彩色滤光片结构及其制作方法

专利名称：彩色滤光片结构及其制作方法
技术领域：
本发明是关于一种彩色滤光片结构及其制作方法，尤指一种具有疏水凹 口或疏水通道等疏水阀设计而可避免混色与膜厚不均问题的彩色滤光片结构 及其制作方法。
背景技术：
液晶显示器一般使用白光作为光源，必须利用彩色滤光片将白光光源分解成红(red,R)、绿(green,G)、蓝(blue, B)三原色光，再进一步混合成人眼能分 辩的各种色彩，因此彩色滤光片的滤光效果是决定液晶显示器的彩色画面表 现的重要因素，再加上彩色滤光片的成本较其它元件更为昂贵，因此彩色滤 光片成为液晶显示器最重要的关键元件之一。现有制作彩色滤光片的方法主要是利用涂布光刻胶材料后曝光显影的方 式加以形成。首先，将单一颜色光刻胶墨液，例如红色光刻胶墨液以旋转涂 布方式涂布于基板上，再利用软烤、曝光显影与硬烤等制造工艺形成红色滤 光层图案。随后再重复上述步骤形成绿色与蓝色滤光图案层。然而此制作方 式的光刻胶墨液使用率很低，约有九成的光刻胶墨液会在旋转涂布的过程中 被甩出，的后又会有约七成的光刻胶墨液在显影过程中被溶解移除。此外， 现有制作彩色滤光片的方法需要针对每一种颜色的光刻胶墨液分别进行一次 涂布制造工艺、预烤制造工艺、曝光制造工艺与显影制造工艺，使得制造工 艺繁复且成本昂贵。因此，目前业界开始利用喷墨方法来改善旋转涂布方式制作彩色滤光片 的缺点。请参考图1与图2，图1与图2为一般喷墨制造工艺的方法示意图。 首先如图1所示，提供一玻璃基板10，并于玻璃基板IO上形成复数个呈阵列 状排列的黑色矩阵图案12，其中黑色矩阵图案12之间形成复数个(例如n*m 矩阵，n、 m为正整数)彼此不连通的封闭型容纳空间14，用以容纳彩色光刻 胶墨液。接着如图2所示，利用一喷墨设备的喷墨头(图未示)，于玻璃基板 10上喷涂所需的光刻胶墨液。以长条状排列的彩色滤光片的制作过程为例， 必须依序于3n-2行的黑色矩阵图案12之间的容纳空间中喷涂某一原色颜料 (例如红色颜料16R)，再依序将另两原色颜料(例如绿色颜料16G与蓝色颜料 16B)喷涂于3n-l行与3n行的黑色矩阵图案12之间的容纳空间中。随后再烘 烤去除多余的溶剂成分以使红色墨液16R、绿色墨液16G与蓝色墨液16B硬 化以形成彩色滤光片。利用喷墨制造工艺制作彩色滤光片的作法虽然较有效率且成本较低，然 而其所面临的难题在于喷墨头在使用一段时间后无可避免地会产生喷墨量变 异的问题，如此一来可能使得光刻胶墨液在每一个容纳空间中具有不同的量， 使后续形成的彩色滤光片的厚度不均匀，造成显示色度不均而影响显示效果。 更甚者，例如当彩色墨液的量不够时(一般称之为unfilled pixel),会使得彩色 滤光片的滤光效果不佳而在显示时产生白区(white area),而当彩色墨液的量过 多而产生溢流(overflow)现象时，不仅会影响滤光效果，更有可能发生混色 (colormbdng)的问题。 一般而言，若溢流是发生在同一颜色的彩色滤光片之间 则不会对色彩表现有太大的影响，然而若溢流是发生在不同颜色的彩色滤光 片之间时，则会因为颜料混合产生严重的色偏问题。发明内容因此本发明提出一种彩色滤光片结构及其制作方法，以解决彩色滤光片 的色度不均、白区漏光及色偏问题。为达上述目的，本发明提出一种彩色滤光片结构，包括 一透明基板，所述的透明基板包括一表面；复数个黑色矩阵图案列，所述的这些黑色矩阵图案列具有疏水特性且设
