专利名称：：光波导膜及其制造方法
技术领域：
：本发明涉及光波导膜及其制造方法。
背景技术：
：以往，已知利用光波导膜、对设置在光基片上的多个光学元件之间进行光连接。这种光波导膜配置在光基片时，需要对光基片精密定位，以确保光路准确。作为这种光波导膜，例如已提出由多个光布线层组成并以硬化型粘接剂为中介、形成在硅基片上的光布线膜(例如参考日本国特开2002—116334号公报)。此方案中，首先，在光布线膜涂敷液状硬化型粘接剂(未硬化)，接着以液状硬化型粘接剂层为中介，将光布线膜对光基片定位，然后形成因硬化而具有所希望粘接力的硬化型粘接剂层，并将光布线膜固定在光基片上。然而，日本国特开2002—116334号公报中，对光基片固定光布线膜的期间，液状硬化型粘接剂进行流动，到达光布线膜与光学元件的连接部分，则可能妨碍光布线层的光路。另一方面，如果使用预先具有粘接力的片状粘接剂层，则粘接剂层难流动，虽然不担心妨碍光路，但粘接剂层的初期粘接力大，所以粘接剂层一接触光基片，就立即将光波导膜固定于光基片。因此，定位中，难以调整光波导膜对光基片的配置。其结果，光波导膜难对光基片高精度定位。本发明的目的在于，提供一种定位时容易剥离从而能得到优良的定位精度、并且定位后能将膜可靠地固定的连接可靠性高的光波导膜及其制造方法。
发明内容本发明的光波导膜，配备具有包层和被所述包层覆盖的芯层的膜；以及粘着剂层，该粘着剂层形成在所述膜的至少单面，并在表面具有算术平均表面粗糙度为0.1微米2.0微米的凹凸结构，而且频率1赫的扭转模式动态粘弹性测量得到的25'C的储存弹性模量为10兆巴100兆巴。本发明的光波导膜中，由丙烯类粘着剂组成物，形成所述粘着剂层为妥。而且，本发明的光波导膜中，所述粘着剂层的厚度大于等于IO微米为妥。又，本发明的光波导膜中，所述粘着剂层的初期粘接力小于等于0.5牛顿/厘米为妥。本发明的光波导膜制造方法，具有以下工序准备具有算术平均表面粗糙度为0.1微米2.0微米的凹凸结构的表面的靠模的工序；在所述靠模的表面涂覆粘着剂组成物的工序；使所述粘着剂组成物硬化，并形成频率l赫的扭转模式动态粘弹性测量得到的25'C的储存弹性模量为10兆巴100兆巴的粘着剂层的工序；准备具有包层和被所述包层覆盖的芯层的膜的工序；以及装贴所述包层和与所述靠模接触的所述粘着剂层的表面的相反面的表面的工序。根据本发明的光波导膜，光波导膜在对被粘接体的初期粘接中，使粘接剂层的特定表面粗糙度的凹凸结构的表面与被粘接体接触，因此能减小初期粘接力。因此，使定位时的剥离容易，能得到优良的定位精度。而且，粘接剂层具有特定的储存弹性模量，因此能抑制对被粘接体初期粘结中的粘接剂层的流动，防止粘接剂层妨碍芯层的光路。因此，定位时，能一面重复膜对被粘接体的粘接和剥离、调整膜对被粘接体的配置，一面以优良的定位精度定位，定位后，能将膜可靠地固定于被粘接体，进而能确保优良的连接可靠性。又，本发明的光波导膜制造方法，具有以下工序准备具有特定表面粗糙度的凹凸结构的表面的靠模的工序；在所述靠模的表面涂覆粘着剂组成物的工序；以及使所述粘着剂组成物硬化，并形成特定储存弹性模量的粘着剂层的工序。因此，此方法将靠模的表面具有的特定表面粗糙度的凹凸结构，复制到由涂覆在靠模表面的粘接剂组成物形成的粘接剂层的表面，因此能准确且简便地形成具有特定表面粗糙度的凹凸结构的表面的粘接剂层。而且，此方法具有装贴包层和与靠模接触的粘着剂层的表面的相反面的表面的工序，因此能充分确保包层与粘接剂层的接触面积，使包层与粘接剂层可靠地粘接。图1是一本发明光波导膜实施方式的沿宽度方向的剖视图。图2是示出图l所示光波导膜的制造方法的工序图，(a)示出准备靠模的工序，(b)示出在靠模的表面涂覆粘接剂组成物的工序，(c)示出使粘接剂组成物硬化并形成粘接剂层的工序，(d)示出装贴内包层和粘接剂层上表面的工序。图3是示出图1所示光波导膜的制造方法的工序图，(a)示出准备基体材料的工序，(b)示出在基体材料上形成内包层的工序，(e)示出将芯层形成在内包层上的工序，(d)示出在内包层上将外包层形成得覆盖芯层的工序，(e)示出去除基体材料的工序。