液晶显示装置用基板、液晶显示元件以及液晶显示装置的制作方法

专利名称：：液晶显示装置用基板、液晶显示元件以及液晶显示装置的制作方法
技术领域：
：本发明涉及一种液晶显示用基板及使用其的液晶显示元件以及液晶显示装置，尤其涉及构成因液晶单元的单元厚度的变动而容易成为显示不均的液晶显示装置(元件)所优选的在遮光膜上具备光学间隙材的液晶显示用基板及使用其的液晶显示元件以及液晶显示装置。
背景技术：
：以往，液晶显示装置被广泛用于显示高图像质量图像的显示装置。液晶显示装置通常在一对基板间配置有可以通过规定的取向来显示图像的液晶层。对于液晶显示装置而言，均匀地维持该基板间隔即液晶层的厚度是决定图像质量的要素之一，所以配设用于将液晶层的厚度保持在一定的间隙材。该基板间的厚度通常被称为"单元厚度"，单元厚度通常表示所述液晶层的厚度，换言之，表示向显示区域的液晶施加电场的2张电极间的距离。以往间隙材通过散布珠来形成，近年来，逐渐成为利用光刻法用感光性树脂组合物来形成位置精密度高的间隙材。这样的使用感光性树脂组合物形成的间隙材被称为"光学间隙材"。使用感光性树脂组合物，经过形成图案、碱显影以及烘焙工序制作的光学间隙材的隔离点(spacerdot)的压縮强度弱，在形成面板时具有塑性变形变大的趋势。所以，在高图像质量的图像显示中使用时，要求没有因所述趋势而液晶层的厚度变得小于设计值等不能保持均匀性的问题或发生图像不均的问题。另外，从液晶显示装置的高精密度化的点出发，不产生感光性树脂组合物的碱显影残余物也很重要。液晶显示装置的显示模式过去采用的是TN模式(例如参照非专利文献1)，由于视野角狭窄而提出了宽视野角的VA模式(例如参照非专利文献2)。VA模式是通过在上下一对透明电极的一方或双方形成被称为液晶取向控制用突起或者将上下一对透明电极的双方形成图案进而使用(例如参照非专利文献3)等，向电极间产生的电场赋予部分倾斜，由此实现多区域(multidomain)化液晶的取向从而可以从任意角度均相同的明亮度观察的显示装置。VA模式中，使用液晶取向控制用突起的被称为MVA、ASV、CPA等，将上下透明电极的双方形成图案进而使用的被称为PVA。但是，该VA模式是因液晶单元的单元厚度的变动而容易成为显示不均的显示模式之一。另外，有时IPS模式或OCB模式等其他显示模式也出现了相同的趋势。关于所述问题，必需将液晶层的厚度(单元厚度)保持在一定，作为以此为目的的间隙材形成技术，公开了在间隙材的形成中使用具有烯丙基的树脂(例如参照专利文献l)。专利文献1:特开2003—207787号公报非专利文献l:"液晶匕'-才、7最前線"岩井善弘著，41页，(株)工业调查会发行U993年)非专利文献2:"日経7一夕口fV^7別冊卜八。冲、/卜fV72003"实务编，8285页，日经BP社非专利文献3:"日経7^T夕口f/、V7別冊7，、乂卜/、。冲、/卜f^72003"实务编，103页，日经BP社但是，如果利用所述的使用具有烯丙基的树脂的方法，则尽管间隙材的均匀性提高了，但基底的不均即遮光膜的膜厚变动导致在液晶显示装置中发生显示不均。
发明内容所以，本发明的目的在于提供一种具备膜厚变动小的遮光膜和光学间隙材、防止显示不均、可以进行高图像质量显示的液晶显示用基板及使用其的液晶显示元件以及液晶显示装置，以实现该目的为课题。本发明是通过将薄膜高浓度黑矩阵用于遮光膜而实现的。用于实现所述课题的具体机构如下所述。<1>一种液晶显示用基板，其是至少具备至少两张基板、在所述基板间设置的液晶层、向所述液晶层施加电场的电极、用于调节所述基板间的单元厚度的光学间隙材、遮光膜和着色层的液晶显示用基板，其特征在于，在所述遮光膜的上面或者所述遮光膜与着色层互相重叠的部分的上面形成所述光学间隙材的至少一部分，而且所述遮光膜含有树脂及其前体的至少一种、和具有银锡合金部的金属粒子。<2>根据所述<1>的液晶显示用基板，其特征在于，具有所述银锡合金部的金属粒子中的银的比例为3080摩尔％。<3>根据所述<1>或<2>的液晶显示用基板，其特征在于，所述遮光膜的面内高度偏差以3a计为0.2(am以内(o:lmXlm基板的每隔lcm的测定点的标准偏差)。<4>根据所述<1>的液晶显示用基板，其特征在于，所述遮光膜中的所述金属粒子的含量相对所述遮光膜的全部固体成分，为520体积％。<5>根据所述<1>的液晶显示装置用基板，其特征在于，所述遮光膜利用涂敷法形成。<6>根据所述<1>的液晶显示装置用基板，其特征在于，所述遮光膜利用转印法形成。<7>根据所述<1>的液晶显示装置用基板，其特征在于，所述金属粒子以数均粒子尺寸计算为20700nm。<8>—种液晶显示元件，其特征在于，具备所述<1><7〉的液晶显示用基板。<9>一种液晶显示装置，其特征在于，具备所述<8>的液晶显示元件。利用本发明，可以提供具备膜厚变动小的遮光膜和光学间隙材、防止显示不均、可以进行高图像质量图像的显示的液晶显示用基板及使用其的液晶显示元件以及液晶显示装置。图1是表示本发明的MVA模式液晶显示元件的构成例的截面模式图。图2是表示本发明的MVA模式液晶显示元件的其他构成例的截面模式图。图中，IO—液晶显示用基板，ll一玻璃基板，12—着色层，13、22一ITO膜，14—光学间隙材，15_凸缘，16—遮光膜，18—液晶层，21—TFT基板，24—取向膜，23、25—偏振板，100、200—液晶显示元件。具体实施例方式《液晶显示用基板》本发明的液晶显示用基板至少具备至少两张基板、在所述基板间设置的液晶层、向所述液晶层施加电场的电极、用于调节所述基板间的单元厚度的光学间隙材、遮光膜和着色层，是构成在液晶显示装置中使用的液晶显示元件等的液晶显示用基板。本发明的液晶显示用基板在所述遮光膜的上面或者所述遮光膜与所述着色层互相重叠的部分的上面形成所述光学间隙材的至少一部分，而且所述遮光膜含有树脂及其前体的至少一种、和具有银锡合金部的金属粒子。在本发明的液晶显示用基板中使用的遮光膜包括含有树脂及其前体、和具有银锡合金部的金属粒子的遮光膜，由于膜厚变动小，所以能够将单元厚度保持为均匀，可以防止图像显示装置的显示不均。由此，可以通过使用本发明的液晶显示用基板，来形成可以显示高图像质量图像的图像显示装置。使用图l，以MVA模式的液晶显示装置的构成为例，对本发明的图像显示用基板的构成，进行说明。图1是表示本发明的MVA模式液晶显示元件的构成例的截面模式图。在图1中，本发明的液晶显示元件100具备液晶显示用基板IO、偏振板23、25，用2张偏振板夹持液晶显示用基板10，从而构成。液晶显示用基板10具备2张基板(玻璃基板11及TFT基板21)和设置于2张基板间的液晶层18而构成。另外，在各基板(玻璃基板11及TFT基板21)上形成有ITO膜13及22，这些ITO膜发挥作为向液晶层618施加电场的电极的作用。另外，在本发明中，将具备2张基板、液晶层、电极、遮光膜、着色层以及光学间隙材的结构称为"液晶显示用基板"，将在其上设置液晶驱动机构的结构称为"液晶显示元件"。在玻璃基板11的设置液晶层18的一侧，设置有遮光膜16及着色层12，在着色层12上形成有玻璃基板ll侧的ITO膜13。着色层12分别组合红(R)、绿(G)及蓝(B)像素而构成，着色层12被设置于玻璃基板11上，以使各像素的一部分与遮光膜16重叠。另外，在各基板间设置有用于将液晶层18的厚度保持一定的光学间隙材14。在图1中，光学间隙材14的至少一部分在遮光膜16与着色层12互相重叠的部分的上面形成。另外，在图1中，向电极间产生的电场赋予部分倾斜，设置有用于使液晶层18中的液晶的取向多区域化的凸缘15和聚酰亚胺制的取向膜24。本发明的液晶显示用基板10通过在遮光膜16与着色层12互相重叠的部分的上面形成光学间隙材14的至少一部分，即使是高度低的光学间隙材，也可以保持充分的单元间距。另外，如图2所示，本发明的液晶显示元件200也可以构成为遮光膜不与各着色层互相重叠。图2是表示本发明的MVA模式液晶显示元件的其他构成例的截面模式图。另外，图2中，带有与图l相同编号的构件与图1中的相同。如图2所示，液晶显示元件200在遮光膜16上形成有光学间隙材14的至少一部分，可以防止光学间隙材14引起的光漏出。另外，如图1及2所示，在本发明中，光学间隙材也可以借助ITO膜等，形成在着色层或遮光膜的上部。以下对本发明中的遮光膜和光学间隙材进行详细说明，通过该说明，对本发明的液晶显示用基板、液晶显示元件以及液晶显示装置进行详述。<遮光膜>本发明中的遮光膜(以下也简称为"遮光膜"或"黑矩阵"。)可以通过将使用含有树脂及其前体的至少一种和具有银锡合金部的金属粒子的组合物(优选后述的记录材料用树脂组合物)形成的层或使用感光性转印材料形成的感光性树脂层形成图案来制作。对使用所述组合物形成遮光膜的方法即对使用所述组合物形成的层进行图案形成的方法没有特别限定，可以适当使用公知的形成图案方法。遮光膜的膜厚优选为0.2pm2.(^m左右，更优选为0.2nm0.9jam。如果遮光膜的膜厚在所述范围内，则即使在遮光膜的至少一部分上层叠着色层的情况下，也可以保持着色层的平坦性，所以优选。将lmXlm基板的每隔lcm的测定点的标准偏差设为cr，本发明中的遮光膜的面内高度偏差以3c计为0.2^m以内，更优选以3cr计为0.15pm以内，特别优选为0.10^im以内。如果遮光膜的面内高度偏差的3a为0.2pm以内，则难以产生单元厚度的不均，可以抑制单元厚度的不均引起的显示质量的降低。标准偏差ci例如可以通过对得到的遮光膜的高度，使用接触式表面粗糙度计P—IO(TENCOR公司制)，测定lmXlm基板的每隔lcm的测定点(10000点)来求得。本发明中的遮光膜是在树脂或其前体中分散有具有银锡合金部的金属粒子(以下有时称为"本发明中的金属粒子"。)的膜，可以以薄膜得到高度的光密度(4.0以上)。对分散时的本发明中的金属粒子的存在状态没有特别限定，优选粒子以稳定的分散状态存在。另外，为了使本发明中的金属粒子的分散状态良好，可以根据需要使用后述的分散剂。另外，在使用记录材料用树脂组合物形成本发明中的遮光膜的情况下，该组合物优选至少含有树脂及其前体和本发明中的金属粒子而成，根据目的或用途，此外根据需要也可以含有其他成分。对构成本发明的记录材料用树脂组合物的成分进行具体说明。一具有银锡合金部的金属粒子一作为本发明中的具有银锡合金部的金属粒子，各粒子包括由银锡合金构成的粒子、由银锡合金部分与其他金属部分构成的粒子及由银锡合金部分与其他合金部分构成的粒子。在本发明中，对金属的定义如岩波理化学辞典第4版(1987年，岩波书店发行)中所记载，本发明中的银锡合金是在原子水平混合银和锡而成的合金，包括固溶体、共晶、化合物、金属间化合物等。此外，对于合金，如岩波理化学辞典第4版(1987年，岩波书店发行)中所记载。在本发明中的具有银锡合金部的金属粒子中，至少一部分由银锡合金构成例如可以通过使用(株)日立制作所制的HD—2300和Noran公司制的EDS(能量分散型X射线分析装置)，利用加速电压200kV的对各粒子的中心15nm口区域的光谱测定来确认。具有银锡合金部的金属粒子的黒浓度高，可以以少量或者以薄膜表现出出色的遮光性能，同时具有高热稳定性，所以不损坏黒浓度、可以在高温(例如200度以上)下进行热处理，可以稳定地确保高度的遮光性。例如，优选用于需要高度的遮光性、滤色片用的遮光膜(所谓黑矩阵)。本发明中的具有银锡合金部的金属粒子优选为可以使银(Ag)的比例在3080摩尔％，复合化(例如合金化)Ag与锡(Sn)得到的粒子。通过使Ag的比例在特别是所述范围内，可以得到在高温域的热稳定性高、抑制光的反射率的高黒浓度。换言之，如果Ag的比例不到30摩尔％，则熔点变低，变得容易受热变化，所以有时热稳定性降低，如果超过80摩尔％，则光的反射率变高。本发明中的金属粒子中的银(Ag)的比例优选为4075摩尔％，最优选为5075摩尔％。尤其Ag的比例为75摩尔％的粒子即AgSn合金粒子容易制作，得到的粒子也稳定。本发明中的遮光膜不仅单独含有一种具有银锡合金部的金属粒子，也可以并用Ag的比例在所述范围内的具有不同的两种以上的银锡合金部的金属粒子来构成。本发明中的金属粒子可以用在坩埚等中加热、熔融混合来进行合金化等普通方法形成。