置于所述的透明基板的所述的表面上以定义出复数个次像素，各所述的黑色 矩阵图案列包括复数个遮光结构，以串联方式沿一第一方向排列，各所述的 遮光结构具有一厚度并形成一容纳空间，且各所述的遮光结构具有至少一疏 水通道，使得位于同一所述的黑色矩阵图案列上相邻的所述的这些容纳空间 彼此连通；以及一彩色滤光层，设置于所述的这些遮光结构构成的所述的这些容纳空间 之内。为达上述目的，本发明提出一种彩色滤光片结构，包括 一透明基板，所述的透明基板包括一表面；复数个黑色矩阵图案列，所述的这些黑色矩阵图案列具有疏水特性且设 置于所述的透明基板的所述的表面上以定义出复数个次像素，各所述的黑色 矩阵图案列包括复数个遮光结构，以串联方式沿一第一方向排列，各所述的 遮光结构具有一厚度并形成一容纳空间，各所述的容纳空间为一封闭空间且 彼此不连通，而各所述的遮光结构具有至少一疏水凹口；以及一彩色滤光层，设置于所述的这些遮光结构构成的所述的这些容纳空间 之内。为达上述目的，本发明提出一种彩色滤光片结构，包括 一透明基板，所述的透明基板包括一表面；复数个黑色矩阵图案列，所述的这些黑色矩阵图案列具有疏水特性且设 置于所述的透明基板的所述的表面上以定义出复数个次像素，各所述的黑色 矩阵图案列包括复数个遮光结构，以串联方式沿一第一方向排列，各所述的 遮光结构具有一厚度并形成一容纳空间，且各所述的遮光结构具有至少一疏 水通道，使得位于同一所述的黑色矩阵图案列上相邻的所述的这些容纳空间 彼此连通；以及一彩色滤光层，设置于所述的这些遮光结构构成的所述的这些容纳空间 之内。
为达上述目的，本发明还提供一种制作彩色滤光片结构的方法，包括 提供一透明基板；于所述的透明基板的一表面形成复数个黑色矩阵图案列，其中各所述的 黑色矩阵图案列包括复数个遮光结构，以串联方式沿一第一方向排列，各所 述的遮光结构具有一厚度并形成一容纳空间，且各所述的遮光结构具有至少 一缺口(或凹口、通道)；对所述的黑色矩阵图案进行一疏水处理制造工艺，使各所述的遮光结构的所述的缺口具有疏水特性而形成至少一疏水阀；以及进行一喷墨制造工艺依序于各所述的容纳空间中喷入光刻胶墨液，并借由各所述的疏水阀产生的一疏水力(hydrophobic force)与各所述的容纳空间内 的光刻胶墨液产生的一静水力(hydrostatic force)两者达到静力平衡时，因疏水 力主要关联于所述的通道或凹口或缺口的尺寸设计而调整，故多余的光刻胶 墨液造成静水力大于设计的疏水力范围时，所述的多余光刻胶墨液便可流入 所述的这些疏水阀(包括疏水通道、凹口或缺口)内，而使位于各所述的黑色矩 阵图案列的所述的这些容纳空间内的光刻胶墨液具有相同的高度，以降低喷 墨制造工艺的变异可能造成的厚度不均与混色等缺陷，而达到彩色滤光层色 度均匀的效果并可有效提升彩色滤光片的可靠度与良品率。


图1与图2为现有喷墨制造工艺的方法示意图。图3至图5绘示了在一容纳空间内光刻胶墨液的体积调整机制的示意图。 图6至图12为本发明各实施例的彩色滤光片结构的示意图。 图13为本发明一实施例制作彩色滤光片结构的方法流程图。附图标号10 玻璃基板 12 黑色矩阵图案14 容纳空间 16R 红色光刻胶墨液