图4是说明将图l所示光波导膜固定于光基片的方法用的剖视图，(a)示出从粘接剂层剥下靠模的工序，(b)示出使光波导膜固定于光基片的工序。图5是粘接剂层(实施例l)的下表面的激光显微镜表面观察的图像处理图(背面图)。图6是粘接剂层(实施例l)的下表面的激光显微镜表面观察的图像处理图(立体图)。具体实施例方式图1是一本发明光波导膜实施方式的沿宽度方向(与纵向正交的方向)的剖视图，图2是示出图l所示光波导膜的制造方法的工序图，图3是示出图1所示光波导膜的制造方法的工序图，图4是说明将图l所示光波导膜固定于光基片的方法用的剖视图。图1中，此光波导膜1形成往纵向延伸的扁带状，具有膜2和粘接剂层3。膜2为光波导，形成对应于光波导膜1的外形形状。而且，膜2具有作为包层的内包层4和外包层6、以及被内包层4和外包层6覆盖的芯层5。具体而言，膜2具有内包层4、形成在内包层4上的芯层5、以及在内包层4上形成得覆盖芯层5的外包层6。在内包层4的上表面设置多个(3个)芯层5，将其并行配置，往纵向延伸，并且在宽度方向相互隔开间隔。将芯层5的纵向两端部做成与多个光学元件光连接用的连接部分。将各芯层5形成剖视截面为实质上矩形。在膜2的单面，具体而言，在内包层4的下表面，设置粘接剂层3。粘接剂层3将其表面、即粘接剂层3的下表面形成凹凸结构，具体而言，形成算术平均表面粗糙度为0.1微米Oim)2.0微米的凹凸结构。而且，粘接剂层3的下表面的所述平均表面粗糙度以0.1微米0.5微米为佳，0.15微米0.3微米更好。将所述平均表面粗糙度作为用激光显微镜的表面观察得到的表面粗糙度的算术平均Ra求出。而且，遵照JISB0601—1994，求出此算术平均粗糙度。又，粘接剂层的25'C储存弹性模量为10兆巴(MPa)100兆巴，以10兆巴70兆巴为佳，10兆巴30兆巴更好。将25"储存弹性模量作为以频率1赫的扭转模式，求出作为使温度按5t:/分(min)从一2(TC升至20(TC的动态粘弹性测量得到的25'C的扭转储存弹性模量G'。另一方面，将粘接剂层3的背面(具体为粘接剂层的上表面(接触内包层4的下表面的面))形成平坦状。又，此光波导膜1如图1的假想线所示，根据需要，配备覆盖粘接剂层3的表面(下表面)的靠模7(后文阐述)。接着，参照图2说明此光波导膜的制造方法。首先，此方法如图2(a)所示，准备靠模7。作为形成靠模7的材料，可列举例如硅、玻璃等陶瓷材料，例如铜、铝、不锈钢、铁合金等金属材料，例如聚酰亚胺、玻璃—环氧树脂、二甲酯(PET)等树脂材料。根据凹凸结构容易加工的观点，以举树脂材料为佳，举PET更好。又，靠模7的表面、具体为靠模7的上表面(与接着涂覆的粘接组成物13接触的面)形成算术平均表面粗糙度为0.1微米2.0微米的凹凸结构。靠模7的上表面的算术平均表面粗糙度的较佳范围与上述粘接剂层3的下表面的较佳范围相同。而且，与上文所述同样地求出所述平均表面粗糙度。利用模压加工等公知的方法形成靠模7的表面凹凸结构。靠模7的厚度为例如10微米5000微米，以10微米150微米为佳。接着，用此方法如图2(b)所示那样在靠模7的表面涂覆粘接剂组成物13。粘接剂组成物13是实质上不包含溶媒、并利用下文所述的硬化形成粘接剂层3的粘接剂组成物，例如，可举出丙烯类粘接剂组成物。这种丙烯类粘接剂组成物例如包含单体成分或其部分聚合物和引发剂。单体成分，主要包含(偏)丙烯酸垸基酯，其它还包含具有反应性官能团的含反应性官能团乙烯系单体和能与上述单体((偏)丙烯酸垸基酯和含反应性官能团乙烯系单体)共聚的共聚性乙烯系单体。