但是，如果利用普通的方法，则Ag的融点在90(TC附近，Sn的融点在20(TC附近，所以二者的融点存在很大的差异，而且还需要复合化(例如合金化)后的微粒化工序，所以优选利用同时进行复合化工序与微粒化工序的颗粒还原法。即所述粒子还原法为混合Ag化合物和Sn化合物，将其还原的方法，是在同时接近金属Ag和金属Sn的位置使其析出，同时实现复合化(例如合金化)和微粒化的方法。另外，Ag容易被还原，有比Sn更先析出的趋势，所以优选通过使Ag及/或Sn成为配盐，控制析出时机。作为所述Ag化合物，优选举出硝酸银(AgN03)、醋酸银(Ag(CH3COO))、高氯酸银(AgC104*H20)等。其中特别优选醋酸银。作为所述Sn化合物，优选举出氯化亚锡(SnCl2)、氯化锡(SnCU)、醋酸亚锡(Sn(CH3COO)2)等。其中，特别优选醋酸亚锡。所述还原可以将使用还原剂的方法、利用电解还原的方法等作为优选的还原方法举出。其中，利用使用还原剂的前者的方法，从可以得到微细的粒子的点来看，优选。作为所述还原剂，可以举出氢醌、儿茶酚、对氨基苯酚、对苯二胺、羟基丙酮等。其中，从容易挥发、难以给显示装置带来不良影响的点来看，特别优选羟基丙酮。本发明中的具有银锡合金部的金属粒子优选为具有以下所示的物理性质或粒子尺寸、粒子形状等的粒子。本发明中的金属粒子优选为在利用差示扫描热量测定法(DSC:DifferentialScanningCalorimetry)的测定中，在240400"C具有熔点的粒子。由于熔点在该范围内，所以与金属Ag(熔点95CTC)或金属Sn(熔点230°C)相比，显示出良好的热稳定性。具体而言，AgSn合金的熔解性(熔点)是通过将作为样品的AgSn合金20mg装入DSC(SSC/5200,精工(SEIKOInstrument)(株)制)的测定容器中，以1(TC/分的降温速度，从200"C冷却至室温来测定的。本发明中的金属粒子的数均粒子尺寸优选为20700nm，更优选为30200nm，特别优选为40100nm。如果数均粒子尺寸特别是在所述范围内，则与金属Sn的粒子不同，任意粒径均具有黑的色相。此外，数均粒子尺寸如果超过700nm，则有时制膜时的面状变差，如果不到20nm，则黑色减少，有时稍带黄色。所述数均粒子尺寸的测定使用利用透射电子显微镜JEM—2010(曰本电子(株)制)得到的照片，如下所述地测定。选出粒子100个，将与各粒子像相同的面积的圆的直径作为粒径，将100个粒子的粒径的平均值作为数均粒子尺寸。此时，使用倍率为10万倍、加速电压200kV下拍摄的照片。作为本发明中的"具有银锡合金部的金属粒子"的粒子形状，没有特别限制，可以为立方体(cubic)状、高形状比、中形状比、针状等任意形状。只要具有所述的物理性质、粒子尺寸、粒子形状而且得以维持，除了形成具有银锡合金部的金属粒子的元素(Ag及Sn)以外，也可以进一步含有盐或有机物、其他元素(Ca、P、Na等)等。作为本发明中的金属粒子在本发明中的遮光膜中的含量，从可以得到高度的遮光性的观点出发，相对遮光膜的全部固体成分(体积)，优选为520体积％，更优选为715体积％，最优选为815体积％。如果具有银锡合金部的金属粒子的含量特别是在所述范围内，则可以抑制光的反射率，黒浓度高，且可以以薄膜得到高的遮光性，在装入液晶显示装置中时，可以以高对比度得到鲜明的显示图像。此外，具有银锡合金部的金属粒子的量不到5体积％时，反射率高，有时会破坏显示对比度，超过20体积％时，有时制膜时的膜厚变得比lpm厚。另外，在与后述的树脂及其前体的关系中，遮光膜中相对树脂及其前体的总量(质量)，优选为0.38.0质量％，更优选为0.53.0质量％。一树脂及其前体一本发明中的遮光膜含有树脂及其前体的至少一种。所述树脂是作为粘合剂的聚合物成分，树脂的前体是聚合时构成树脂的成分，包括所谓单体、寡聚物成分等。在使用所述记录材料用树脂组合物形成本发明中的遮光膜时，可以对应该记录材料用树脂组合物的类型适当选择本发明中的树脂及其前体。另外，在使用所述的记录材料用树脂组合物形成本发明中的遮光膜的情况下，优选通过在该组合物中含有从所述树脂及其前体中选择的1种或2种以上，构成为感光性的聚合性组合物。例如通过使用感光性树脂组合物，可以向所述记录材料用树脂组合物赋予感光性。被赋予感光性的所述记录材料用树脂组合物是含有粘合剂(聚合物)、光聚合引发剂以及含有乙烯性不饱和双键且在光的作用下加聚的单体(以下有时称为"光聚合性单体"。)等而成的。所述记录材料用树脂组合物包括可以用碱水溶液显影的组合物和可以用有机溶剂显影的组合物。从安全性和显影液的成本的点出发，优选可以用碱水溶液显影的组合物。所述记录材料用树脂组合物可以为接受光或电子束等放射线的部分发生固化的负型，也可以为放射线未接受部发生固化的正型。作为所述树脂及其前体，例如在使用正型记录材料用树脂组合物形成本发明中的遮光膜的情况下，可以使用酚醛清漆系的树脂。作为所述酚醛清漆系的树脂，例如可以使用特开平7—43899号公报中记载的碱可溶性酚醛清漆树脂系。另外，还可以使用含有在所述特开平6—148888号公报中记载的正型感光性树脂，即在该公报中记载的碱可溶性树脂、作为感光剂的1，2—萘醌二叠氮磺酸酯、和在该公报中记载的热固化剂的混合物的感光性树脂，这种情况下构成为热固化性。进而，也可以有效地利用特开平5—262850号公报中记载的组合物。另外，例如在使用负型记录材料用树脂组合物形成本发明中的遮光膜的情况下，作为该负型记录材料用树脂组合物，可以举出负型二氮化合物树脂和粘合剂构成的感光性树脂，光聚合性组合物、叠氮化物与粘合剂构成的记录材料用树脂组合物，桂皮酸型记录材料用树脂组合物等。其中，特别优选含有光聚合引发剂、光聚合性单体以及粘合剂作为构成要素的光聚合性组合物。该光聚合性组合物可以利用特开平11一133600号公报中记载的"聚合性化合物B"、"聚合引发剂C"、"表面活性剂"、"粘接助剂"或其他组合物。例如，在为负型时，作为可以用碱水溶液显影的记录材料用树脂组合物，可以举出含有含羧酸基的粘合剂(碱可溶的热塑性树脂等的碱可溶性粘合剂)、光聚合引发剂和含有能够在光的照射下加聚的乙烯性不饱和双键的单体(光聚合性单体)的组合物。作为所述粘合剂，可以举出侧链具有羧酸基的聚合物，例如特开昭59—44615号公报、特公昭54—34327号公报、特公昭58—12577号公报、特公昭54—25957号公报、特开昭59—53836号公报及特开昭59—71048号公报中记载的甲基丙烯酸共聚物、丙烯酸共聚物、衣康酸共聚物、巴豆酸共聚物、马来酸共聚物、部分酯化马来酸共聚物等。另外，也可以举出侧链具有羧酸基的纤维素衍生物。此外，也可以优选使用向具有羟基的聚合物附加环状酸酐的物质。特别是美国专利第4139391号说明书中记载的(甲基)丙烯酸苄基酯与(甲基)丙烯酸的共聚物或(甲基)丙烯酸苄基酯与(甲基)丙烯酸与其他单体的多元共聚物也可以优选举出。所述粘合剂最好选择具有30400mgKOH/g的范围的酸值和1，000300000的范围的重均分子量的粘合剂。除了以上所述，为了改良各种性能例如固化膜的强度，在不给显影性等带来不良影响的范围内，也可以添加碱不溶性的聚合物。作为碱不溶性的聚合物，例如可以举出醇可溶性尼龙或者环氧树脂。所述树脂及其前体相对本发明中的遮光膜中记录材料用树脂组合物的全部固体成分，通常为1095质量％，进而优选为2090质量％。在1095质量％的范围内，感光性树脂层的粘合性不会变得过高，形成的层的强度及光感度也不会变差。如上所述，可以使用感光性的记录材料用树脂组合物形成本发明中的遮光膜，该组合物可以含有光聚合引发剂或光聚合性单体。光聚合引发剂作为所述光聚合引发剂，可以举出美国专利第2367660号说明书中记载的连位聚縮酮(vicinalpolyketaldonyl)化合物、美国专利第2448828号说明书中记载的偶因醚化合物、美国专利第2722512号说明书中记载的用a—烃取代的芳香族偶因化合物、美国专利第3046127号说明书及美国专利第2951758号说明书中记载的多环醌化合物、美国专利第3549367号说明书中记载的三芳基咪唑二聚体与p—氨基酮的组合、特公昭51—48516号公报中记载的苯并噻唑化合物和三卤甲基一s—三嗪化合物、美国专利第4239850号说明书中记载的三卤甲基一s—三嗪化合物、美国专利第4212976号说明书中记载的三卤甲基噁二唑化合物等。特别优选三卤甲基一s—三嗪、三卣甲基噁二唑以及三芳基咪唑二聚体。此外，还可以优选举出特开平11一133600号公报中记载的"聚合引发剂C"。光聚合引发剂可以单独或混合使用2种以上，特别优选使用2种以上。另外，光聚合引发剂相对记录材料用树脂组合物的全部固体成分的含量通常为0.520质量％，优选为115质量％。作为曝光感度高、带黄色等变色少、显示特性好的例子，可以举出二唑系光聚合引发剂和三嗪系光聚合引发剂的组合，最优选2—三氯甲基一5—(对苯乙烯基苯乙烯基)一l，3，4—噁二唑与2，4一双(三氯甲基)一6—[4，—(N，N—双乙氧基羰基甲基氨基)—3，—溴代苯基]—s—三嗪的组合。这些光聚合引发剂的比率以二唑系/三嗪系的质量比率计，优选为95/520/80，更优选为卯/1030/70，最优选为80/2060/40。这些光聚合引发剂可以举出在特开平1—152449号公报、特开平l一254918号公报、特开平2—153353号公报中记载的光聚合引发剂。作为更优选的例子，还可以举出二苯甲酮系。在本发明中的金属粒子在所述记录材料用树脂组合物的全部固体成分中所占的比例为520体积％左右的情况下，也可以通过在所述光聚合引发剂中混合香豆素系化合物来得到相同的效果。作为香豆素系化合物，最优选7—[2—[4一(3—羟甲基哌啶基)一6—二乙氨基]三嗪基氨基]一3一苯基香豆素。这些光聚合引发剂和香豆素系化合物的比率以光聚合引发剂/香豆素系化合物的质量比率计，优选为20/8080/20，更优选为30/7070/30，最优选为40/6060/40。不过，可以在本发明中使用的光聚合性组合物不限定于这些，可以从公知的光聚合性组合物中适当选择。所述光聚合引发剂相对记录材料用树脂组合物的全部固体成分，通常为0.520质量％，优选为115质量％。如果所述含量在所述范围内，则可以防止光感度或图像的强度降低，可以充分地提高性能。一光聚合性单体一作为所述光聚合性单体，可以举出沸点在常压下为IO(TC以上的化合物。作为其例子，可以举出聚乙二醇一(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇一(甲基)丙烯酸酯及(甲基)丙烯酸苯氧基乙基酯等单官能(甲基)丙烯酸酯;聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基乙烷三丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、三羟甲基丙烷二丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲14基)丙烯酸酯、己二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙垸三(丙烯酰基氧基丙基)醚、三(丙烯酰基氧基乙基)异氰尿酸酯、三(丙烯酰基氧基乙基)氰尿酸酯、甘油三(甲基)丙烯酸酯、在三羟甲基丙烷或甘油等多官能醇上加成环氧乙垸或环氧丙烷之后，再(甲基)丙烯酸酯化的物质等多官能(甲基)丙烯酸酯。进而还可以举出特公昭48—41708号公报、特公昭50—6034号公报及特开昭51—37193号的各公报中公开的氨基甲酸酯丙烯酸酯类；特开昭48—64183号公报、特公昭49—43191号公报及特公昭52—30490号的各公报中公开的聚酯丙烯酸酯类；作为环氧树脂与(甲基)丙烯酸的反应生成物的环氧丙烯酸酯类等多官能丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯。其中，优选三羟甲基丙垸三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯。光聚合性单体可以单独使用或混合两种以上使用。光聚合性单体相对记录材料用树脂组合物的全部固体成分的含量通常为550质量％，优选为1040质量％。