16G 30 34 38 38G 40具体实施方式
绿色光刻胶墨液 透明基板 遮光结构 彩色滤光层 绿色滤光图案 疏水通道16B 蓝色光刻胶墨液32 黑色矩阵图案列36 容纳空间38R 红色滤光图案38B 蓝色滤光图案42 疏水凹口本发明提供的彩色滤光片结构具有疏水阀的设计，应用疏水力与静水力 的静力平衡，以解决色度不均、白区漏光及色偏问题。请参考图3至图5。图 3至图5绘示了在一容纳空间内光刻胶墨液的体积调整机制的示意图，其中图 5为图4的俯视图。如图3所示，当光刻胶墨液(未干燥的彩色滤光层)注入一 容纳空间之内后，光刻胶墨液的重力会产生一静水力Ps，而另一方面本发明 的疏水阀则会因疏水特性产生一疏水力Ph。理论上，光刻胶墨液在干燥前的 理想高度为T，然而若光刻胶墨液的喷涂量过多时，例如其高度为T，，此时 静水力Ph会大于疏水力Ps使得过多的光刻胶墨液流入疏水阀内。如图4与 图5所示，在光刻胶墨液流入疏水阀内的过程中，会使得静水力Ps慢慢减弱， 直到与疏水力Ph达成静力平衡为止。静水力Ps与疏水力Ph的关系如下列关系式所示<formula>formula see original document page 9</formula>(1)尸,=fg"其中Ph:疏水力； Ps:静水力；CJgl:光刻胶墨液的表面张力；(2)
ee:光刻胶墨液与黑色矩阵图案列的接触角； P:光刻胶墨液的密度； g:重力常数；h:光刻胶墨液未干燥前的高度； w1:容纳空间的宽度； h1:容纳空间的高度； W2:疏水阀的宽度； h2:疏水阀的高度；由上述关系式可知，在光刻胶墨液的表面张力、光刻胶墨液与黑色矩阵 图案列的接触角、光刻胶墨液的密度、容纳空间的高度与疏水阀的高度为已 知的状况下，可借由设计容纳空间的宽度Wi与疏水阀的宽度W2的比例，使得当静力达到平衡的状能下(亦即Ph=Ps)，即使喷墨量过大亦可将光刻胶墨液 的高度例如调整控制在理想的范围内(例如T)。因此借由疏水力与静水力的平 衡，疏水阀可解决光刻胶墨液的变异量的问题，当光刻胶墨液的喷涂量过大 时会流入疏水阀内，而不会产生溢流造成混色问题，且在静力平衡的状况下 所有容纳空间内的光刻胶墨液均会具有相同的高度，如此一来后续烘烤后形 成的彩色滤光层亦会具有相同的高度，而可提高彩色滤光层高度的一致性。请参考图6与图7。图6与7图为本发明一较佳实施例的彩色滤光片结构 的示意图，其中图6为一外观示意图，而图7为一俯视图。如图6与图7所 示，本实施例的彩色滤光片结构包括一透明基板30(例如一玻璃基板)、复数 个黑色矩阵图案列32，以及一彩色滤光层38。黑色矩阵图案列32具有疏水 特性且设置于透明基板30的表面上，定义出复数个次像素。各黑色矩阵图案 列32包括复数个遮光结构34，以串联方式沿一第一方向排列，各遮光结构 34具有一厚度并形成一容纳空间36。彩色滤光层38，包括复数种不同颜色的 彩色滤光图案，例如红色滤光图案(第一颜色滤光图案)38R、绿色滤光图案(第 二颜色滤光图案)38G与蓝色滤光图案(第三颜色滤光图案)38B，其中红色滤光