(偏)丙烯酸烷基酯是甲基丙烯酸垸基酯和/或丙烯酸烷基酯，可列举例如(例如可列举)(偏)丙烯酸甲酯、(偏)丙烯酸乙酯、(偏)丙烯酸丙酯、(偏)丙烯酸异丙酯等(偏)丙烯酸烷基(碳数13直链或分支垸基)酯，例如(偏)丙烯酸丁酯、(偏)丙烯酸异丁酯、(偏)丙烯酸sec-丁酯、(偏)丙烯酸t-丁酯、(偏)丙烯酸戊酯、(偏)丙烯酸新戊酯、(偏)丙烯酸异戊酯、(偏)丙烯酸己酯、(偏)丙烯酸庚酯、(偏)丙烯酸辛酯、(偏)丙烯酸2-乙基己酯、(偏)丙烯酸异辛酯、(偏)丙烯酸壬酯、(偏)丙烯酸异(偏)壬酯、(偏)丙烯酸癸酯、(偏)丙烯酸十(烷)酯、(偏)丙烯酸十一(垸)酯、(偏)丙烯酸十二(垸)酯、(偏)丙烯酸十三(垸)酯、(偏)丙烯酸十四(垸)酯、(偏)丙烯酸十五(烷)酯、(偏)丙烯酸十六(垸)酯、(偏)丙烯酸十七(垸)酯、(偏)丙烯酸异十八(烷)酯((偏)丙烯酸异正十八(垸)酯)等(偏)丙烯酸烷基(碳数418直链或分支烷基)酯，例如(偏)丙烯酸环己酯、(偏)丙烯酸环戊酯、(偏)丙烯酸冰片酯、(偏)丙烯酸异冰片酯等(偏)丙烯酸环垸酯等。这些(偏)丙烯酸垸基酯能单独使用或同时使用大于等于2种。(偏)丙烯酸烷基酯的配合比率相对于单体成分IOO重量配份，为例如5099.5重量配份。作为含反应性官能团的乙烯系单体，可举出例如含羧基的乙烯系单体。作为这种含羧基羧乙烯系单体，可列举例如(偏)丙烯酸、富马酸、马来酸、衣康酸、巴豆酸、肉桂酸等非饱和羧酸，例如无水富马酸、无水马来酸、无水衣康酸等非饱和二羧酸无水物，例如衣康酸(一)甲酯、衣康酸(一)丁酯、2-丙烯酰乙氧基苯二甲酸等非饱和二羧酸(一)酯，例如2-甲烯酰乙氧基偏苯三酸、2-甲烯酰乙氧基1,2,4,5-苯四酸等非饱和三羧酸(一)酯，例如羧乙基丙烯酸酯、羧戊基丙烯酸酯等羧垸基丙烯酸酯等。又，作为含反应性官能团乙烯系单体，除上述和羧基乙烯系单体外，还可列举例如(偏)丙烯酸丙三酯、(偏)丙烯酸甲基丙三酯等含环氧基乙烯系单体，例如丙烯酸2-乙二醇、丙烯酸2-羟基丙酯、丙烯酸2-羟基丁酯等含1价羟基乙烯系单体，例如(偏)丙烯酸甘醇、(偏)丙烯酸丙二醇、(偏)丙烯酸甲氧基甘醇、(偏)丙烯酸甲氧基丙二醇等含羟基(含2价羟基)乙烯系单体，例如(偏)丙烯酰胺、N，N-二甲基(偏)丙烯酰胺、N,N-二乙基(偏)丙烯酰胺、N-异丙基(偏)丙烯酰胺、N-丁基(偏)丙烯酰胺、N-甲氧甲基(偏)丙烯酰胺、N-羟甲基(偏)丙烯酰胺、N-羟甲基丙垸(偏)丙烯酰胺、N-乙烯羧酸酰胺等含酰胺基乙烯系单体，例如(偏)丙烯酸氨基乙酯、(偏)丙烯酸t-丁氨基乙酯等含氨基乙烯系单体，例如丙烯腈、甲烯腈等含腈基乙烯系单体，例如N-环己顺丁烯二酰亚胺、N-十二(烷)基顺丁烯二酰亚胺、N-苯基顺丁烯二酰亚胺等含顺丁烯二酰亚胺类的酰亚胺基的乙烯系单体，例如N-甲基衣康酰亚胺、N-乙基衣康酰亚胺、N-丁基衣康酰亚胺、N-辛基衣康酰亚胺、N-2-乙基己衣康酰亚胺、N-环己衣康酰亚胺、N-十二(院)基衣康酰亚胺等含衣康酰亚胺类酰亚胺基的乙烯系单体，例如N-(偏)丙烯酰甲酵琥珀酰亚胺、N-(偏)丙烯酰-6-氧化环己烷琥珀酰亚胺、N-(偏)丙烯酰-8-氧化1，8亚辛基琥珀酰亚胺等含琥珀酰亚胺类酰亚胺基的乙烯系单体，例如苯乙烯磺酸、烯炳基磺酸、2-(偏)丙烯酰胺酰亚胺-2-甲基丙垸磺酸、(偏)丙烯酰胺酰亚胺丙垸磺酸、磺丙基(偏)丙烯酸酯、(偏)丙烯酰氧化萘磺酸的含磺酸乙烯系单体，例如2-甲基丙烯酰氧化乙酯异氰酸盐等含异氰酸盐的乙烯系单体等。这些含反应性官能团乙烯系单体中，以举含羧基乙烯系单体为佳。含反应性官能团乙烯系单体的配合比率相对于单体成分100重量配份，为例如0.515重量配份。作为共聚性乙烯系单体，可列举例如乙烯基乙酸酯、丙酸乙烯酯等乙烯酯类，例如乙烯、丙烯、异戊二烯、丁二烯、异丁烯等烯属单体，例如(偏)丙烯酸苯酯等(偏)丙烯酸烯丙酯((偏)丙烯酸环己酯、(偏)丙烯酸环戊酯、(偏)丙烯酸冰片酯、(偏)丙烯酸异冰片酯等(偏)丙烯酸酯环式烃酯，例如(偏)丙烯酸苯等(偏)丙烯酸烯丙酯)，例如苯乙烯、乙烯基甲苯等芳香族类乙烯基单体，(例如(偏)丙烯酸甲酯、(偏)丙烯酸乙酯、(偏)丙烯酸丙酯、(偏)丙烯酸异丙酯等(偏)丙烯酸烷基(碳数13直链或分支垸基)酯)，例如(偏)丙烯酰吗啉、(偏)丙烯酸氨基乙酯、(偏)丙烯酸N，N-二甲氨基乙酯、(偏)丙烯酸t-丁氨基乙酯等含氮原子乙烯系单体，例如(偏)丙烯酸甲氧基乙酯、(偏)丙烯酸乙氧基乙酯、(偏)丙烯酸甲氧基乙烯甘醇、(偏)丙烯酸甲氧基丙烯甘醇等含醇氧基乙烯系单体，例如乙烯醚等乙烯醚系单体，例如氯乙烯等含卣素原子单体，例如N-吡咯烷酮、N-(乙烯基甲基)吡咯烷酮、N-乙烯基绿毛菌素、N-乙烯基薄荷酮、N-乙烯基嘧啶、N-乙烯基哌嗪、N-乙烯基吡咯N-乙烯基咪唑、N-乙烯基啞唑、N-乙烯基吗啉、(偏)丙烯酸氢糠酯等含乙烯基杂环化合物，例如含卤素原子丙烯酸的丙烯酸酯系单体等。