如果该含量在所述范围内，则光感度或图像的强度也不会降低，感光性遮光膜的粘合性也不会变得过剩。所述记录材料用树脂组合物除了所述成分以外，优选进一步含有热聚合抑制剂。该热聚合抑制剂的例子包括氢醌、对甲氧基苯酚、对叔丁基一儿茶酚、2，6—二叔丁基对甲酚、P—萘酚、邻苯三酚等芳香族羟基类；苯醌、对甲苯醌等醌类；萘胺、吡啶、对甲苯胺、吩噻嗪等胺类；N—亚硝基苯基羟胺的铝盐或铵盐、氯醌、硝基苯、4，4'一硫代双(3—甲基一6—叔丁基苯酚)、2，2'—亚甲基双(4一甲基一6—叔丁基苯酚)、2—巯基苯并咪唑嗪等。根据需要，也可以在所述记录材料用树脂组合物中含有各种添加剂，例如增塑剂、表面活性剂、粘附促进剂、分散剂、增塑剂、防淌剂、流平剂、消泡剂、阻燃剂、光亮剂、溶剂等。一一粘附促进剂一一作为所述粘附促进剂，例如可以举出烷基酚/甲醛酚醛清漆树脂、聚乙烯基乙醚、聚乙烯异丁基醚、聚乙烯醇缩丁醛、聚异丁烯、苯乙烯一丁二烯共聚物橡胶、丁基橡胶、氯乙烯一醋酸乙烯共聚物、氯化橡胶、丙烯酸树脂系粘合剂、芳香族系、脂肪族系或脂环族系的石油树脂、硅垸偶合剂等。另外，在以水分散物的方式使用本发明中的金属粒子的至少一种的情况下，作为所述记录材料用树脂组合物，也可以使用水系的树脂组合物。作为这样的记录材料用树脂组合物，除了特开平8—271727号公报的段落中记载的以外，作为市售的记录材料用树脂组合物，例如可以举出东洋合成工业(株)制的"SPP—M20"等。一一表面活性剂一一作为表面活性剂，只要是能够与记录材料用树脂组合物(或感光性树脂层)的构成成分互混的表面活性剂即可使用。作为优选的表面活性剂，可以优选举出特开2003—337424号公报的段落编号、特开2003—177522号公报的段落编号、特开2003—177523号公报的段落编号、特开2003—177521号公报的段落编号、特开2003—177519号公报的段落编号、特开2003—177520号公报的段落编号、特开平11—133600号公报的段落编号以及特开平6—16684号公报中记载的表面活性剂。从得到更高效果的观点出发，优选选择氟系表面活性剂及/或硅系表面活性剂(包括氟系表面活性剂或者硅系表面活性剂、含有氟原子与硅原子的双方的表面活性剂。)的任意一种或2种以上，最优选氟系表面活性剂。在使用氟系表面活性剂的情况下，该表面活性剂分子中的含氟取代基的氟原子数优选为138，更优选为525，最优选为720。如果氟原子数在所述范围内，则溶解性良好的同时可以得到不均的改善效果，从该点出发，优选。一一溶剂——在所述记录材料用树脂组合物的配制中，除了上述成分以外，也可以进一步使用有机溶剂。作为所述有机溶剂的例子，可以举出甲乙酮、丙二醇一甲醚、丙二醇一甲醚乙酸酯、环己酮、环己醇、甲基异丁基酮、乳酸乙酯、乳酸甲酯、己内酰胺等。一一紫外线吸收剂一一在所述记录材料用树脂组合物中也可以根据需要含有紫外线吸收剂。作为紫外线吸收剂，除了特开平5—72724号公报中记载的化合物以外，还可以举出水杨酸酯系、二苯甲酮系、苯并三唑系、氰基丙烯酸酯系、镍螯合物系、位阻胺系等。具体而言，可以举出苯基水杨酸酯、水杨酸4一叔丁基苯基酯、2，4一二叔丁基苯基一3'，5'—二一叔一4'一羟基苯甲酸酯、水杨酸4一叔丁基苯基酯、2，4一二羟基二苯甲酮、2—羟基一4一甲氧基二苯甲酮、2—羟基一4一正辛氧基二苯甲酮、2—(2'—羟基一5，一甲基苯基)苯并三唑、2—(2'—羟基一3，一叔丁基一5，一甲基苯基)一5—氯苯并三唑、乙基_2一氰基一3，3—二苯基丙烯酸酯、2，2'—羟基一4—甲氧基二苯甲酮、二丁基二硫代氨基甲酸镍、双(2，2，6，6—四甲基一4一吡啶)一癸二酸酯、4一叔丁基苯基水杨酸酯、水杨酸苯基酯、4一羟基一2，2，6，6—四甲基哌啶縮合物、琥珀酸一双(2，2，6，6—四甲基一4一亚哌啶基(piperidenyl))—酯、2—[2—羟基一3，5—双(a，a—二甲基节基)苯基]一2H—苯并三唑、7—{[4—氯一6—(二乙基氨基)一5—三嗪一2—酰基]氨基}一3—苯基香豆素等。另外，在所述记录材料用树脂组合物中，除了上述添加剂以外，还可以含有特开平11一133600号公报的段落编号中记载的"粘接助剂"或其他添加剂等。为了制作记录材料而使用所述记录材料用树脂组合物。本发明中所述的"记录材料"是指用于使用光、热、电子束、静电力、磁力、物理力等来形成图像的材料例如遮光膜。作为具体的记录方法，包括光刻法、喷墨法、银盐照片等，记录材料是指在其中使用的材料。记录材料用树脂组合物(包括感光性及/或热固化性的组合物。)可以优选用于本发明中的遮光膜(例如构成滤色片的黑矩阵等)的制作，在形成黑矩阵的情况下，能够得到为薄膜且光密度高、在进行图像显示时可以以高对比度进行鲜明的图像显示的黑矩阵。(遮光膜的形成方法)<遮光膜的形成方法、感光性转印材料>本发明中的遮光膜至少含有树脂及其前体的至少一种和本发明中的金属粒子而成，也可以进一步含有其他成分，特别有效使用已述的记录材料用树脂组合物从而构成。另外，在使用含有树脂的前体的记录材料用树脂组合物的情况下，本发明中的遮光膜也可以含有未反应的前体。本发明中的遮光膜也可以利用配制含有树脂及其前体的至少一种和本发明中的金属粒子的树脂组合物，涂敷、干燥该组合物，形成树脂层(包括感光性树脂层)，将其形成图案的方法(涂敷法)，以及制作设置有所述组合物的层的转印材料，转印该层，形成感光性树脂层，将其形成图案的方法(转印法)的任意一种方法形成。其中，对形成图案的方法没有特别限制，具体情况如后述。所述树脂层(包括感光性树脂层)可以通过利用公知的涂敷法涂敷所述记录材料用树脂组合物并使其干燥从而优选地形成，在本发明中，优选使用在喷出液体的部分具有缝隙状的孔的缝隙状喷嘴进行所述涂敷。具体而言，可以优选使用在特开2004—89851号公报、特开2004—17043号公报、特开2003—170098号公报、特开2003—164787号公报、特开2003—10767号公报、特开2002—79163号公报、特开2001—310147号公报等中记载的缝隙状喷嘴以及缝隙涂敷机。此外，可以通过使用例如旋转器、旋转机(whirler)、辊涂机、帘式涂料机、刮板涂敷机、拉丝锭涂敷机、挤压机等涂敷机使其涂敷干燥来形成。另外，在利用转印法的情况下，可以通过使用后述的感光性转印材料，在构成最终的支撑体的基板上转印感光性树脂层，来形成感光性树脂层。感光性转印材料接着，对利用转印法的情况下使用的感光性转印材料进行说明。如上所述，可以制作具有使用含有本发明中的金属粒子的组合物、特别是具有感光性的记录材料用树脂组合物而成的感光性树脂层的感光性转印材料，利用使用该感光性转印材料的转印法制作本发明中的遮光膜(黑矩阵等)。由于所述感光性转印材料设置己述的含有本发明中的金属粒子的感光性树脂层、特别是由记录材料用树脂组合物构成的感光性树脂层，所以可以最优选地制作即使在高温域下热稳定性也出色而且为薄膜且光密度高的遮光膜。所述感光性转印材料是在临时支撑体上设置使用记录材料用树脂组合物形成的感光性树脂层的材料，根据需要可以设置热塑性树脂层、中间层或保护薄膜等。所述感光性树脂层的层厚优选0.22^m的范围，从容易形成感光性树脂层的点出发，特别优选0.20.9pm的范围。对于临时支撑体、热塑性树脂层以及中间层，在特开2005—17322号公报的段落编号中有记载，在本发明中也可以参考该记载。一热塑性树脂层一所述感光性转印材料在所述感光性树脂层与临时支撑体之间至少设置有一层热塑性树脂层。热塑性树脂层可以进行碱显影，从可以防止在转印时溢出的热塑性树脂层自身引起的被转印体的污染的点出发，所以优选为碱可溶性。在向被转印材料转印所述感光性树脂层时，该热塑性树脂层具有作为有效地防止存在于被转印材料上的凹凸引起的转印不良的缓冲材料的功能，可以对应将感光性转印材料向被转印材料加热压接时的被转印材料上的凹凸而发生变形，能够提高感光性树脂层与被转印材料的粘附性。作为所述热塑性树脂层的层厚优选为0.120pm。如果层厚在所述范围内，则从转印时的临时支撑体的剥离性出色，同时可以有效地吸收被转印材料上的凹凸，也不会在感光性树脂层上产生网纹从而引起转印不良。另外，更优选为1.516pm，最优选515.0^im。此外，所述网纹是指由于吸湿等原因，在中间层延伸等时，柔软的缓冲层发生压曲而在感光性树脂层的表面发生细"皱纹"，成为转印不良的原因。所述热塑性树脂层可以至少使用热塑性树脂构成，根据需要也可以适当使用其他成分。作为热塑性树脂，可以没有特别限制地适当选择，实际上的软化点优选为8(TC以下。作为实际上的软化点为8CTC以下的热塑性树脂，例如可以优选举出乙烯与丙烯酸酯共聚物的皂化物、苯乙烯与(甲基)丙烯酸酯共聚物的皂化物、乙烯基甲苯与(甲基)丙烯酸酯共聚物的皂化物、聚(甲基)丙烯酸酯或(甲基)丙烯酸丁酯与醋酸乙烯酯等的(甲基)丙烯酸酯共聚物等的皂化物等。另外，还可以举出在"7。，7千:y夕性能便覧"(日本塑料工业连盟，全日本塑料成形工业连合会编著，工业调查会发行，1968年10月25日发行)中记载的软化点约为8(TC以下的有机高分子中为碱溶性的热塑性树脂。它们可以单独使用一种，也可以并用两种以上。另外，作为实际上的软化点为80'C以下的热塑性树脂，进而可以举出其自身为软化点在8(TC以上的有机高分子物质，也可以向该有机高分子物质中添加与该有机高分子物质具有互溶性的各种增塑剂，将实际上的软化点降到80'C以下的热塑性树脂。作为所述增塑剂，没有特别限制，可以根据目的适当选择，例如可以举出聚丙二醇、聚乙二醇、邻苯二酸二辛酯、邻苯二酸二庚酯、邻苯二酸二丁酯、磷酸三甲苯酯、磷酸甲苯基二苯基酯、磷酸联苯基二苯基酯等。除了所述热塑性树脂以外，作为其他成分，为了调解与临时支撑体的粘接力，在实际上的软化点不超过8(TC的范围内，也可以在热塑性树脂层中添加各种聚合物、过冷却物质、粘附改良剂、表面活性剂、脱模剂等。一中间层一在涂敷多层时以及涂敷后的保存时，为了防止各成分之间的混合，优选在感光性转印材料上设置中间层。特别优选设置于在临时支撑体上设置的所述热塑性树脂层的上面、该热塑性树脂层与所述感光性树脂层之间。热塑性树脂层与感光性树脂层的形成可以使用有机溶剂，通过设置中间层，可以防止两层彼此混杂在一起。作为中间层，优选为分散或溶解于水或碱水溶液的中间层。中间层的构成材料可以使用公知的材料，例如可以举出特开昭46—2121号公报及特公昭56—40824号公报中记载的聚乙烯醚/马来酸酐聚合物、羧基烷基纤维素的水溶性盐、水溶性纤维素醚类、羧基烷基淀粉的水溶性盐、聚乙烯醇、聚乙烯基吡咯烷酮、聚丙烯酰胺类、水溶性聚酰胺、聚丙烯酸的水溶性盐、明胶、环氧乙烷聚合物、由各种淀粉及其类似物构成的组的水溶性盐、苯乙烯/马来酸的共聚物、马来酸酯树脂等。这些成分可以单独使用一种，也可以并用两种以上。在所述成分中，优选使用水溶性树脂即水溶性的高分子材料，其中，更优选至少使用聚乙烯醇，特别优选聚乙烯醇与聚乙烯吡咯烷酮之间的并用。作为所述聚乙烯醇，没有特别限制，可以根据目的适当选择，其皂化度优选为80mol^以上。使用聚乙烯吡咯垸酮的情况下，其含量相对中间层的固体成分，优选为175质量％，更优选为160质量％，特别优选1050质量％。如果该含量在所述范围内，则可以得到与热塑性树脂层之间的充分的粘附性，阻氧性能也良好。中间层优选氧透过率小。即，优选由具有阻氧功能的阻氧膜构成，这样，曝光时的感度提高，可以减低曝光机的时间负荷，提高生产率，同时还可以提高析像度。中间层的层厚优选为0.15pm左右，更优选为0.52pm。如果中间层的厚度在所述范围内，则阻氧性不会降低，另外，还可以防止显影时的中间层除去时间增大。一临时支撑体一作为临时支撑体，优选在不妨碍转印的程度下相对所述热塑性树脂层具有剥离性，优选对化学热稳定且具有挠性。作为临时支撑体的材料，没有特别限制，可以根据目的适当选择。作为该临时支撑体，例如可以举出聚四氟乙烯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、聚乙烯、聚丙烯等。对临时支撑体的结构没有特别限制，可以根据目的适当选择，可以为单层结构、层叠结构的任意一种。