图案38R、绿色滤光图案38G与蓝色滤光图案38B以直条状(stripe)方式交错 设置于遮光结构32构成的容纳空间36之内。本发明的彩色滤光片结构的特征之一在于具有疏水阀设计，而疏水阀经 过疏水处理，因此具有疏水特性而可提供疏水力。如前所述，喷墨头可能会 产生喷墨量变异的问题，使得光刻胶墨液在各容纳空间36中会具有不同的量， 而本实施例的作法为各遮光结构34具有至少一疏水凹口 42，各疏水凹口 42 可单独发挥疏水阀的作用，使得当光刻胶墨液喷涂于容纳空间36之内而尚未 干燥之前，多余的光刻胶墨液会流入疏水凹口 42使静水力下降而直至疏水力 与静水力达到静力平衡为止。如此，光刻胶墨液不致溢流至其它列的不同色 容纳空间36之内，并可使各容纳空间36的光刻胶墨液具有相同的高度，进 而使得干燥后所形成的彩色滤光层38亦会具有一致的厚度。本实施例将疏水凹口 42形成于各遮光结构34的侧壁上，更精确地说各 疏水凹口 42与相邻的遮光结构34的疏水凹口 42设置于遮光结构34相邻的 侧边上，且相邻的疏水凹口 42为相对应设置，其中在各黑色矩阵图案列32 的两端的容纳空间36仅具有单一疏水凹口 42，而其它容纳空间36则分别具 有两个疏水凹口42，但其数量并不限于此。另外，疏水凹口42未使相邻的容 纳空间36相互连通，因此使得各容纳空间36为一封闭空间，但疏水凹口 42 具有疏水特性，因此可提供疏水力而发挥疏水阀的功效。为了突显本发明不同实施例之间的差异，下列各实施例的说明及图示仅 就各实施例的相异处加以说明，而不再赘述相同的元件。请参考图8。图8为 本发明另一实施例的彩色滤光片结构的黑色矩阵图案列的俯视图。图8的实 施例与图6的实施例类似，其不同之处在于除了各黑色矩阵图案列32最末端 的容纳空间36不具有疏水凹口 42外，其余的容纳空间均仅具有单一疏水凹 □ 42。请参考图9。图9为本发明又一实施例的彩色滤光片结构的黑色矩阵图案 列的上视图。如图9所示，与图6的实施例相较，本实施例的各遮光结构34
的侧壁上形成有复数个疏水凹口 42，而非仅有单一疏水凹口 42，且各容纳空 间36内的疏水凹口 42为均匀分布。值得说明的是在上述各实施例中，容纳 空间36的宽度为第一宽度，而各容纳空间36内的疏水凹口 42的宽度(或宽度 和)为第二宽度，且第二宽度与第一宽度的比值大体上介于0.3至0.95之间， 并以大体上介于0.5至0.9之间为较佳，然而第二宽度与第一宽度的比值仍应 依据光刻胶墨液的表面张力、光刻胶墨液与黑色矩阵图案列的接触角、光刻 胶墨液的密度等参数而加以变更，而不限于上述范围。请参考图10与图11。图10与图11为本发明另一实施例的彩色滤光片结 构的示意图，其中图IO为一外观示意图，而图ll为一俯视图。如图10与图 11所示，本实施例的彩色滤光片结构的特征之一在于各遮光结构34具有至少 一疏水通道40，而非疏水凹口设计。疏水通道40除可发挥疏水阀的作用外， 并使得位于同一黑色矩阵图案列32上相邻的容纳空间36彼此连通。与疏水 凹口的设计不同之处在于，疏水通道40的设计可使得多余的光刻胶墨液经由 疏水通道40溢流至同一串联的相邻的容纳空间36内。如此，光刻胶墨液不 致溢流至其它列之不同色容纳空间36之内，并可使得同一列的容纳空间36 之内相同颜色的光刻胶墨液具有相同的高度，进而使得干燥后所形成的彩色 滤光层38亦会具有一致的厚度。