又，作为共聚性乙烯系单体，可举多官能性单体。作为多官能性单体，可列举例如乙二醇二(偏)丙烯酸酯、二乙二醇二(偏)丙烯酸酯、三乙二醇二(偏)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(偏)丙烯酸酯、四甘醇二(偏)丙烯酸酯、新戊基甘醇(偏)丙烯酸酯、1，6-己二元醇二(偏)丙烯酸酯、季戊四醇(偏)丙烯酸酯、四羟甲基甲烷三(偏)丙烯酸酯、二季戊四醇六(偏)丙烯酸酯等(单或聚)亚烷基多元醇聚(偏)丙烯酸酯或苯乙烯等。而且，作为多官能性单体，还可举环氧丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯、尿烷丙烯酸酯等。这些共聚单体中，以举多官能性单体为佳。这些共聚性乙烯系单体可单独使用，也可同时使用大于等于2种。共聚性乙烯系单体的配合比率相对于单体成分100重量配份，为例如小于等于49重量配份。单体成分的部分聚合物，是存在引发剂的情况下能将单体成分部分聚合(预聚合)未反应单体成分和聚合体成分的混合物。部分聚合物的聚合率为例如240重量％，以520重量％为佳。再者，精确秤出约0.5克(g)的部分聚合物，对其精确秤出13(TC下进行烘干2小时后的重量，求出重量的减少量，将得到的数值代入下面的公式，从而算出部分聚合物的聚合率。部分聚合物的聚合率(％)=[1-(重量减少量)/(烘干前的部分聚合物的重量)]x100作为引发剂的例子，可举例如光聚合引发剂、热聚合引发剂等。根据容易硬化的观点，举光聚合引发剂为佳。作为光聚合引发剂，可列举例如苯偶姻乙醚、苯偶姻丙醚、2,2-二甲氧基-1，2-苯乙烷-1-酮等苯偶姻乙醚，例如茴香醚甲醚等取代苯偶姻醚，例如2，2-二乙氧基苯乙酮、2,2-二甲氧基-2-二苯乙酮、1-羟基-环己苯酮等取代苯乙酮，例如2-甲基-2-羟苯基，乙基(甲)酮等芳香族氯化磺酰，例如l-苯基-l，1-丙二酮-2-(0-乙氧基碳酰)-肟等光激活性肟。以举2，2-二甲氧基-1,2-苯乙烷-l-酮、l-羟基-环己苯酮为佳。光聚合引发剂通常使用一般市售品，例如IRGACURE系歹U(CHIBASPECIALITYCHEMICALS公司制)，具体可举IRGACURE651(2,2-2,2-二甲氧基-1,2-苯乙垸-l-酮)、IRGACURE184(l-羟基-环己苯酮)等。这些引发剂可单独使用或同时使用大于等于2种。引发剂的配合比率对单体成分100重量配份，为例如0.015重量配份，以0.13重量配份为佳。通过配合上述单体成分和引发剂并进行混合，能得到粘着剂组成物13。又，粘着剂组成物13可根据需要，以适当比率添加例如粘度调整剂、交联剂、剥离调整剂、增塑剂、软化剂、填充剂、着色剂(颜料、染料等)、防老化剂等粘着剂组成物中通常添加的添加剂。作为粘度调整剂，可举苯乙烯类成块聚合物。涂覆粘着剂时，可用例如浇注、旋涂的涂覆法。根据接着形成的粘着剂层3的厚度，适当选择这样涂覆的粘着剂组成物13的厚度，但大于等于10微米，以大于等于20微米为佳，通常小于等于400微米。接着，此方法如图2(c)所示，使粘接剂组成物13硬化，形成粘接剂层3。使粘接剂组成物13硬化时，例如粘接剂组成物13含有光聚合引发剂作为引发剂，则对粘接剂组成物13照射光，而例如粘接剂组成物13含有热聚合引发剂作为引发剂，则对粘接剂组成物13加热。以对粘着剂组成物13照射光(紫外线)为佳。紫外线照射中，例如以400毫焦/厘米"mJ/cm2)4000毫焦/厘米2的剂量照射波长300纳米(nm)400纳米的照度为1毫瓦/厘米"mW/cm2)200毫瓦/厘米2的紫外线。