另外，从保证与所述热塑性树脂层之间具有良好的剥离性的观点出发，优选在临时支撑体上进行电晕放电等表面处理，优选也不设置明胶等底涂层。临时支撑体的厚度优选为530(Vm左右，更优选为20150pm。另外，临时支撑体优选在其至少一方的表面具有导电性层或者临时支撑体自身具有电导性。如果临时支撑体为具有这样的电导性的结构，则在被转印体上粘附具备临时支撑体的感光性转印材料之后剥离临时支撑体21的情况下，该临时支撑体或该被转印体等不会带电进而吸引周围的灰尘等。结果，即使在剥离该临时支撑体后，也不会在热塑性树脂层上附着灰尘等，可以有效地防止在之后的曝光过程中随着产生多余的未曝光部而形成气孔。在临时支撑体上的导电性层或具有电导性的临时支撑体的表面的表面电阻优选为IO"Q以下。具有电导性的临时支撑体可以通过在该临时支撑体中含有导电性物质得到。作为导电性物质，没有特别限制，可以根据目的适当选择，例如可以举出金属氧化物、防静电剂等。作为所述金属氧化物，例如可以举出氧化锌、氧化钛、氧化锡、氧化铝、氧化铟、氧化硅、氧化镁、氧化钡、氧化钜等。它们可以单独使用1种，也可以并用两种以上。另外，作为金属氧化物的形态，可以举出结晶微粒、复合微粒等。作为所述防静电剂，例如可以举出ELECA(花王(株)制)、埃勒嫩(工P/y)No.19(第一工业制药(株)制)等烷基磷酸盐系阴离子表面活性剂、阿莫兼(7千一歹y)K(第一工业制药(株)制)等甜菜碱系两性表面活性剂、日产非离子(二、乂步y乂二才y)L(日本油脂(株)制)等聚氧乙烯脂肪酸酯系非离子表面活性剂、EMULGEN106、同120、同147、同420、同220、同905、同910(花王(株)制)或日产非离子(二、;/廿y/二才y)E(日本油脂(株)制)等聚氧化乙烯垸基醚系非离子表面活性剂、聚氧乙烯烷基酚醚系、多元醇脂肪酸酯系、聚氧乙烯山梨糖醇酐脂肪酸酯系、聚氧乙烯垸基胺系等其他非离子系表面活性剂。它们可以单独使用l种，也可以并用两种以上。所述导电性层，可以从使用公知的导电性物质的构成中适当选择形成。作为所述导电性物质，从不被温度环境影响而可以得到稳定的导电效果的点出发，例如优选ZnO、Ti02、Sn02、A1203、ln203、Si02、MgO、BaO、Mo03等。它们可以单独使用l种，也可以并用两种以上。所述金属氧化物或所述导电性物质的体积电阻值优选为107Q，cm以下，更优选为10SQ，cm以下。另外，所述金属氧化物或所述导电性物质的粒径优选为0.010.7|im，更优选为0.020.5pm。所述导电性层中，作为粘合剂，例如可以使用明胶、硝酸纤维素、三乙酸纤维素、二醋酸纤维素、乙酸丁酸纤维素、乙酸丙酸纤维素等纤维素酯、含有偏氯乙烯、氯乙烯、苯乙烯、丙烯腈、醋酸乙烯酯、碳原子数为14的丙烯酸烷基酯、乙烯基吡咯烷酮等的均聚物或共聚物、可溶性聚酯、聚碳酸酯、可溶性聚酰胺等。除所述以外，作为其他层，可以在感光性转印材料上进一步设置保护薄膜等。所述保护薄膜具有在保管时保护感光层不受污染或损伤等功能，可以用与临时支撑体相同或类似的材料构成。作为保护薄膜，只要是可以容易地从感光性树脂层剥离的保护薄膜即可，例如可以优选举出硅纸、聚烯烃片材、聚四氟乙烯片材等。其中，优选聚乙烯片材或薄膜、聚丙烯片材或薄膜。保护薄膜的厚度优选为5100pm左右，更优选为103(Him。感光性转印材料可以优选通过以下操作制作，即在临时支撑体上，涂敷与热塑性的有机高分子(热塑性树脂)一起溶解添加剂而成的溶解液(热塑性树脂层用涂敷液)，使其干燥，设置热塑性树脂层，然后，在该热塑性树脂层上涂敷在不溶解热塑性树脂层的溶剂中加入树脂或添加剂配制而成的配制液(中间层用涂敷液)，使其干燥，层叠中间层，在该中间层上，进一步涂敷使用不溶解中间层的溶剂而如上所述配制而成的感光性树脂组合物(赋予感光性的所述记录材料用树脂组合物)，使其干燥，层叠感光性树脂层。除了利用所述以外，感光性转印材料也可以通过如下所述的操作制作，即准备在临时支撑体上从该临时支撑体侧依次设置热塑性树脂层及中间层而成的第1片材，和在保护薄膜上设置感光性树脂层而成的第2片材，贴合第l片材的中间层表面与感光性树脂层的表面，从而使其接触。另外，进而，感光性转印材料也可以通过如下所述的操作制作，g卩准备在临时支撑体上设置热塑性树脂层而成的第1片材，和在保护薄膜上从该保护薄膜侧依次设置感光性树脂层及中间层而成的第2片材，贴合第1片材的中间层表面与第2片材的热塑性树脂层的表面，从而使其接触。感光性转印材料的制作所述感光性转印材料可以通过如下所述的过程制作，即利用例如旋转器、旋转机(whirler)、辊涂机、帘式涂料机、刮板涂敷机、拉丝锭涂敷机等涂敷机，在临时支撑体上涂敷优选具有感光性的记录材料用树脂组合物的溶液，并使其干燥。另外，除了感光性树脂层以外，设置热塑性树脂层、中间层等其他层的情况也可以同样地形成。遮光膜的形成方法接着，对本发明中的遮光膜的形成方法进行说明。以下以将黑矩阵作为本发明中的遮光膜为例，说明黑矩阵的图案形成方法的一例。第1方法是首先，将含有树脂或其前体和本发明中的金属粒子并具有感光性的组合物涂敷于基板上，作为黑色材料，形成感光性树脂层。然后，进行曝光，显影，通过除去构成黑矩阵的图案以外的部分的感光性树脂层，进行图案形成，成为黑矩阵的方法。另外，也可以在感光性树脂层上形成与所述中间层为相同组成的层，作为保护层。涂敷优选使用缝隙状喷嘴或缝隙涂敷机。第2方法是首先，将含有树脂或其前体和本发明中的金属粒子的非感光性的组合物涂敷于基板上，作为黑色材料，形成含有本发明中的微粒的涂敷膜。然后，在该涂敷膜上涂敷感光性抗蚀剂液，形成抗蚀剂层，接着通过曝光，对抗蚀剂层进行曝光，显影，在抗蚀剂层上形成图案，然后对应该图案，溶解非图案部(不构成黑矩阵的部分)，进行图案化。最后，除去抗蚀剂层，形成黑矩阵的方法。第3方法是预先在基板上的非图案部(不构成黑矩阵的部分)形成涂敷层，在其上涂敷含有树脂或其前体和本发明中的金属粒子的非感光性的组合物，作为黑色材料，形成含有本发明中的微粒的遮光膜。接着，与层叠有预先形成的涂敷层的遮光膜一起除去，形成黑矩阵的方法。第4方法是利用己述的使用感光性转印材料的转印法的方法。艮口，使用已述的感光性转印材料，在基板(即，最终的支撑体)上至少转印感光性树脂层，将在基板上转印的至少感光性树脂层曝光成图案状，然后显影处理已曝光的感光性树脂层，显影除去不需要部分(不构成作为遮光膜的黑矩阵的部分)，进而加热显影处理后的至少感光性树脂层，实施烘焙处理的方法。具体而言，通过在光透过性基板上配制并贴合具有含有本发明中的金属粒子的感光性树脂层的所述感光性转印材料，使其接触感光性转印材料的感光性树脂层，接着，从感光性转印材料与光透过性基板的层叠体剥离临时支撑体，然后借助遮光膜形成用光掩模，曝光、显影感光性树脂层，进行图案化，由此形成黑矩阵。该方法不需要烦琐的工序，成本低。如上所述地进行，可以得到形成有使用树脂或其前体和本发明中的金属粒子的黑矩阵(遮光膜)的带遮光膜的基板，可以通过在该基板上设置红色(R)、绿色(G)、蓝色(B)的着色像素(后述的着色层)，制作滤色片。具体而言，可以利用在带遮光膜的基板上形成已着色成R、G或B的感光性树脂层(着色层)，重复对其进行曝光、显影的操作的次数以达到需要的颜色数的方法等公知的方法来制作。作为在该遮光膜基板上形成已着色的感光性树脂层的方法，特别优选(a)利用公知的涂敷法涂敷已述的记录材料用树脂组合物的方法(涂敷法)以及(b)使用已述的感光性树脂转印材料，用层合机等贴附，从而转印的方法(转印法)。(a)涂敷法在组合物的涂敷中，使用缝隙状喷嘴或缝隙涂敷机。缝隙状喷嘴及缝隙涂敷机的优选具体例等如上所述。(b)转印法利用转印的情况下，在带遮光膜的基板面上用加热及/或加压的辊或平板压接或加热压接已形成为膜状的感光性树脂层从而使其贴附，进而剥离转印。具体而言，可以举出特开平7—110575号公报、特开平11_77942号公报、特开2000—334836号公报、特开2002—148794号公报中记载的层合机以及层叠方法，从低异物的观点出发，优选使用特开平7—110575号公报中记载的方法。作为形成本发明中的遮光膜的基板，优选为透明基板，例如可以举出在表面具有氧化硅被膜的钠钙玻璃板、低膨胀玻璃板、无碱玻璃、石英玻璃板等公知的玻璃板或者塑料薄膜等。另外，基板通过预先实施偶合处理，可以使其与记录材料用树脂组合物或感光性转印材料的感光性树脂层之间的粘附良好。作为偶合处理，可以优选使用特开2000—191926号公报的段落编号中记载的方法或特开2000—340696号公报的段落编号中记载的方法等公知的方法。另外，如上所述地进行，形成感光性树脂层，设置遮光膜或着色层的情况下，可以在感光性树脂层上进一步设置阻氧膜。这样，可以提高曝光感度，作为该阻氧膜，可以与已述的感光性转印材料的中间层中的构成相同。在形成感光性树脂层设置遮光膜或着色层的情况下，可以如下所述地进行己着色的感光性树脂层的曝光、显影。在基板上形成的感光性树脂层的上方配置规定的掩模，借助该掩模以及情况不同时借助热塑性树脂层及中间层，从掩模的更上方(不与掩模的感光性树脂层对置的一侧)曝光(曝光工序)，曝光结束后，进行使用显影液的显影处理(显影工序)。作为所述曝光中使用的光源，只要是能够照射可以固化感光性树脂层的波长区域的光(例如365nm、405nm等)的光源，就可以适当选择使用。具体而言，可以举出超高压汞灯、高压汞灯、金属卤化物灯等。作为曝光量，通常为5200mJ/cm2左右，优选为10100mJ/cm2左右。作为所述显影液，没有特别限制，可以使用特开平5—72724号公报中记载的等公知的显影液。另外，显影液优选感光性树脂层进行表现溶解性的显影动作的显影液，例如，以0.055mol/l的浓度含有pKa=713的化合物的显影液，但也可以少量添加与水具有混合性的有机溶剂。作为与水具有混合性的有机溶剂，可以举出甲醇、乙醇、异丙醇、正丙醇、丁醇、双丙酮醇、乙二醇一甲醚、乙二醇一乙醚、乙二醇一正丁醚、苄醇、丙酮、甲乙酮、环己酮、s—己内酯、丁内酯、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、六甲基磷酰胺、乳酸乙酯、乳酸甲酯、s—己内酰胺、N—甲基吡咯烷酮等。有机溶剂的浓度通常在0.130质量。％。另外，在显影液中可以进一步添加公知的表面活性剂。添加时的添加浓度优选为0.0110质量％。作为显影的方式，可以使用搅拌式(paddle)显影、喷淋显影、喷淋&旋转显影、浸渗显影等任意一种方法。在此，说明一下喷淋显影。在利用喷淋显影的情况下，可以通过利用喷淋向曝光工序后的感光性树脂层喷射显影液，除去未固化部分。另外，优选在显影前利用喷淋等喷射感光性树脂层的溶解性低的碱性液体，除去热塑性树脂层、中间层等。另外，优选在显影之后，利用喷淋喷射洗涤剂等，一边用刷子等擦洗，一边除去显影残余物。显影液的液体温度优选为204(TC，另外显影液的pH优选为813。接着，显示利用转印法形成黑矩阵的具体例，从而对本发明中的遮光膜的形成方法更详细地说明。不过，本发明不被其所限定。黑矩阵优选经由使用已述的感光性转印材料在基板上转印感光性树脂层的转印工序、至少曝光1次在基板上转印的感光性树脂层的曝光工序和至少显影处理1次曝光后的感光性树脂层的显影工序来制造。也可以进一步经由至少热处理1次显影后的感光性树脂层。具体如下所述。i)基板清洗首先，准备无碱玻璃基板(以下简称为"基板"。)，在转印工序之前为了除去基板面的污物而预先进行清洗。例如，利用喷淋，喷射20秒钟已调整为25。C的玻璃洗涤剂液(商品名T—SD1、T一SD2、T—SD3，富士胶片(株)制)，同时用具有尼龙毛的旋转刷清洗，进而进行纯水喷淋清洗。ii)硅烷偶合处理在后面的转印工序中为了增加层叠时的感光性树脂层的粘附性而优选实施硅烷偶合处理。作为硅烷偶合剂，优选具有与感光性树脂相互作用的官能团。例如利用喷淋，喷射硅垸偶合液(N—p(氨基乙基)Y—氨基丙基三甲氧基硅垸0.3质量％水溶液，商品名KBM603，信越化学工业(株)制)20秒钟，用纯水喷淋清洗。然后，利用加热使其反应。也可以使用加热槽，还可以用层合机的基板预热而促进反应。iii)层叠(转印工序)用基板预热装置以IO(TC加热该清洗及硅垸偶合处理后的基板2分钟，送至下一个层合机。这样，可以均匀地进行层叠。