请参考图12。图12为本发明又一实施例的彩色滤光片结构的黑色矩阵图 案列的俯视图。如图12所示，与图10的实施例相较，本实施例的作法为各 遮光结构34具有复数条疏水通道40，而非仅具有单一疏水通道40。在上述两实施例中，容纳空间36的宽度为第一宽度，而各容纳空间36 内的疏水通道40的宽度(或宽度和)为第二宽度，且第二宽度与第一宽度的比 值大体上介于0.3至0.95之间，并以大体上介于0.5至0.9之间为较佳。值得 说明的是第二宽度是指各容纳空间36内的疏水通道40的宽度总和，因此若 容纳空间36仅包括单一疏水通道40,则第二宽度即为疏水通道40的宽度(例 如本实施例中位于各黑色矩阵图案列32两端的容纳空间36)，而若容纳空间
包括两个疏水通道，则第二宽度是指疏水通道40的宽度总和。另外，第二宽 度与第一宽度的比值仍应依据光刻胶墨液的表面张力、光刻胶墨液与黑色矩 阵图案列的接触角、光刻胶墨液的密度等参数而加以变更，而不限于上述范围。上述疏水凹口 42或疏水通道40形成的空间，可利用对组的含有TFT控 制单元的基板上对应的不透光结构以防止漏光，例如含有栅极线或是其他金 属导线的不透光层结构，制作遮蔽的金属结构，或者是利用高开口率结构中， 有机介电层覆盖于栅极线上，使液晶分子在疏水凹口 42或疏水通道40等部 分仍然能够控制液晶开关，来遮蔽此处可能造成的漏光，由于此部分为掌握 该项技术者所熟知，因此不再赘述。值得说明的是，基本上光刻胶墨液的喷涂量的变异在一定程度内的状况 下，在疏水力的作用下位于同一列的容纳空间36内的光刻胶墨液并不会通过 疏水通道40流入相邻的容纳空间36内，然而光刻胶墨液的喷涂量的变异在 极大的情况下有可能超过标准值太多，而导致在某一容纳空间36内的光刻胶 墨液的静水力有可能大于疏水通道40的疏水力而使静力不平衡，在此状况下 此一容纳空间36内的光刻胶墨液会经静水力的影响经由疏水通道40流至位 于同一列的相邻容纳空间36内，而当此一容纳空间36内的光刻胶墨液的量 下降至可接受的范围内时，静水力与疏水力仍会达到平衡而使得所有容纳空 间36内的光刻胶墨液仍会具有相同的高度。为了适应光刻胶墨液的变异量超 出标准值太多的特殊状况，各黑色矩阵图案列32的容纳空间36的其中之一 或其中数个(一般为最末端的容纳空间36)可设定为一虚设(dummy)容纳空间 36d(如图11或图12所示)，其中虚设容纳空间36d可能在喷墨制造工艺时未 喷涂有光刻胶墨液，而借此当光刻胶墨液的量过多时，可作为容纳多余的光 刻胶墨液的缓冲空间，使其它容纳空间36内的光刻胶墨液的量维持在正常范 围。请参考图13，并请一并参考图6至图12。图13为本发明一实施例制作 彩色滤光片结构的方法流程图。如图13所示，本实施例制作彩色滤光片结构
的方法，包括下列步骤步骤50:提供一透明基板；步骤52:于透明基板的一表面形成复数个黑色矩阵图案列，其中各黑色 矩阵图案列包括复数个遮光结构，以串联方式沿一第一方向排列，各遮光结 构具有一厚度并形成一容纳空间，且各遮光结构具有至少一缺口、凹口或通 道，其中遮光结构的缺口可为单一或复数条连通相邻的容纳空间的通道，或 为单一或复数个未连通相邻的容纳空间的凹口 ；步骤54:对黑色矩阵图案进行一疏水处理制造工艺例如一等离子体制造工艺，使各遮光结构的所述的缺口、所述的凹口或所述的通道具有疏水特性 而形成至少一疏水阀；步骤56:进行一喷墨制造工艺依序于各容纳空间中喷入光刻胶墨液，并 借由各疏水阀产生的一疏水力与各容纳空间内的光刻胶墨液产生的一静水力 达到静力平衡，使多余的光刻胶墨液流入疏水缺口内，而使位于各黑色矩阵 图案列的容纳空间内的光刻胶墨液具有相同的高度；以及步骤58:于喷墨制造工艺后进行一烘烤制造工艺，以形成色度均匀的彩 色滤光片结构。由上述可知，本发明利用疏水阀(包括疏水凹口或疏水通道)设计提供一疏 水力，并借由调整疏水通道或疏水凹口的宽度使得疏水力与光刻胶墨液的静 水力达到力平衡，以降低喷墨制造工艺的变异可能造成的彩色滤光片缺陷， 因此可有效提升彩色滤光片的可靠度与良率。以上所述仅为本发明的较佳实施例，凡依本发明权利要求范围所做的均 等变化与修饰，皆应属本发明的涵盖范围。
权利要求
1.一种彩色滤光片结构，其特征在于，所述的结构包括一透明基板，所述的透明基板包括一表面；复数个黑色矩阵图案列，所述的这些黑色矩阵图案列具有疏水特性且设置于所述的透明基板的所述的表面上以定义出复数个次像素，各所述的黑色矩阵图案列包括复数个遮光结构，以串联方式沿一第一方向排列，各所述的遮光结构具有一厚度并形成一容纳空间，且各所述的遮光结构具有至少一疏水通道，使得位于同一所述的黑色矩阵图案列上相邻的所述的这些容纳空间彼此连通；以及一彩色滤光层，设置于所述的这些遮光结构构成的所述的这些容纳空间之内。
2. 如权利要求1所述的彩色滤光片结构，其中所述的遮光结构具有一第 一宽度，而所述的疏水通道具有一第二宽度，且所述的第二宽度与所述的第 一宽度的比值大体上介于0.3至0.95之间。
3. 如权利要求2所述的彩色滤光片结构，其中所述的第二宽度与所述的 第一宽度的比值大体上介于0.5至0.9之间。
4. 如权利要求1所述的彩色滤光片结构，其中各所述的遮光结构包括复 数个疏水通道，使得位于同一所述的黑色矩阵图案列上相邻的所述的这些容 纳空间彼此连通。
5. 如权利要求4所述的彩色滤光片结构，其中各所述的遮光结构具有一 第一宽度，而位于同一遮光结构的所述的这些疏水通道的宽度总和为一第二 宽度，且所述的第二宽度与所述的第一宽度的比值大体上介于0.3至0.95之 间。
6. 如权利要求5所述的彩色滤光片结构，其中所述的第二宽度与所述的 第一宽度的比值大体上介于0.5至0.9之间。
7. 如权利要求1所述的彩色滤光片结构，其中所述的彩色滤光层包括复数个第一颜色滤光图案、复数个第二颜色滤光图案与复数个第三颜色滤光图 案，以直条状方式交错排列于所述的这些容纳空间之内。
8. 如权利要求1所述的彩色滤光片结构，其中各所述的黑色矩阵图案列 的所述的这些容纳空间的其中之一为一虚设容纳空间。
9. 一种彩色滤光片结构，其特征在于，所述的结构包括-一透明基板，所述的透明基板包括一表面；复数个黑色矩阵图案列，所述的这些黑色矩阵图案列具有疏水特性且设 置于所述的透明基板的所述的表面上以定义出复数个次像素，各所述的黑色 矩阵图案列包括复数个遮光结构，各所述的遮光结构具有一厚度并形成一容 纳空间，各所述的容纳空间为一封闭空间且彼此不连通，而各所述的遮光结 构具有至少一疏水凹口；以及一彩色滤光层，设置于所述的这些遮光结构构成的所述的这些容纳空间 之内。