又，紫外线照射中，如图2(b)的假想线所示，在已涂覆的粘接剂组成物13的表面(上表面)，根据需要，叠积PET等合成树脂的组成的脱模膜8，使粘着剂层13断氧。为了提高从粘着剂层13的剥离性，按照需要，在脱模膜8的表面(下表面)进行硅处理等剥离处理。由此，使粘着剂层13硬化，形成上述25'C的储存弹性模量为10兆巴100兆巴的粘着剂层3。这样形成的粘着剂层3，其厚度为例如大于等于IO微米，以大于等于20微米为佳，通常小于等于400微米。接着，此方法如图3(e)所示，准备具有内包层4、芯层5和外包层6的膜2。准备膜2时，如图3(a)所示，首先准备基体材料12。基体材料12做成板状；作为形成此基体材料12的材料，可举与上述靠模7的材料相同的材料。根据后文阐述的容易去除的观点，可举金属材料。基体材料12的厚度为例如IO微米5000微米，以10微米1500微米为佳。接着，此方法如图3(b)所示，在基体材料12上形成内包层4。作为形成内包层4的材料，可举例如聚酰亚胺树脂、聚酰胺树脂、硅树脂、环氧树脂或者它们的氟化树脂或氘化树脂，还可举芴感应体树脂的树脂材料。这些树脂材料最好配合感光剂，作为感光树脂使用。以举感光聚酰亚胺树脂(作为原材料，感光聚酰胺-酰亚胺树脂或感光氟化聚酰胺-酰亚胺树脂树脂)和感光芴感应体树脂(作为原材料，感光芴感应体)。在基体材料12上形成内包层4时，例如调制上述树脂的漆(树脂溶液)，利用浇注、旋涂等，将该漆涂覆在基体材料12上后，使其干燥，根据需要，进行加热。再者，使用感光材料的情况下，漆的涂覆和干燥后，以光掩模为中介进行曝光，根据需要，曝光后进行加热，然后进行显像，接着进行加热。这样形成的内包层4的厚度，为例如5微米100微米。接着，此方法如图3(c)所示，在内包层4上形成芯层5。作为形成芯层5的材料，可举折射率高于内包层4的树脂材料的树脂材料。作为这种树脂材料，可举与上文所述相同的树脂材料。形成芯层5时，例如调制上述树脂的漆(树脂溶液)，将该漆涂覆在内包层4的表面后，使其干燥，根据需要，使其硬化。再者，使用感光材料的情况下，漆的涂覆和干燥后，以光掩模为中介进行曝光，根据需要，曝光后进行加热，然后进行显像，接着进行加热。这样形成的芯层5的厚度，为例如5微米100微米。宽度为例如5微米100微米。接着，此方法如图3(d)所示，在内包层4上形成外包层6，使其覆盖芯层5。作为形成外包层6的材料，可举与上述内包层4相同的材料。再者，内包层4和外包层6可由相同的树脂材料形成，也可由不同的树脂材料形成。在内包层4上形成外包层6时，例如调制上述树脂的漆(树脂溶液)，利用例如浇注、旋涂等将该漆涂覆在包含芯层5的内包层4上后，使其干燥，根据进行加热。再者，使用感光材料的情况下，漆的涂覆和干燥后，以光掩模为中介进行曝光，根据需要，曝光后进行加热，然后进行显像，接着进行加热。这样形成的外包层6的厚度，为例如5微米100微米。其后，此方法如图3(e)所示，去除基体材料12。作为基体材料12的去除，可用例如蚀刻、剥离等。这样，能准备具有内包层4、芯层5和外包层6的膜2。接着，此方法如图2(d)所示，装贴内包层4和粘着剂层3的平坦表面(接触靠模7的表面的相反方的表面)。具体而言，装贴膜2的内包层4的下表面和粘着剂层3的上表面(粘着剂层3的平坦表面)。这样，能得到光波导膜1。又，此光波导膜l中，后文的实施例详述的粘着剂层3的初期粘接力为例如小于等于0.5牛顿/厘米(N/cm)，以小于等于0.2牛顿/厘米为佳，通常为大于等于0.1牛顿/厘米；粘着剂层3压接后的粘接力为例如大于等于1牛顿/厘米，以大于等于1.1牛顿/厘米为佳，通常小于等于3牛顿/厘米。接着，参照图4说明将光波导膜1固定在光基片9上的方法。首先，如图4(a)所示，得到的光波导膜l中，从粘着剂层3剥下靠模7(参考图2(d))。由此，露出具有凹凸结构的粘着剂层3的下表面。其后，如图4(b)所示，使光波导膜1固定在具有光学元件(未图示)的光基片9上。于是，对光基片9固定光波导膜1中，首先，一面将光波导膜l对光基片9从上方定位成与光学元件相邻，一面使粘着剂层3的下表面暂时与光基片9的上表面接触(初期粘接)。