接着，在剥离感光性转印材料的保护薄膜之后，使用层合机，向加热至IO(TC的基板，以胶辊温度130°C、线压力100N/cm、输送速度2.2m/份的条件层叠。胶辊温度优选为超过IO(TC不到150°C。如果所述温度在15(TC以上，则在转印材料上出现皱纹，如果在10(TC以下，则有时感光性树脂层的粘附变弱。iv)曝光(曝光工序)在剥离临时支撑体之后，用具有超高压汞灯的近接式曝光机曝光成图案状。基板尺寸为50cm以上的情况下，从防止掩模的挠曲的观点出发，优选以基板与掩模(具有图像图案的石英曝光掩模)一起垂直立起的状态进行曝光。曝光掩模面与感光性树脂层表面之间的距离越短，则析像越好，但由于容易附着异物，所以优选为100300pm。曝光量优选为1080mJ/cm。v)热塑性树脂层及中间层的除去在曝光之后，用三乙醇胺系显影液T一PD1(含有2.5%的三乙醇胺、含有非离子表面活性剂、含有聚丙烯系消泡剂；富士胶片(株)制)等显影除去热塑性树脂层和中间层。此时，理想的是，将条件等设定成感光性树脂层完全不被显影。例如，优选以30°C、50秒钟、扁平喷嘴压力0.04MPa，供给成喷淋状的方式。vi)感光性树脂层的显影(显影工序)接着，用碱显影感光性树脂层，形成构成黑矩阵的图案。例如，使用碳酸钠系显影液T一CD1(富士胶片(株)制)。作为条件，以35。C、35秒钟、圆锥型喷嘴压力0.15MPa，进行喷淋等。作为显影液，也可以使用KOH系、TMAH系。vii)残余物除去接着，例如使用洗涤剂T—SD1(富士胶片(株)制或T一SD2及T一SD3;富士胶片(株)制)等，进行残余物除去，未曝光部的感光性树脂层的残余成分得以除去。以33'C、20秒钟、圆锥型喷嘴压力0.02MPa的条件，进行喷淋和用具有尼龙毛的旋转刷进行旋转等。vm)后曝光接着，对基板，从形成有图案的一侧，用超高压汞灯，以1000mJ/cm2左右，进行后曝光。这样，之后的烘焙的聚合效果提高，而且可以利用后曝光的量调节烘焙后的黑矩阵的截面形状。也可以从两面实施，另外，可以在10010000mJ/cm2的范围中选择。ix)烘焙处理(烘焙工序)为了使单体或寡聚物反应而成为硬的膜，进行烘焙处理。烘焙优选在2820024(TC下进行1020分钟左右。在形成黑矩阵之后，在进一步与所述同样地进行形成RGB的着色像素的情况下，优选在黑矩阵形成时用所述条件进行烘焙的同时，形成黑矩阵及着色像素，然后进而在200240"C下热处理30180分钟。这些温度和时间优选以烘焙引起的颜色的变化(带黄色等)少且不减低生产节拍的方式设定成较高的温度且较短的时间。如后所述，本发明中的遮光膜(包括黑矩阵。)可以优选适用于由公知的构件构成的液晶显示装置中。<带遮光膜的基板>所述带遮光膜的基板是在基板上设置已述的本发明中的遮光膜而构成的构件。具体而言，在光透过性基板上，使用含有树脂及其前体的至少一种和本发明中的金属粒子的组合物(优选所述的记录材料用树脂组合物)，如上所述地形成层(包括利用转印法形成的感光性树脂层)，将该层形成图案，由此来制作。所述带遮光膜的基板作为设置有黑矩阵(遮光膜)的黑矩阵基板，可以在制作滤色片时优选使用。成为黑矩阵基板时的遮光膜的膜厚优选为0.22.0nm，特别优选为0.20.9pm。<着色层>本发明中的着色层是在基板上具有所述遮光膜和由具有2种以上颜色的多种像素构成的像素组的层。作为形成该着色层的方法，可以使用与在所述遮光膜的形成中使用的涂敷法或转印法相同的方法。另外，作为形成着色层的着色组合物，优选使用在能够在所述遮光膜或后述的光学间隙材的形成中使用的感光性组合物中含有着色剂的着色组合物。作为所述着色剂，可以举出染料、颜料等。对于优选的颜料的种类、尺寸等，例如可以从特开平11_149008号公报中的记载适当选择。在使其含有颜料等着色剂的情况下，可以形成着色像素。可以使用的颜料可以举出填充颜料或着色颜料。作为填充颜料，可以没有特别限制地根据目的适当选择，例如可以优选举出特开2003—302639号公报的段落编号中记载的填充颜料。作为着色颜料，可以优选举出特开2003一302639号公报的段落编号中记载的颜料。另外，构成所述着色层的所述像素组由呈彼此不同颜色的2种颜色的像素构成，也可以由3种颜色的像素、4种颜色以上的像素构成。例如，为3种颜色的情况下，由红(R)、绿(G)及蓝(B)的3种色相构成。在配置RGB3种颜色的像素组的情况下，优选嵌镶型、三角型等配置，配置4种颜色以上的像素组的情况下，可以为任意配置。形成有着色层的基板(滤色片)的制作例如可以在形成2种颜色以上的像素组之后形成着色膜，也可以相反在形成着色膜之后形成像素组。对于RGB像素的形成，可以参考特开2004—347831号公报等。<光学间隙材>本发明中的光学间隙材是用于调节所述基板间的单元厚度的间隙材。另外，所述光学间隙材是使用光学间隙材形成用感光性树脂组合物或由该感光性树脂组合物构成的光学间隙材形成用感光性树脂层形成的。这样地进行形成的光学间隙材在使其塑性变形时显示出高(优选705^以上)的变形恢复率，具有充分的力学特性，所以可以有效地保持液晶单元的单元厚度。所以，所述光学间隙材可以在液晶单元的单元厚度的变动容易引起显示不均的液晶显示装置用途中优选使用。作为本发明中的光学间隙材的变形恢复率，用50pmO的圆锥台压头，对17pmO的光学间隙材，在负载速度0.145gf/秒、最大负荷78mN、保持时间5秒、测定温度23'C的条件下，以进行负载一除荷试验时的变形恢复率，优选为70%以上，更优选为80%以上，进而优选为85%以上。如果变形恢复率在上述范围内，则可以对抗来自外部的压縮强度，防止面板形成时的塑性变形，得到所需的液晶层厚度。结果，可以消除厚度变化引起的显示不均，高图像质量图像的显示成为可能。所述光学间隙材优选设置于所述遮光膜上。通过在遮光膜上设置，可以防止光学间隙材引起的光漏出，提高显示质量。另外，也可以设置在遮光膜与着色层互相重叠的部分上，这种情况下，即使为高度低的光学间隙材，也可以保持充分的单元间距，优选。进而，本发明中的遮光膜和光学间隙材的膜厚变动小，所以可以减小在该遮光膜与光学间隙材中规定的单元厚度的厚度变动，结果提高了显示质量。特别是单元厚度为24pm的薄膜构成的情况下，可以有效地防止液晶显示元件显示的图像中的显示不均。本发明中的光学间隙材可以用与在上述遮光膜的项目中已说明的制造方法同样的制造方法制作。涂敷形成上述光学间隙材用感光性树脂层的情况下，其层厚优选为0.510.0pm，更优选为l6pm。如果层厚在上述范围内，则可以防止在制造时涂敷形成时的气孔的发生，不需要长时间进行未曝光部的显影除去，所以优选。光学间隙材用感光性树脂组合物接着，对光学间隙材用感光性树脂组合物进行说明。优选在本发明中的光学间隙材用感光性树脂组合物中使用具有感光性的可以进行碱显影的树脂组合物。其中，可以至少含有(A)高分子物质和(B)聚合性单体和(C)光聚合引发剂，根据需要，使用着色剂或表面活性剂等(D)其他成分构成。(A)高分子物质高分子物质具有在形成光学间隙材时的粘合剂成分的功能，优选其自身具有交联基。高分子物质可以为由根据目的等适当选择的单体的自聚体以及由多种单体构成的共聚物的任意一种，作为高分子物质优选的所述共聚物的具体例除了所述的"树脂"以外，可以举出特开2003—131379号公报中记载的共聚物或特开2003—207787号公报中记载的树脂。不过，在本发明中，不限定于这些。作为高分子物质在光学间隙材用感光性树脂组合物(或感光性树脂层)中的含量，相对该组合物或该层的固体成分，优选为3070质量％，更优选为4050质量％。(B)聚合性单体作为聚合性单体，优选为具有交联基的单体，特别是可以没有特别限定地根据目的适当选择具有至少1个可以加聚的乙烯性不饱和基的聚合性单体。作为所述聚合性单体，可以使用在所述中例示的聚合性单体，例如可以举出酯化合物、酰胺化合物以及其他化合物。具体而言，可以举出所述"光聚合性单体"或特开2003—131379号公报中记载的单体。不过，在本发明中，不限定于这些。聚合性单体除了单独使用l种以外，也可以并用2种以上。作为聚合性单体在光学间隙材用感光性树脂组合物(或感光性树脂层)中的含量，相对该组合物或该层的全部固体成分，优选为1060质量％，更优选为2050质量％。在本发明中，在光学间隙材用感光性树脂组合物中，作为所述高分子物质的含量B(质量。/0与所述聚合性单体的含量M(质量X)之比(M/B)，优选为0.61.5。另外，比M/B的范围更优选为0.71.0。(C)光聚合引发剂作为光聚合引发剂，优选至少含有1种在大约300500nm的波长区域具有约50以上的摩尔消光系数的成分。例如可以举出所述"光聚合引发剂"或在特开平2—48664号公报、特开平1—152449号公报以及特开平2—153353号公报中记载的芳香族酮类、氧化苦杏素2聚体、苯偶姻、苯偶姻醚类、多卤化物类、卤代烃衍生物、酮化合物、酮肟化合物、有机过氧化物、硫化合物、六芳基联二咪唑、芳香族鎗盐、酮肟醚等。在所述中，优选4，4'一双(二乙基氨基)二苯甲酮与2—(邻氯苯基)一4，5—二苯基咪唑2聚体的组合、4一[p—N，N，一二(乙氧羰基甲基)一2，6—二(三氯甲基)一s—三嗪]、2，4—双一(三氯甲基)一6一[4一(N，N，一二乙氧羰基甲基氨基)一3—溴苯基]一s—三嗪等。光聚合引发剂可以单独使用l种，也可以并用两种以上。作为光聚合引发剂在光学间隙材用感光性树脂组合物(或感光性树脂层)中的含量，相对该组合物或该层中的交联基的量，优选为0.62.82摩尔/摩尔，更优选为1.02.0摩尔/摩尔。如果该含量在所述范围内，则可以均匀地保持制作的光学间隙材的高度。(D)其他成分光学间隙材用感光性树脂组合物(或感光性树脂层)除了所述高分子物质、聚合性单体以及光聚合引发剂以外，根据需要，可以进一步使用着色剂、表面活性剂、溶剂、热聚合抑制剂、紫外线吸收剂等添加剂。作为所述着色剂，可以使用所述的着色剂。<液晶层>作为可以在本发明中的液晶层中使用的液晶，可以举出向列液晶、胆甾醇液晶、碟状液晶、铁电液晶。从应答速度的高速化或在器件中的对比度比的提高的观点出发，所述液晶层的厚度即"单元厚度"优选为1.5pm4(im，更优选为2.0(im3.0pm。<液晶显示用基板>本发明的液晶显示用基板至少具备至少两张基板、在所述基板间设置的液晶层、向所述液晶层施加电场的电极、用于调节所述基板间的单元厚度的光学间隙材、本发明中的遮光膜和着色层。在所述遮光膜与着色层互相重叠的部分上形成所述光学间隙材的至少一部分，根据需要，也可以在遮光膜与光学间隙材之间存在ITO等透明导电层(透明电极)或聚酰亚胺等液晶取向膜。在遮光膜与着色层互相重叠的部分的上面设置光学间隙材的情况下，使其覆盖预先在该基板上配设的遮光膜与着色层互相重叠的部分，例如，在基板面上层叠感光性转印材料的光学间隙材形成用感光性树脂层，剥离转印，形成光学间隙材形成用感光性树脂层，然后对其实施曝光、显影、加热处理等，形成光学间隙材，由此可以制作本发明的液晶显示用基板。<液晶显示元件>本发明的液晶显示元件具备所述本发明的液晶显示用基板而构成。作为液晶显示元件之一，可以举出在基板的至少一方为光透过性的本发明的液晶显示用基板上具备液晶驱动机构的元件。这种情况下，本发明的液晶显示用基板可以构成为具有多个RGB像素组、构成该像素组的各像素彼此被遮光膜隔离的滤色片基板。由于在该滤色片基板上，在遮光膜与其上面设置高度均匀性出色的光学间隙材，所以具备该滤色片基板的液晶显示元件可以抑制在滤色片基板与对置基板之间发生单元间距不均(单元厚度变动)，可以有效地防止颜色不均等显示不均的发生。这样，制作的液晶显示元件可以显示鲜明的图像。作为液晶显示元件的另一个方式，是在具有至少一方为光透过性的一对基板的液晶显示用基板上具备液晶驱动机构，所述液晶驱动机构具有有源元件(例如TFT)，而且利用高度均匀且变形恢复性出色的光学间隙材将一对基板控制成规定宽度从而构成的方式。这种情况下，本发明的液晶显示用基板构成为具有多个RGB像素组，构成该像素组的各像素彼此被黑矩阵隔开的滤色片基板。<液晶显示装置>本发明的液晶显示装置是设置所述本发明的液晶显示元件而构成的装置。