度，且挡板结构66面对基板62的侧壁为一垂直侧壁，垂直于承载平台56的承载面56a。挡板结构66的作用在于改变于抽除溶剂时所产生的气流流动路径与流速等参数，通过挡板结构66的设置，真空系统54在抽除反应室52内的气体时，气流流动路径会被提升而不致经过光致抗蚀剂层64的表面(如图1的箭号所示)，故可避免造成膜厚不均的现象，同时，据此也可均匀地抽除光致抗蚀剂层64内的溶剂(如图1的虚线箭号所示)。
请参考图2，图2为本发明另一较佳实施例的具有调整气流路径功能的涂布干燥装置的示意图，其中为利于比较二实施例的相异处，于图1与图2中相同的元件使用相同的符号标注。如图2所示，本实施例的涂布装置50包含有一反应室52、一真空系统54连通于反应室52、一承载平台56，以及一上盖60。
不同于前一实施例处在于本实施例的挡板结构66面对基板62的侧壁为一倾斜侧壁，而非垂直侧壁。如前所述，挡板结构66的功用在于改变于抽除溶剂时所产生的气流流动路径与流速等参数，故本实施例的挡板结构66利用倾斜侧壁的设计改变气流流动路径(如图2的箭号所示)，同样可达到均匀地抽除光致抗蚀剂层64内的溶剂(如图2的虚线箭号所示)，并避免气流流过光致抗蚀剂层64的表面造成膜厚不均的现象。
值得说明的是本发明的涂布装置并不限于上述两实施例，挡板结构的各设计参数，例如高度、形状、材质与位置等可依涂布装置的机台设计或其它参数的考量而加以调整。
但以上所述仅为本发明的较佳实施例，凡依本发明所做的均等变化与修饰，皆应属本发明的涵盖范围。
权利要求
1.一种具有调整气流路径功能的涂布干燥装置，其特征在于，包括一反应室；一真空系统，与该反应室连通，用以抽除该反应室内的气体；一承载平台，设置于该反应室内，该承载平台包含有一承载面，用以承载一基板；以及一挡板结构，设置于该承载平台的该承载面上并环绕该基板，且该挡板结构的高度大于该基板的厚度。
2.如权利要求1所述的具有调整气流路径功能的涂布干燥装置，其特征在于，该涂布装置为一细缝式涂布装置。
3.如权利要求1所述的具有调整气流路径功能的涂布干燥装置，其特征在于，该基板包含有一光致抗蚀剂层位于该基板的表面，且该光致抗蚀剂层包含有一溶剂。
4.如权利要求3所述的具有调整气流路径功能的涂布干燥装置，其特征在于，该光致抗蚀剂层为一具有滤光作用的彩色光致抗蚀剂层。
5.如权利要求1所述的具有调整气流路径功能的涂布干燥装置，其特征在于，该挡板结构面对该基板的侧壁为一垂直侧壁，垂直于该承载平台的该承载面。
6.如权利要求1所述的具有调整气流路径功能的涂布干燥装置，其特征在于，该挡板结构面对该基板的侧壁为一倾斜侧壁。
7.如权利要求1所述的具有调整气流路径功能的涂布干燥装置，其特征在于，该反应室包含有至少一排气孔，设置于该承载平台的下方，连接该真空系统。
全文摘要
本发明公开了一种具有调整气流路径功能的涂布干燥装置，包括一反应室；一真空系统，与该反应室连通，用以抽除该反应室内的气体；一承载平台，设置于该反应室内，该承载平台包含有一承载面，用以承载一基板；以及一挡板结构，设置于该承载平台的该承载面上并环绕该基板，且该挡板结构的高度大于该基板的厚度。据此，该真空系统抽除该反应室内的气体时，可均匀地抽除该光致抗蚀剂层内的溶剂。
文档编号G02B5/23GK1945437SQ200610137590
公开日2007年4月11日 申请日期2006年10月26日 优先权日2006年10月26日
发明者陈嘉欣, 林彦伯, 林信志 申请人:友达光电股份有限公司