接着，如果将光波导膜1对光基片9定位成光连接芯层5的连接部分和光学元件的连接部分，则使光波导膜1原样往下方压接，从而使光波导膜1固定在光基片1上。另一方面，如果未将光波导膜1对光基片1定位，则一面往上方撤离光波导膜1，从光基片9剥下粘着剂层3，将光波导膜1对光基片9定位(修正位置)，一面使粘着剂层3的下表面与光基片9的上表面接触。其后，如果将光波导膜1对光基片9定位成光连接芯层5的连接部分和光学元件的连接部分，则使光波导膜1固定于光基片1。再者，如果未将光波导膜1对光基片1定位，则重复上述剥离和粘接。于是，上述光波导膜1的制造方法，将靠模7的上表面具有的特定表面粗糙度的凹凸结构，复制到涂敷在靠模7的上表面的粘着剂组成物13形成的粘着剂层3的下表面，因此能可靠且简便地形成具有特定表面粗糙度的凹凸结构的下表面的粘着剂层3。又，光波导膜1的制造方法，充分确保内包层4与粘着剂层3的接触面积，能使内包层4与粘着剂层3可靠地粘接。而且，利用此方法得到的光波导膜1在对光基片9的初期粘接中，使粘着剂层3的特定表面粗糙度的凹凸结构的下表面与光基片9接触，因此能使初期粘接力减小。因此，使定位时的剥离容易，能得到优良的定位精度。又，粘着剂层3具有特定储存弹性模量，因此对光基片9的初期粘接后的接合(压接)中，使粘着剂层3的特定表面粗糙度的凹凸结构的下表面与光基片9压接，可确保充分的粘接力，能使膜2可靠地固定于光基片9。而且，由于粘着剂层3具有特定储存弹性模量，抑制对光基片9的初期粘接中粘着剂层3的流动，从而能防止粘着剂层3妨碍芯层5的连接部分与光学元件的连接部分之间的光路。因此，在定位时，能一面重复膜2对光基片1的粘接和剥离，调整膜2对光基片9的配置，一面以优良的定位精度进行定位，而在定位后能将膜2可靠地固定于光基片9，进而能确保优良的连接可靠性。再者，上述说明中，仅在内包层4的下表面设置粘着剂层3，但也能除内包层4的下表面外，还在外包层6的上表面设置粘着剂层3。实施例下面，举实施例和比较例，进一步具体说明本发明。但是，本发明不受下面的实施例和比较例任何限制。再者，下面的说明中，"份"和"％"是以重量基准，除非专门标明。实施例1(调制粘着剂组成物)在配备冷却管、氮导入管、温度计和搅拌机的4口烧瓶中，添加并混合丙烯酸异硬脂酰酯75份、丙烯酸12份、1,6-己二元醇二丙烯酸酯0.1份、IRGACURE651(光聚合引发剂，CHIBASPECIALITYCHEMICALS公司制)0.2份、IRGACURE184(CHIBASPECIALITYCHEMICALS公司制)0.2份和苯乙烯类成块聚合物SEBS(粘度调整剂，住友化学公司制)25份，从而调制粘着剂组成物。(形成粘着剂层)准备将上表面加工处理(磨砂编码处理)成凹凸结构的PET膜(EMBLTSM-38，厚38微米，尺寸200毫米X300毫米，UNICHIKA公司制)(参考图2(a))，接着在此PET膜的上表面涂覆粘着剂组成物，使其硬化后的厚度为40微米(参考图2(b))。然后，装贴该粘着剂组成物和对下表面作硅处理(剥离处理)后的厚度为35微米的PET组成的脱模膜，使粘着剂组成物与脱模膜的下表面接触，从而使粘着剂组成物断氧(参考图2(b)的假想线)。接着，从脱模膜的上方，用黑光(东芝公司制)以照度3.6毫瓦/厘米"mW/cm2)照射紫外线(波长315纳米(nm)400纳米)5分钟，使粘着剂组成物硬化，形成被PET膜和脱模膜夹在中间的粘着剂层(参考图2(c))。(制作膜)首先，准备厚25微米的不锈钢基体材料(尺寸为200毫米X300毫米)(参考图3(a))。接着，按照表1的处方调制芴感应体漆A。接着，将此芴感应体漆A涂覆于不锈钢基体材料的表面，以IO(TC加热15分钟，从而烘干。其后，以光掩模为中介进行曝光，接着进行显像后，以10(TC加热20分钟，使其硬化，从而在不锈钢基体材料上形成内包层(参考图3(b))。内包层在波长633纳米的折射率为1.585。而且，内包层的厚度为20微米。又，按照表1的处方调制芴感应体漆B。接着，将此芴感应体漆B涂覆于内包层的表面，以10(TC加热30分钟，从而烘干。