即，本发明的液晶显示装置是用利用本发明的光学间隙材的制造方法制作的光学间隙材，将如上所述地使彼此相对地对置的一对基板间控制成规定宽度，向已控制的间隙中封入液晶材料(将封入部位称为液晶层。)来构成的，可以将液晶层的厚度(单元厚度)保持成需要的均匀厚度。作为液晶显示装置中的液晶显示模式，可以优选举出STN型、TN型、GH型、ECB型、铁电液晶、反铁电液晶、VA型、IPS型、OCB型、ASM型、其他各种模式。其中，在本发明的液晶显示装置中，从最有效地发挥本发明的效果的观点出发，优选根据液晶单元的单元厚度的变动而容易发生显示不均的显示模式，优选构成为单元厚度为24^irn的VA型显示模式、IPS型显示模式、OCB型显示模式的显示模式。作为液晶显示装置的基本构成方式，可以举出(a)经由光学间隙材对置排列形成薄膜晶体管(TFT)等驱动元件与像素电极(导电层)的驱动侧基板、和具备对置电极(导电层)的对置基板，向其间隙部封入液晶材料从而构成的方式；(b)经由光学间隙材对置驱动基板和具备对置电极(导电层)的对置基板，向其间隙部封入液晶材料从而构成的方式等，本发明的液晶显示装置可以优选适用于各种液晶显示仪器。对于液晶显示装置，例如被记载于"次世代液晶宁V7:7。l/^技術(内田龙男编集，侧工业调査会1994年发行)"。对本发明的液晶显示装置，除了具备本发明的液晶显示元件以外，没有特别限制，例如可以构成为所述"次世代液晶^、77°^^技術"中记载的各种方式的液晶显示装置。在这些中对于构成彩色TFT方式的液晶显示装置特别有效。对于彩色TFT方式的液晶显示装置，例如被记载于"力，一TFT液晶，、77。W一(共立出版(株)1996年发行)"。本发明的液晶显示装置除了具备已述的本发明的液晶显示元件以外，通常可以使用电极基板、偏振薄膜、相位差薄膜、背光灯、间隙材、视角补偿薄膜、防反射薄膜、光扩散薄膜、防眩薄膜等各种构件构成。对于这些构件，例如记载于"，94液晶fV77。P一周辺材料'夂3力》X(Z)巿場(岛健太郎(株)V—工厶、乂一(CMC)1994年发行)"、"2003液晶関連巿場O現状h将来展望(下巻)(表良吉(株)富士Chimem总研2003年发行)"。[实施例]以下用实施例说明本发明，但本发明不被这些实施例所限定。另外，实施例中的"份"及"％"为质量标准。在本实施例中，以转印法及LED背光灯的组合为中心详细说明，但在本发明中，也可以利用使用缝隙涂敷机等的涂敷法来实施，另外，背光灯也可以使用冷阴极管构成。[实施例l]:涂敷法<具有银锡合金部的金属粒子的分散液(分散液A1)的配制>在纯水1000ml中溶解醋酸银(I)23.1g、醋酸锡(II)65.1g、葡糖酸54g、焦磷酸钠45g、聚乙二醇(分子量3,000)2g及E735(ISPJapan(株)制；乙烯基吡咯烷酮/醋酸乙烯共聚物)5g，得到溶液l。另外，再向纯水500ml中溶解羟基丙酮36.1g，得到溶液2。将上述得到的溶液1保持在25'C下，同时剧烈搅拌，用2分钟向其中添加上述溶液2，缓慢地继续搅拌6小时。这样，混合液变化成黑色，得到具有银锡合金部的金属粒子(以下有时称为"含银锡合金部粒子"。)。接着，离心分离该液体，使含银锡合金部粒子沉淀。离心分离是分成150ml的小份液体量，利用台式离心分离机(商品名H—103n，(株)KOKUSAN制)，以转数2，OOOr.p.m.，进行了30分钟。接着，舍去上清液，使全部液体量成为150ml，向其中加入1350ml纯水，搅拌15分钟，再次使含银锡合金部粒子分散。重复进行2次该操作，除去水相的可溶性物质。然后，对该液体进行进一步离心分离，再次使含银锡合金部粒子沉淀。离心分离在与所述同样的条件下进行。离心分离之后，与所述同样地舍去上清液，使全部液体量成为150ml，向其中加入850ml纯水及500ml丙酮，进一步搅拌15分钟，再次使含银锡合金部粒子分散。再次与所述同样地进行离心分离，使含银锡合金部粒子沉淀之后，与所述同样地舍去上清液，使液体量成为150ml，向其中加入150ml纯水及1200ml丙酮，进一步搅拌15分钟，再次使含银锡合金部粒子分散。接着，再次进行离心分离。此时的离心分离的条件，除了时间延长至90分钟以外，与所述相同。然后，舍去上清液，使全部液体量成为70ml，向其中加入30ml丙酮。使用Eiger碾磨机(mill)(EigermillM—50型(介质(media):直径0.65mm氧化锆珠130g，EigerJapan(株)制)，分散6小时，得到含银锡合金部粒子的分散液(分散液A1)。利用X射线散射确认，该含银锡合金部粒子为由AgSn合金(20=39.5°)和Sn金属(20=30.5°)构成的复合体。在此，括号内的数字为各自的(III)面的散射角。用透射电子显微镜观察该微粒分散液的结果，以数均粒子尺寸，分散平均粒径约为40nm。所述数均粒子尺寸的测定使用利用透射电子显微镜JEM—2010(日本电子(株)制)得到的照片，如下所述地进行。选出颗粒100个，将与各粒子像相同的面积的圆的直径作为粒径，将100个粒子的粒径的平均值作为数均粒子尺寸。此时，使用倍率为10万倍、加速电压200kV下拍摄的照片。结果如下表2所示。<遮光膜用感光性涂敷液的配制>混合下述组成，配制遮光膜用感光性涂敷液。[组成]'所述具有银锡合金部的金属粒子(分散液A1)50.00份*丙二醇一甲醚乙酸酯28.8份(Daicel化学(株)帝U，MMPGAC(以下也使用相同的原材料))*甲乙酮37.6份下述组成的表面活性剂1氢醌一甲醚苯乙烯/丙烯酸共聚物(摩尔比=56/44，重均分子量30，000)二季戊四醇六丙烯酸酯(KAYARADDPHA，日本化药公司制)'双[4一[N—[4—(4，6—双三氯甲基一s—甲酰基]苯基]癸二酸酯0.5份0.2份0.001份9.6份9.6份-三嗪一2-36一表面活性剂1的组成一下述结构物1甲乙酮[化l]结构物l0=6o+o，<!)CH2CH2CnF2r>+1i(PO)7HO(EO)H(n=6，x=55，y=5，Mw=33940，Mw/Mn=2.55PO:环氧丙烷，EO:环氧乙烷)<保护层用涂敷液的配制>混合下述组成，配制保护层用涂敷液。'聚乙烯醇3.0份(PVA—205，(株)KURARAY制)*聚乙烯基吡咯垸酮1.3份(PVP—K30，ISPJapan公司制)蒸馏水50.7份甲醇45.0份<利用涂敷的带遮光膜的基板的制作>(1)在玻璃基板上，用具有缝隙状喷嘴的玻璃基板用涂敷机(coater)(商品名MH—1600，FAS亚洲公司制)，涂敷在所述中得到的遮光膜用感光性涂敷液，在100。C下使其干燥5分钟，形成感光性层(涂敷工序)。接着，在该感光性层上，与所述感光性层同样地使用玻璃基板用涂敷机，涂敷在所述中得到的保护层用涂敷液，使其干燥膜厚成为1.5pm，在100'C下使其干燥5分钟，形成保护层，制作遮光膜用感光材料。(2)接着，用具有超高压汞灯的近接式曝光机(日立High-Tech电子工程株式会社制)，以掩模(具有图像图案的石英曝光掩模)与所述遮30份70份光膜用感光材料垂直立起的状态，设定掩模面与遮光膜用感光材料的接触感光层的中间层的一侧的表面之间的距离为200pm，以曝光量70mJ/cm2进行曝光(曝光工序)。接着，使用显影处理液(商品名T一CD1，富士胶片(株)制；用纯水稀释5倍碱显影液而成的液体)，对曝光后的遮光膜用感光材料进行显影处理(33°C，20秒；显影工序)，在玻璃基板上形成黑矩阵。接着，利用基板预热装置，以22(TC对形成有黑矩阵的玻璃基板加热60分钟，然后以240'C进一步加热50分钟，进行烘焙处理(烘焙工序)，制作带黑矩阵的基板。另外，带遮光膜的基板中的黑矩阵的图案为像素尺寸IO英寸、像素数480X640。另外，黑矩阵宽度为24nm，像素部的开口为86nmX304nm，黑矩阵(遮光膜)的膜厚为0.7pm。<着色层的形成>(感光性树脂转印材料R1的制作)在厚75pm的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜临时支撑体上，使用缝隙状喷嘴，涂敷、干燥由下述配方H1构成的热塑性树脂层用涂敷液。接着，涂敷、干燥由下述配方P1构成的中间层用涂敷液。进而，涂敷、干燥下述表1的着色感光性树脂组合物Rl，在该临时支撑体上设置干燥膜厚14.6pm的热塑性树脂层、干燥膜厚1.6|_im的中间层和干燥膜厚2.4pm的感光性树脂层，最后压接保护薄膜(厚12pm聚丙烯薄膜)。这样制作临时支撑体、热塑性树脂层、中间层(阻氧膜)和红(R)的感光性树脂层成为一体的感光性树脂转印材料，样品名为感光性树脂转印材料R1。热塑性树脂层用涂敷液配方H1甲醇11.1份*丙二醇一甲醚乙酸酯6.36份(Daicel化学(株)制，MMPGAC)甲乙酮52.4份甲基丙烯酸甲酯/丙烯酸2—乙基己基酯/甲基丙烯酸苄基酯/甲基丙烯酸共聚物(共聚合组成比(摩尔比)=55/11.7/4.5/28.8，分子量=9万，TgN70。C5.83份*苯乙烯/丙烯酸共聚物(共聚合组成比(摩尔比)二63/37，分子量二l万，Tg—IOO"C)13.6份在双酚A上脱水縮合2当量五乙二醇一甲基丙烯酸酯而成的化合物(新中村化学工业(株)制，商品名2，2—双[4一(甲基丙烯酰氧基聚乙氧基)苯基]丙垸)9.1份所述表面活性剂10.54份中间层用涂敷液配方P1PVA20532.2份(聚乙烯醇，(株)KURARAY制，皂化度=88%，聚合度550)'聚乙烯基吡咯烷酮(ISPJapan公司制，K一30)1《9份蒸馏水524份甲醇429份(感光性树脂转印材料Gl及Bl的制作)接着，将在所述感光性树脂转印材料R1的制作中使用的所述着色感光性树脂组合物Rl变更成由下述表1记载的组成构成的下述着色感光性树脂组合物G1及B1，除此以外，利用与所述相同的方法，制作感光性树脂转印材料G1及B1。一红(R)像素的形成一在剥离所述感光性树脂转印材料Rl的保护薄膜之后，使用层合机((株)日立工业制(LamicII型))，以胶辊温度130°C、线压力100N/cm、输送速度2.2m/分层叠在已加热至100'C的所述带黑矩阵的基板上。在剥离临时支撑体之后，用具有超高压汞灯的近接式曝光机(日立High-Tech电子工程(株)制)，以基板与掩模(具有图像图案的石英曝光掩模)垂直立起的状态，设定曝光掩模面与该热塑性树脂层之间的距离为200|im，以曝光量40mJ/cr^进行图案曝光。接着，以3(TC、50秒、扁平喷嘴压力0.04MPa，对三乙醇胺系显影液(用纯水稀释含有三乙醇胺30%、含有非离子表面活性剂、含有聚丙烯系消泡剂，商品名T一PD2，富士胶片(株)制至12倍的液体)进行喷淋显影，除去热塑性树脂层和中间层。接着，使用碳酸钠系显影液(用纯水5倍稀释含有0.38摩尔/升的碳酸氢钠、0.47摩尔/升的碳酸钠、5%的二丁基萘磺酸钠、阴离子表面活性齐U、消泡剂、稳定剂，商品名T一CD1，富士胶片(株)制而成的液体)，以35°C35秒、圆锥型喷嘴压力0.15MPa，进行喷淋显影，使感光性树脂层显影，得到图案图像。接着，用洗涤剂(用纯水将商品名T一SD3(富士胶片制)稀释至IO倍的液体)，以33'C、20秒、圆锥型喷嘴压力0.02MPa，用喷水器和具有尼龙毛的旋转刷，除去残余物，得到红(R)像素。然后，进一步对该基板，从该树脂层的一侧，用超高压汞灯，以500mJ/cn^的光，进行后曝光，之后在220'C下热处理15分钟。制作在所述黑矩阵上和被黑矩阵包围的部分(开口部)形成红(R)像素的基板。再次如上所述，用刷子清洗该形成有红(R)像素的基板，纯水喷淋清洗之后，送至基板预热装置。一绿(G)像素的形成一使用所述感光性树脂转印材料Gl,以与所述感光性树脂转印材料Rl相同的工序，在所述黑矩阵上和被黑矩阵包围的部分(开口部)得到已进行热处理的绿(G)的像素。其中，曝光量为40mJ/cm2，利用碳酸Na系显影液的显影为34"*45秒。再次如上所述地刷洗该形成有黑矩阵、R及G像素的基板，用纯水喷淋清洗之后，送至基板预热装置。一蓝(B)像素的形成一使用所述感光性树脂转印材料B1，以与所述感光性树脂转印材料R1相同的工序，在所述黑矩阵上和被黑矩阵包围的部分(开口部)得到己进行热处理的蓝(B)的像素。其中，曝光量为30mJ/cm2，利用碳酸Na系显影液的显影为36°C40秒。在24(TC下烘焙该形成有R、G、B及黑矩阵的基板50分钟，得到形成有各着色层的滤色片基板。