10. 如权利要求9所述的彩色滤光片结构，其中各所述的遮光结构的所述 的疏水凹口与相邻的所述的遮光结构的所述的疏水凹口设置于所述的这些遮 光结构相邻的一侧边上。
11. 如权利要求10所述的彩色滤光片结构，其中所述的遮光结构具有一 第一宽度，而所述的疏水通道具有一第二宽度，且所述的第二宽度与所述的 第一宽度的比值大体上介于0.3至0.95之间。
12. 如权利要求11所述的彩色滤光片结构，其中所述的第二宽度与所述 的第一宽度的比值大体上介于0.5至0.9之间。
13. 如权利要求9所述的彩色滤光片结构，其中各所述的遮光结构包含有 复数个疏水凹口。
14. 如权利要求13所述的彩色滤光片结构，其中各所述的遮光结构包括 复数个侧边，且所述的这些疏水凹口设置于各所述的遮光结构的所述的这些 侧边上。
15. 如权利要求14所述的彩色滤光片结构，其中各所述的遮光结构具有 一第一宽度，而位于同一遮光结构的所述的这些疏水凹口的宽度总和为一第 二宽度，且所述的第二宽度与所述的第一宽度的比值大体上介于0.3至0.95 之间。
16. 如权利要求15所述的彩色滤光片结构，其中所述的第二宽度与所述 的第一宽度的比值大体上介于0.5至0.9之间。
17. —种制作彩色滤光片结构的方法，其特征在于，所述的方法包括 提供一透明基板；于所述的透明基板的一表面形成复数个黑色矩阵图案列，其中各所述的 黑色矩阵图案列包括复数个遮光结构，各所述的遮光结构具有一厚度并形成 一容纳空间，且各所述的遮光结构具有至少一缺口；对所述的黑色矩阵图案进行一疏水处理制造工艺，使各所述的遮光结构 的所述的缺口具有疏水特性而形成至少一疏水阀；.以及进行一喷墨制造工艺依序于各所述的容纳空间中喷入光刻胶墨液，并藉 由各所述的疏水阀产生的一疏水力与各所述的容纳空间内的光刻胶墨液产生 的一静水力两者达到静力平衡，使多余的光刻胶墨液流入所述的这些疏水阀 内，而使位于各所述的黑色矩阵图案列的所述的这些容纳空间内的光刻胶墨 液具有相同的高度。
18. 如权利要求17所述的方法，其中各所述的疏水阀为一疏水通道，使 得位于同一所述的黑色矩阵图案列上相邻的所述的这些容纳空间彼此连通。
19. 如权利要求17所述的方法，其中各所述的疏水阀为一疏水凹口，且 所述的这些疏水凹口彼此不连通，使得各所述的容纳空间形成一封闭空间。
20. 如权利要求17所述的方法，其中所述的疏水处理制造工艺包括一等 离子体制造工艺。
全文摘要
本发明是关于一种彩色滤光片结构及其制作方法，所述的彩色滤光片结构包括复数个具有疏水特性的黑色矩阵图案列，以及一彩色滤光层；各黑色矩阵图案列包括复数个遮光结构以串联方式排列，且各遮光结构形成一容纳空间以容纳彩色滤光层；各容纳空间为一封闭空间且彼此不连通，且各所述的遮光结构具有至少一疏水阀以提供一疏水力。本发明可以降低喷墨制造工艺的变异可能造成的厚度不均与混色等缺陷，而达到彩色滤光层色度均匀的效果并可有效提升彩色滤光片的可靠度与良品率。
文档编号G02F1/13GK101158776SQ20071016262
公开日2008年4月9日 申请日期2007年10月15日 优先权日2007年10月15日
发明者曹俊杰, 林祥麟 申请人:友达光电股份有限公司