其后，以光掩模为中介进行曝光，接着曝光后以10(TC加热60分钟后，进行显像。然后，以100'C加热IO分钟，使其硬化，从而在内包层上形成芯层。此芯层在波长633纳米的折射率为1.615。而且，芯层的厚度为5微米，宽度为5微米。接着，将芴感应体漆A涂覆于含芯层的内包层的表面，以10(TC加热15分钟，从而烘干。其后，以光掩模为中介进行曝光，接着进行显像。其后，以100。C加热20分钟，使其硬化，从而在内包层上将外包层形成得覆盖芯层(参考图3(d))。此外包层在波长633纳米的折射率为1.585。而且，外包层的厚度为20微米。然后，利用蚀刻去除不锈钢基体材料(参考图3(e))。由此，准备好具有内包层、芯层和外包层的膜。表1<table>tableseeoriginaldocumentpage15</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage16</column></row><table>*1:双苯氧基乙烯醇芴二缩水甘油醚*2:双苯酚芴二縮水甘油醚*3:3，4-环氧环己烯甲基-3'，4'-环氧环己烯羧化物(CEROXIDE2021P，DAICER化学公司制)*4:含50%的4,4-双[二(p羟基乙氧基)二苯砜]二苯硫醚-双-氟代锑酸盐的丙碳酸盐溶液(制作光波导膜)首先，从粘着剂层剥下脱模膜，然后，将膜的内包层下表面与粘着剂层上表面粘合(参考图2(d))。由此，制作了具有膜和粘着剂层的光波导膜。实施例2在实施例1的形成粘着剂层中，将粘着剂组成物涂覆成硬化后的厚度为70微米。除这点外，与实施例1同样地形成粘着剂层，接着制作光波导膜。实施例3在实施例1的形成粘着剂层中，将粘着剂组成物涂覆成硬化后的厚度为120微米。除这点外，与实施例1同样地形成粘着剂层，接着制作光波导膜。实施例4(调制粘着剂组成物)在配备冷却管、氮导入管、温度计和搅拌机的4口烧瓶中，添加并混合丙烯酸2-乙基己酯45份、丙烯酸10份、丙烯酸异冰片酯45份、1，6-己二元醇二丙烯酸酯0.1份、IRGACURE651(光聚合引发剂，CHIBASPECIALITYCHEMICALS公司制)0.05份和IRGACURE184(CHIBASPECIALITYCHEMICALS公司制)0.05份。然后，一面导入氮，一面照射紫外线，使其预聚合，从而调制由部分聚合物(单体浆)组成的粘着剂组成物。再者，部分聚合物的聚合率为8%。(形成粘着剂层和制作光波导膜)除使用上述调制的粘着剂组成物外，与实施例同样地形成粘着剂层(厚40微米)，接着制作光波导膜。实施例5实施例4的调制粘着剂组成物中，使用丙烯酸15份，以代替丙烯酸10份。除这点外，与实施例4相同地调制含部分聚合物的粘着剂组成物，接着形成粘着剂层(厚40微米)后，接着制作光波导膜。再者，部分聚合物的聚合率为8%。比较例1实施例1的形成粘着剂层中，使用普通PET膜(未加工处理成凹凸结构的PET膜)，以代替加工处理成凹凸结构的PET膜。除这点外，与实施例1同样地形成粘着剂层后，接着制作光波导膜。比较例2实施例4的形成粘着剂层中，使用普通PET膜(未加工处理成凹凸结构的PET膜)，以代替加工处理成凹凸结构的PET膜。除这点外，与实施例4同样地形成粘着剂层后，接着制作光波导膜。比较例3实施例5的形成粘着剂层中，使用普通PET膜(未加工处理成凹凸结构的PET膜)，以代替加工处理成凹凸结构的PET膜。除这点外，与实施例5同样地形成粘着剂层后，接着制作光波导膜。比较例4(调制聚合物溶液)在配备冷却管、氮导入管、温度计和搅拌机的4口烧瓶中，添加丙烯酸丁酯100份、丙烯酸1份、丙烯酸4-羟基丁酯0.3份、2，2'-偶氮双异丁腈0.l份和乙酸乙酯20份，一面缓慢搅拌，一面导入l小时氮气。然后，一面导入氮气，一面将烧瓶内的液温保持55'C6(TC，进行10小时的聚合后，调制聚合体溶液。(调制粘着剂溶液)相对于聚合体固态部分100份添加甲苯二异氰酸盐的三甲基丙烷阿达克特体(CORONETL，日本聚亚胺酯公司制)l份，一面搅拌一面混合，从而调制粘着剂溶液。