在所述形成的滤色片上，利用溅射形成ITO(铟锡氧化物(IndiumTinOxide))的透明电极，形成滤色片基板。[表l]<table>tableseeoriginaldocumentpage41</column></row><table>单位质量份在此，对所述表1中记载的着色感光性树脂组合物R1、Gl、Bl的配制进行说明。(着色感光性树脂组合物R1)着色感光性树脂组合物R1可以通过如下所述得到，即首先，量取表1中记载的量的R颜料分散物1、R颜料分散物2以及丙二醇一甲醚乙酸酯(Daicel化学(株)制，MMPGAC)，在温度24°C(±2°C)下混合，以150r.p.m.搅拌IO分钟。接着，量取表1中记载的量的甲乙酮、粘合剂2、DPHA液、2—三氯甲基—5—(对苯乙烯基苯乙烯基)一l，3，4—噁二唑、2，4—双(三氯甲基)一6—[4，一(N，N—双乙氧基羰基甲基氨基)一3，一溴苯基]一s—三嗪、吩噻嗪，在温度24°C(±2°C)下以150r.p.m.搅拌10分钟，接着，量取表l中记载的量的添加剂l，在温度24匸(±2°C)下混合，以150r.p.m.搅拌20分钟。进而，量取表1中记载的量的表面活性剂l，在温度24。C(±2°C)下添加，以30r.p.m.搅拌5分钟，用尼龙筛#200过滤。另外，表1中记载的组合物中，R颜料分散物1、R颜料分散物2、粘合剂2、DPHA液、添加剂l的组成如下所述。一R颜料分散物1的组成一C.I.颜料红2548份(商品名:Irgaphor红B—CF，CibaSpecialtyChemicals(株)制)下述化合物20.8份聚合物8份(甲基丙烯酸节基酯/甲基丙烯酸=72/28摩尔比的无规共聚物，分子量3.7万)*丙二醇一甲醚乙酸酯83份(Daicel化学(株)制，MMPGAC)[化2]化合物2<formula>formulaseeoriginaldocumentpage42</formula>一R颜料分散物2的组成一.C.I.颜料红17718份(商品名:Cromophtal红A2B，CibaSpecialtyChemicals(株)制)聚合物12份(甲基丙烯酸节基酯/甲基丙烯酸二72/28摩尔比的无规共聚物，分子量3.7万)*丙二醇一甲醚乙酸酯70份(Daicel化学(株)制，MMPGAC)一粘合剂2的组成一聚合物27份(甲基丙烯酸苄基酯/甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯=38/25/37摩尔比的无规共聚物，分子量4万)*丙二醇一甲醚乙酸酯73份(Daicel化学(株)制，画PGAC)一DPHA液的组成一'二季戊四醇六丙烯酸76份(含有阻聚剂MEHQ500ppm，日本化药(株)制，商品名KAYARADDPHA)'丙二醇一甲醚乙酸酯24份(Daicel化学(株)帝ij，MMPGAC)一添加剂l一磷酸酯系特殊活化剂(楠本化成(株)制，商品名HIPLAADED152)。(着色感光性树脂组合物G1)着色感光性树脂组合物G1可以通过如下所述得到，即首先量取表1中记载的量的G颜料分散物1、Y颜料分散物l以及丙二醇一甲醚乙酸酯(Daicel化学(株)制，MMPGAC)，在温度24°C(±2°C)下混合，以150r.p.m,搅拌IO分钟。接着，量取表4中记载的量的甲乙酮、环己酮、粘合剂l、DPHA液、2—三氯甲基一5—(对苯乙烯基苯乙烯基)一l，3，4一噁二唑、2，4一双(三氯甲基)一6—[4，一(N，N—双乙氧基羰基甲基氨基)一3，—溴苯基]一s—三嗪、吩噻嗪，在温度24°C(±2°C)下依次添加，以150r.p.m.搅拌30分钟，进而，量取表1中记载的量的表面活性剂l，在温度24。C(±2°C)下添加，以30r.p.m.搅拌5分钟用尼龙筛#200过滤。另外，表l中记载的组合物中，G颜料分散物l、Y颜料分散物l、粘合剂1的组成如下所述。43一G颜料分散物1的组成一富士FILMElectronicMaterials(株)制，"商品名:GT—2"。一Y颜料分散物1一*御国色素(株)公司制，商品名CF黄EX3393一粘合剂1的组成一聚合物27份(甲基丙烯酸节基酯/甲基丙烯酸=78/22摩尔比的无规共聚物，分子量3.8万).丙二醇一甲醚乙酸酯73份(Daicel化学(株)帝U，MMPGAC)(着色感光性树脂组合物B1)着色感光性树脂组合物B1可以通过如下所述得到，目卩首先，量取表1中记载的量的B颜料分散物1、B颜料分散物2以及丙二醇一甲醚乙酸酯(Daicel化学(株)制，MMPGAC)，在温度24°C(±2°C)下混合，以150r.p.m.搅拌IO分钟。接着，量取表1中记载的量的甲乙酮、粘合剂3、DPHA液、2—三氯甲基一5—(对苯乙烯基苯乙烯基)一l，3，4—噁二唑、吩噻嗪，在温度25。C(±2°C)下依次添加，在温度4(TC(±2°C)下以150r.p.m.搅拌30分钟，进而，量取表1中记载的量的表面活性剂1，在温度24°C(±2°C)下添加，以30r.p,m.搅拌5分钟用尼龙筛#200过滤。另外，表l中记载的组合物中，B颜料分散物KB颜料分散物2、粘合剂3的组成如下所述。一B颜料分散物1一'御国色素(株)公司制，商品名CF蓝EX3357一B颜料分散物2—'御国色素(株)公司制，商品名CF蓝EX3383一粘合剂3的组成一聚合物27份(甲基丙烯酸苄基酯/甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯=36/22/42摩尔比的无规共聚物，分子量3.8万)*丙二醇一甲醚乙酸酯73份(Daicel化学(株)制，MMPGAC)<光学间隙材的制作>一光学间隙材形成用感光性转印材料一将在所述感光性树脂转印材料Rl的制作中使用的所述着色感光性树脂组合物R1变更成由下述组成构成的光学间隙材形成用树脂组合物，除此以外，利用与所述相同的方法，制作光学间隙材形成用感光性转印材料。感光性树脂层的干燥层厚为4.1pim。一光学间隙材形成用树脂组合物的组成_l一甲氧基一2—丙基乙酸酯452份甲乙酮327份甲醇0.035份粘合剂一4101份(甲基丙烯酸/甲基丙烯酸烯丙基酯共聚物(=20/80[摩尔比])，重均分子量36000;高分子物质)DPHA液99份2，4—双(三氯甲基)一6—[4，一(N，N—双乙氧基羰基甲基氨基)一3，一溴苯基]一s—三嗪2.5份*氢醌一甲醚0.039份所述表面活性剂10.86份*消色剂17份(商品名维多利亚纯蓝(匕、夕卜i;:r匕。二:r:7W—)boh—m，保土亇谷化学(株)制)一光学间隙材的制作一剥离得到的光学间隙材形成用感光性转印材料的覆盖薄膜，在上述制作的已溅射形成ITO膜的滤色片基板的ITO膜上，叠加露出的感光性树脂层的表面，使用层合机LamicII型[(株)日立工业制]，以线压力100N/cm、13(TC的加压，加热条件下，以输送速度2m/分，使其贴合。然后，在与热塑性树脂层的界面剥离除去PET假支撑体，将感光性树脂层与热塑性树脂层及中间层一起转印(层形成工序)。接着，用具有超高压汞灯的近接式曝光机(日立High-Tech电子工程(株)制)，以掩模(具有画像图案的石英曝光掩模)与滤色片基板近似平行地垂直立起的状态，其中的滤色片基板配置成该掩模与热塑性树脂层面对面，设定掩模面与感光性树脂层的接触中间层的一侧的表面之间的距离为40pm，借助掩模，从热塑性树脂层侧，以曝光量60mJ/cr^进行近接式曝光。接着，从扁平喷嘴，以23匸、喷嘴压力0.04MPa，喷射KOH显影液(将商品名:CDK—1，富士FILMElectronicMaterials(株)制，用纯水稀释100倍而成的液体)80秒，进行喷淋显影，显影除去未曝光部，得到图案(间隙材图案)(形成图案工序)。在黑矩阵与红(R)像素的层叠部上形成的ITO膜上形成得到的间隙材图案，为直径16pm、平均高度2.0拜的透明柱状。接着，在230'C下加热处理30分钟设有间隙材图案的滤色片基板10(热处理工序)，制作光学间隙材。<液晶取向控制用突起的制作>一突起用感光性转印材料的制作一将在所述感光性树脂转印材料Rl的制作中使用的所述着色感光性树脂组合物R1变更成由下述组成构成的突起用涂敷液配方C，除此以外，利用与所述相同的方法，制作突起用感光性转印材料。液晶取向控制用的突起用感光性树脂层的干燥膜厚为2.0pm。[突起形成用涂敷液的配方C]正型抗蚀剂液体53.3份(商品名:FH—2413F，富士FILMElectronicMaterials(株)制)甲乙酮46.7份所述表面活性剂10.04份一突起的形成一从由所述得到的突起用感光性转印材料剥下保护薄膜，使露出的突起用感光性树脂层的露出面与滤色片基板的设置有ITO膜的一侧(滤色片上)的表面重合，禾U用层合机LamicII型[(株)日立工业制]，以线压力100N/cm、温度13(TC、输送速度2.2m/分钟的条件，使其贴合(层叠工序)。然后，在与热塑性树脂层的界面只剥离除去突起用感光性转印材料的PET临时支撑体。此时，成为在滤色片基板上，从该基板侧依次层叠感光性树脂层、中间层、热塑性树脂层的状态。接着，从作为最表层的热塑性树脂层的上方，配置近接式曝光机，使光掩模的掩模面与热塑性树脂层接触的一侧的表面之间的距离成为100pm，借助掩模，利用超高压汞灯，以照射能量70mJ/cm2进行近接式曝光。然后，利用喷淋式显影装置，在3(TC下，从热塑性树脂上，进一步喷雾1%三乙醇胺水溶液30秒钟，溶解除去热塑性树脂层及中间层。在该阶段，突起用感光性树脂层实际上并没有被显影。接着，利用喷淋式显影装置，在33'C下向基板喷雾2.38%四甲基氢氧化铵水溶液30秒钟，同时进行显影，显影除去感光性树脂层的不需要部分(曝光部)。这样，在滤色片(RGB像素)上，形成已形成为需要形状的图案的由突起用感光性树脂层构成的突起。接着，通过在240'C下烘焙处理已形成突起的滤色片基板50分钟，在滤色片(RGB像素)上形成高1.5pm的纵截面形状为半圆锥体样的液晶取向控制用的突起。<液晶显示用基板(元件)的制作>另外再准备TFT基板作为对置基板。该TFT基板的一个表面利用溅射形成ITO(铟锡氧化物)膜。接着，在TFT基板的ITO膜上及滤色片基板的设置有光学间隙材的一侧的ITO膜上，设置由聚酰亚胺构成的取向膜。然后，在相当于周围被设置成包围滤色片的像素组的黑矩阵的外框的位置，印刷环氧树脂的密封剂，同时与所述TFT基板贴合滤色片基板。接着，热处理已贴合的2张基板，使密封剂固化，得到2张基板的层叠体。在真空下对该层叠体进行脱气，然后恢复到大气压，向2张玻璃基板的间隙中注入液晶。注入结束后，向注入口部分赋予粘接剂，照射紫外线，密封注入口部分，从而得到液晶单元(液晶显示元件)。在这样得到的液晶单元的两面上，贴付偏振片(HLC2—2518，(株)SANRITZ制)。接着，使用FR1112H作为红色(R)LED、使用DG1112H作为绿色(G)LED以及使用DB1112H作为蓝色(B)LED(均为STANLEY电气(株)制的片(chip)型LED),构成侧灯方式的背光灯，在设置有所述偏振片的液晶单元的背面一侧进行配置，制作本发明的MVA模式液晶显示装置。另外，含银锡合金部粒子的锡/银锡合金的摩尔比以及数均粒径如下述表2所示。<table>tableseeoriginaldocumentpage48</column></row><table>[实施例2]:涂敷法在实施例1中，将在分散液A1的配制中使用的醋酸银(I)及醋酸锡(n)的量分别变更成54.0g和19.8g，使用该分散液(分散液A2)，变更成所述表l中记载的膜厚，除此以外，与实施例1同样地进行，制作液晶显示装置。:转印法使用实施例1的遮光膜用感光性涂敷液，使用如下所述地制作而成的感光性转印材料，利用转印法形成黑矩阵，除此以外，与实施例1同样地进行，制作液晶显示装置。以下对感光性转印材料的制作及使用该感光性转印材料的带遮光膜的基板的制作进行详述。<感光性转印材料的制作〉(1)在厚75pm的聚对苯二甲酸乙二醇酯临时支撑体(PET临时支撑体)的表面，使用缝隙状喷嘴，涂敷下述配方H2构成的热塑性树脂层用涂敷液，使干燥膜厚为5pm，在10(TC下使其干燥3分钟，形成热塑性树脂层。(2)在该热塑性树脂层上，使用缝隙涂敷机，涂敷下述配方P2构成的中间层用涂敷液，使干燥膜厚为1.5|im，在10(TC下使其干燥3分钟，层叠中间层。(3)接着，在所述中间层上，使用缝隙状喷嘴，涂敷实施例1的遮光膜用感光性涂敷液，在10(TC下使其干燥5分钟，形成感光性层。进而，在感光层上，压接厚12pm的聚丙烯薄膜，设置保护薄膜。如上所述地进行，制作构成为PET临时支撑体/热塑性树脂层/中间层/感光层/保护薄膜的层叠结构的感光性转印材料。)的共聚物(重均分子量80,000)(重均分子量7,000)2，2—双[4—(甲基丙烯酰氧基聚乙氧基)苯基]丙烷卯份(新中村化学工业(株)制，多官能丙烯酸酯)'苯乙烯/丙烯酸(二63/37[摩尔比])的共聚物58份136份F—780—F(大日本油墨化学工业(株)制)(氟系表面活性剂的甲乙酮30°/。溶液)甲乙酮M—甲氧基一2—丙醇甲醇混合下述配方P2的各成分，配制中间层用涂敷液一中间层用涂敷液的配方P2—，聚乙烯醇(PVA—205，(株)KURARAY制)聚乙烯基吡咯垸酮(PVP—K30,ISPJapan公司制)蒸馏水甲醇<利用转印的带遮光膜的基板的制作>50.5份45.0份541份63份111份3.0份1.5份(1)首先，剥离除去在所述得到的感光性转印材料的保护薄膜，然后以露出的感光性层与作为被转印体的玻璃基板(厚l.lmm)的表面接触的方式重叠，使用层合机LamicII型[(株)日立工业制]，以胶辊温度130°C、线压力100N/cm、输送速度2.2m/分的条件贴合。接着，剥离PET临时支撑体，在玻璃基板上转印并依次层叠感光性层/中间层/热塑性树脂层(转印工序)。(2)接着，用具有超高压汞灯的近接式曝光机(日立High-Tech电子工程(株)制)，以掩模(具有图像图案的石英曝光掩模)、与该掩模和热塑性树脂层相对配置而成的滤色片基板大致平行地垂直立起的状态，设定掩模面与感光性层的接触热塑性树脂层一侧的表面之间的距离为200nm，经由掩模从热塑性树脂层侧，以曝光量300mJ/ci^进行全面曝光(曝光工序)。(3)曝光后，使用KOH系显影液的稀释液，从扁平喷嘴，以25'C、喷嘴压力6.15MPa，由热塑性树脂层上方喷射CDK—1(用纯水100倍稀释富士FILMElectronicMaterials(株)制的液体)58秒钟，进行喷淋显影，显影除去热塑性树脂层、中间层以及感光性层的未曝光部，得到图案(显影工序)。然后，进而利用超高压清洗喷嘴，以9.8MPa的压力，在玻璃基板的形成有图案的一侧喷射超纯水，除去残余物，在玻璃基板上形成黑矩阵。(4)接着，利用基板预热装置，在22(TC下加热形成有黑矩阵的玻璃基板60分钟，然后以24(TC进一步加热50分钟，实施烘焙处理(烘焙工序)，制作带黑矩阵的基板。<液晶显示装置的制作>使用在所述中得到的带黑矩阵的基板，用与实施例1相同的方法，制作液晶显示装置。:转印法在实施例3中，使用代替分散液Al而用分散液A2的实施例2的遮光膜用感光性涂敷液，除此以外，与实施例3同样地进行，制作液晶显示装置。:转印法在实施例4中，不是在黑矩阵与红(R)像素的层叠部上形成的ITO膜上，而是在黑矩阵上的ITO膜上形成直径16pm、平均高度3.7pm的间隙材，除此以外，与实施例4同样地进行，制作液晶显示装置。<银微粒分散液的配制>混合平均形状比2.2的银微粒73.5g、叟卢斯帕斯(y少7八。一7)20000(阿彼斯阿(7匕、V7)(株)制，分散剂)1.05g和甲乙酮16.4g。使用超声波分散机(UltrasonicgeneratormodelUS-6000ccvp，nissei公司制)，将其分散，得到圆相当直径100nm的银微粒分散液。<遮光膜用感光性涂敷液的配制>混合下述组成，配制遮光膜用感光性涂敷液。[组成]银微粒分散液(形状比2.2)丙二醇一甲醚乙酸酯(Daicel化学(株)制，MMPGAC)甲乙酮氟系表面活性剂(20%)(商品名F780F，大日本油墨化学工业(株)审IJ)氢醌一甲醚甲基丙烯酸苄基酯/甲基丙烯酸共聚物(摩尔比二73/27，分子量30，000)双[4一[N—[4一(4，6—双三氯甲基一s—三嗪一2-甲酰]40.00份28.6份37.6份0,2份0.001份2.1份.酸酯0.1份二季戊四醇六丙烯酸酯在千燥膜中添加至Ag粒子的体积分率成为10Q%<保护层用涂敷液的配制>混合下述组成，配制保护层用涂敷液。.聚乙烯醇3.0份(PVA205，(株)KURARAY制).聚乙烯基吡咯烷酮(PVP—K30，ISPJapan公司制)1.3份蒸馏水50.7份甲醇45.0份<带遮光膜的基板的制作>(1)在玻璃基板上，用旋涂机，涂敷得到的遮光膜用感光性涂敷液，使其膜厚成为0.65,，在IO(TC下使其干燥5分钟，形成感光性层。接着，在该感光性层上，使用旋涂机，涂敷所述的保护层用涂敷液，使其干燥膜厚成为1.5,，在100'C下使其干燥5分钟，形成保护层，制作遮光膜用感光材料。(2)接着，用超高压水银灯，以掩模(具有图像图案的石英曝光掩模)与所述遮光膜用感光材料垂直立起的状态，设定掩模面与遮光膜用感光材料的接触感光层的中间层的一侧的表面之间的距离为200|am，以曝光量70mJ/cn^进行曝光。接着，使用显影处理液(商品名TCD，富士胶片(株)制；碱显影液)，对曝光后的遮光膜用感光材料进行显影处理(33°C，20秒)，形成图案状的遮光膜(黑矩阵)，接着，在24(TC下实施热处理(烘焙)40分钟，得到带黑矩阵的基板。使用在所述中制作的带黑矩阵的基板，用与实施例1相同的方法，制作液晶显示装置。[比较例2]如下所示地进行，制作带遮光膜的基板。用UV清洗装置清洗无碱玻璃基板之后，使用洗涤剂刷洗，进而用超纯水进行超声波清洗。120'C下热处理该基板3分钟，使表面状态稳定化。然后，冷却该基板，温调至23"C之后，用具有缝隙状喷嘴的玻璃基板用涂敷机(coater)MH—1600(FAS亚洲公司制)，在该基板上，涂敷由下述表3中记载的组成构成的着色感光性树脂组合物K1。接着，用真空干燥装置(商品名VCD，东京应化工业(株)制)，干燥溶剂的一部分30秒钟，使涂敷膜的流动性消失，然后在120'C下预烘焙(prebake)3分钟，得到感光性树脂层K1。使用所述感光性树脂层K1，用与实施例l相同的方法，制作液晶显示装置。[表3]<table>tableseeoriginaldocumentpage53</column></row><table>单位重量份另外，所述表3中的K颜料分散物1的组成如下所述，粘合剂1、DPHA液、表面活性剂1的各组成与所述相同。一K颜料分散物1的组成一炭黑13.1份(SpecialBlack250，Degussa公司制)'5—[3—氧一2—[4—[3，5—双(3—二乙氨基丙基氨基羰基)苯基]氨基羰基]苯基偶氮]一丁酰氨基苯酰胺化物(butyroylaminobenzamidazolone)0.65份聚合物[甲基丙烯酸苄基酯/甲基丙烯酸(=72/28[摩尔比])的无规共聚物(重均分子量37,000)]6.72份丙二醇一甲醚乙酸酯79.53份(Daicel化学(株)制，MMPGAC)在比较例2中，不是在黑矩阵与红(R)像素的层叠部上形成的ITO膜上，而是在黑矩阵上的ITO膜上形成直径16pm、平均高度3.7pm的间隙材，除此以外，与比较例2同样地进行，制作液晶显示装置。(评价)分别对在所述实施例及比较例中得到的带遮光膜的基板，进行如下所示的测定及评价。测定及评价的结果如下述表4所示。1.遮光膜的光密度利用下述方法测定烘焙后的黑矩阵(遮光膜)的光密度。使用分光光度计(商品名UV—2100，岛津制作所(株)制)，在波长555nm下测定带遮光膜的基板的透过光密度(OD)，同时用相同的方法测定在这些带遮光膜的基板中分别使用的玻璃基板的透过光密度(ODQ)。接着，将从OD减去ODG所得的值(透过OD;二OD—ODG)作为透过光密度。2.遮光膜的膜厚使用接触式表面粗糙度计(商品名P—IO，TENCOR公司制)，测定烘焙后的黑矩阵(遮光膜)的膜厚。3.遮光膜的反射率使用组合有分光光度计(spectrophotometer)(商品名V—56，日本分光(株)制)的绝对反射率测定装置(商品名ARV—474，日本分光(株)制)，测定带遮光膜的基板的玻璃基板侧(与形成有膜一侧的相反侧)的绝对反射率，作为带遮光膜的基板的反射率。其中，测定时，测定角度为从垂直方向5。，波长为555nm。4.遮光膜的面内不均对在玻璃基板上制作的遮光膜，使用接触式表面粗糙度计(商品名P—IO，TENCOR公司制)，进行膜厚测定，算出测定点的标准偏差ci。5.间隙材的面内不均对在玻璃基板上制作的遮光膜，使用接触式表面粗糙度计(商品名P—IO，TENCOR公司制)，进行膜厚测定，算出测定点的标准偏差cj。6.整体的面内不均在玻璃基板上制作的遮光膜上层叠R色材层和ITO，在其上制作间隙材，对其层膜厚，使用接触式表面粗糙度计(商品名P—IO，TENCOR公司制)，进行膜厚测定，算出测定点的标准偏差ci。7.显示不均对各液晶显示装置，目视及用放大镜观察输入灰测试信号时的灰显示，按照下述评价标准评价显示不均的发生的有无。(评价标准)〇完全未见显示不均。略微可见显示不均。X:明显可见显示不均。<table>tableseeoriginaldocumentpage56</column></row><table>在如所述表4使用本发明中的金属粒子的实施例中，构成为薄膜并同时具有黒浓度，色调、反射特性也良好。进而，能够以薄膜实现高光密度。通过组合该薄膜的黑矩阵和在该黑矩阵上形成的着色层上形成的高度偏差少的间隙材，可以制作显示质量高的显示装置。与此相对，在使用银粒子的比较例1中，尽管可以以薄膜得到高黒浓度，但反射率过高，反射特性方面差。另外，如比较例2，将炭黑用作黑色材料的情况下，薄膜难以得到与实施例相同的透过OD。进而，由于黑矩阵的膜厚变大，所以单元厚度的不均也变大，产生显示不均。日本出愿2005—344474所公开的整体被作为参照放入本说明书中。另外，在本说明书中记载的全部文献、专利申请以及技术规格被作为参照放入本说明书中，其中，与各文献、专利申请以及技术规格被作为参照放入本身与具体而且分别记载的情况为相同程度。权利要求1.一种液晶显示用基板，其至少具备至少两张基板、在所述基板间设置的液晶层、向所述液晶层施加电场的电极、用于调节所述基板间的单元厚度的光学间隙材、遮光膜和着色层，其特征在于，在所述遮光膜的上面或者所述遮光膜与着色层彼此重叠部分的上面形成有所述光学间隙材的至少一部分，而且所述遮光膜含有树脂及其前体的至少一种、和具有银锡合金部的金属粒子。2.根据权利要求1所述的液晶显示用基板，其特征在于，具有所述银锡合金部的金属粒子中的银的比例为3080摩尔％。3.根据权利要求1所述的液晶显示用基板，其特征在于，所述遮光膜的面内高度偏差以3cj计为0.2pm以内(cj:lmXlm基板的每隔lcm的测定点的标准偏差)。4.根据权利要求1所述的液晶显示用基板，其特征在于，所述遮光膜中的所述金属粒子的含量相对于所述遮光膜的全部固体成分为520体积％。5.根据权利要求1所述的液晶显示装置用基板，其特征在于，所述遮光膜是利用涂敷法形成的。6.根据权利要求1所述的液晶显示装置用基板，其特征在于，所述遮光膜是利用转印法形成的。7.根据权利要求1所述的液晶显示装置用基板，其特征在于，所述金属粒子以数均粒子尺寸计为20700nm。8.—种液晶显示元件，其特征在于，具备权利要求1所述的液晶显示用基板。9.一种液晶显示装置，其特征在于，具备权利要求8所述的液晶显示元件。全文摘要本发明提供一种至少具备至少两张基板(玻璃基板以及TFT基板)、在所述基板间设置的液晶层、向所述液晶层施加电场的ITO膜、用于调节所述基板间的单元厚度(液晶层的厚度)的光学间隙材、遮光膜和着色层的液晶显示用基板，其中，在遮光膜的上面或者所述遮光膜与着色层互相重叠的部分上方形成光学间隙材的至少一部分，而且遮光膜含有树脂及其前体的至少一种、和具有银锡合金部的金属粒子。文档编号G02F1/1339GK101317127SQ20068004486公开日2008年12月3日申请日期2006年11月27日优先权日2005年11月29日发明者中村秀之申请人:富士胶片株式会社