(形成粘着剂层)准备将上表面加工处理(磨砂表面处理)成凹凸结构的PET膜(RMBLETSM-38，厚38微米；UNICHIKA公司制)(参考图2(a))，接着在此PET膜表面将粘着剂溶液涂覆成干燥后的厚度为40微米(参考图2(b))。接着，投入13(TC的干燥机3分钟，使残存的单体挥发，从而形成粘着剂层(参考图2(c))。(制作光波导膜)将膜的内包层下表面和粘着剂层上表面粘合(参考图3(d))由此，制作具有膜和粘着剂层的光波导膜。(评价)(1)储存弹性模量(G')对各实施例和各比较例中形成的粘着剂层，使用动态粘弹性测量装置(ARES，TA*INSTRUMENT公司制)，以频率1赫的扭转模式使温度按5°C/分从一2(TC升高到20(TC，并算出25。C的储存弹性模量。表2示出其结果。(2)算术平均表面粗糙度(Ra)对加工处理成凹凸结构的PET膜的上表面以及各实施例和各比较例形成的粘着剂层的下表面，根据使用激光显微镜(1LM21H，Lasertec公司制)的表面观察结果算出算术平均表面粗糙度Ra。再者，遵照JISB0601-1944算出算术平均表面粗糙度。加工成凹凸结构的PET膜的上表面的算术平均表面粗糙度Ra为0.18微米。又，表2示出各实施例和各比较例形成的粘着剂层下表面的算术平均表面粗糙度Ra。而且，图5和图6示出实施例1的粘着剂层下表面的激光显微镜表面观察的图像处理图。图5是粘着剂层下表面的背面图，图6是粘着剂层下表面的立体图。(3)初期粘接力对得到的光波导膜的粘着剂层算出使其以压力1千巴(kPa)接触时的粘接力，作为初期粘接力。表2示出其结果。(4)压接后粘接力(90。剥离试验)将得到的光波导膜的粘着剂层以压力400千巴、温度130'C的滚筒粘合于硅组成的光基片。然后，在23t;下放置30分钟后，以50毫米/分的速度往90度方向将光波导膜的一端对光基片剥离，并测量其阻力(90。剥离试验)。90°剥离试验中，光波导膜的一端剥离IO毫米前不测量，超过10毫米后开始测量，并算出最小阻力作为压接后粘接力。表2示出其结果。再者，作为本发明示例实施方式提供了上述说明，但这只不过是示例，并非限定性解释。后文所述权利要求书包含本领域技术人员明白的本发明变换例。表2<table>tableseeoriginaldocumentpage19</column></row><table>权利要求1、一种光波导膜，其特征在于，配备具有包层和被所述包层覆盖的芯层的膜；以及粘着剂层，该粘着剂层形成在所述膜的至少单面，并在表面具有算术平均粗糙度为0.1微米～2.0微米的凹凸结构，而且频率1赫的扭转模式动态粘弹性测量得到的25℃的储存弹性模量为10兆巴～100兆巴。2、如权利要求1中所述的光波导膜，其特征在于，由丙烯类粘着剂组成物，形成所述粘着剂层。3、如权利要求1中所述的光波导膜，其特征在于，所述粘着剂层的厚度大于等于IO微米。4、如权利要求1中所述的光波导膜，其特征在于，所述粘着剂层的初期粘接力小于等于0.5牛顿/厘米。5、一种光波导膜制造方法，其特征在于，具有以下工序准备具有算术平均表面粗糙度为0.1微米2.0微米的凹凸结构的表面的靠模的工序；在所述靠模的表面涂覆粘着剂组成物的工序；使所述粘着剂组成物硬化，并形成频率l赫的扭转模式动态粘弹性测量得到的25'C的储存弹性模量为10兆巴100兆巴的粘着剂层的工序；准备具有包层和被所述包层覆盖的芯层的膜的工序；以及装贴所述包层和与所述靠模接触的所述粘着剂层的表面的相反面的表面的工序。全文摘要光波导膜配备具有包层和被所述包层覆盖的芯层的膜；以及粘着剂层，该粘着剂层形成在所述膜的至少单面，并在表面具有算术平均粗糙度为0.1微米～2.0微米的凹凸结构，而且频率1赫的扭转模式动态粘弹性测量得到的25℃的储存弹性模量为10兆巴～100兆巴。文档编号G02B6/13GK101359069SQ20081014428公开日2009年2月4日申请日期2008年7月30日优先权日2007年7月31日发明者疋田贵巳,程野将行,长崎国夫申请人:日东电工株式会社