双折射薄膜、层压薄膜和图像显示装置的制作方法

专利名称：双折射薄膜、层压薄膜和图像显示装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及作为图像显示装置的结构部件合适的双折射薄 膜、以及具有该双折射薄膜的层压薄膜和图像显示装置。
背景技术：
液晶显示装置是利用液晶分子的电光学特性来显示文字、 图像的图像显示装置之一。然而，液晶显示装置利用具有光学 各向异性的液晶分子，因此即使在某方向上表现出优异的显示 特性，但在其他方向上画面或者黯淡或者不鲜明。因此，液晶 显示装置具备显示规定的相位差的双折射薄膜(也称为相位差 膜、光学补偿层等)。
以往，作为双折射薄膜之一，已知有折射率椭球体满足
nz〉nx〉ny的关系、Nz系数为0.1~0.9的双折射薄膜(专利文献l )。 通常，满足所述折射率关系的双折射薄膜能够通过以下方法制 作在高分子薄膜的两面贴附收缩性薄膜，并在厚度方向上拉
伸该高分子薄膜。
专利文献l:日本国专利申"i青7^开2006國72309号7^才艮

发明内容
然而，由如上所述制作的高分子薄膜形成的双折射薄膜容 易变得过厚。因此，具备该双折射薄膜的液晶显示装置比较厚 且重。因此，不能应对液晶显示装置的薄型轻量化的要求。
另外，在使用满足nx〉nz〉ny的关系的双折射薄膜的光学补 偿中，有时将Nz系数为0.25的双折射薄膜(A)与Nz系数为0.75的 双折射薄膜(B)层压。对例如IPS(In-PlaneSwitching,面内切换)模式的液晶显示装置进行使用该两张双折射薄膜(A)和(B)的光
学补偿。在这种情况下，必须分别制作具有特定的Nz系数的双 折射薄膜(A)和(B)。
然而，难以比较简单地制作较薄的如上所述的具有特定的 Nz系数的双折射薄膜，谋求其改善策略。
本发明的目的在于，提供折射率椭球体满足nx^nz〉ny的关 系、薄且轻量、进而具有期望的Nz系数的双折射薄膜。
另外，本发明的其他目的在于，提供具有上述双折射薄膜 的层压薄膜和图像显示装置。
本发明的双折射薄膜，其特征在于，其含有显示出溶致液 晶性且由下述通式(Xl)表示的第1苊并[1 ，2-b]喹喔啉衍生物和 显示出溶致液晶性且由下述通式(Y1)表示的第2苊并[l,2-b]喹 喔淋衍生物，折射率椭球体满足nx^nz〉ny的关系。
其中，式(X1)和式(Y1)中，A各自独立地表示选自-COOM、-S03M、 -P03M、 -OM、 -1^112和-(:0>^2的取代基(^1为抗衡离子)， a表示A的取代数(l 3的整数)，B各自独立地表示选自卤素原 子、-COOM、 -S03M、 -P03M、 -OM、 -NH2、 -N02、 -CF3、 -CN、 國OCN、 -SCN、 -CONH2、 -OCOCH3、 -NHCOCH3、碳原子数1 4 的烷基和碳原子数1 ~ 4的烷氧基的取代基(M为抗衡离子)，b表 示B的取代数(0 4的整数)。
上述双折射薄膜含有显示出溶致液晶性的第l苊并[l，2-b] 喹鬼啉衍生物和显示出溶致液晶性的第2苊并[1 ，2-b]喹喔啉衍 生物。因此，该双折射薄膜可以通过例如溶液涂布形成。因此， 能够较薄地形成本发明的双折射薄膜。该较薄的双折射薄膜为 轻量。
另外，上述双折射薄膜含有由上述通式(X1)表示的第l危并 [1，2-b]喹喔啉衍生物和由上述通式(Y1)表示的第2苊并[l,2-b] 壹鬼啉衍生物。因此，该双折射薄膜的折射率椭球体满足 nx^nz〉ny的关系。进而，通过改变上述第1荒并[1 ，2-b]喹喔啉 衍生物与第2苊并[1，2-b]喹喔啉衍生物的配合比，可以制作具有 期望的Nz系数的双折射薄膜。因此，根据本发明，可以简单地 制作Nz系数不同的双折射薄膜。
另外，本发明的层压薄膜，其特征在于，上述双折射薄膜 被层压在其他薄膜上。
进而，本发明的图像显示装置，其特征在于，其具备上述 双折射薄膜。
具备本发明的双折射薄膜的图像显示装置，其薄型轻量化 优异、视角特性也优异。
本发明的双折射薄膜的折射率椭球体满足nx^nz〉ny的关 系，因此，适合用作图像显示装置的光学补偿用的光学部件。 进而，能够形成较薄的本发明的双折射薄膜，因此，具备其的图像显示装置在薄型轻量化方面优异。
具体实施例方式
<本发明中的用语的意义>
本发明中，主要用语的意义如下所述。
"双折射薄膜"是指在其面内和/或厚度方向显示出双折射
(折射率的各向异性)的薄膜。"双折射薄膜"包括例如波长590nm 下的面内和/或厚度方向的双折射率为lxlO"以上的薄膜。
"nx"、 "ny"分别是指在双折射薄膜的面内相互垂直的方向 的折射率(其中，nx>ny)、 "nz"是指双折射薄膜的厚度方向的折射率。
"面内的双折射率(Anxy[X])"是指在23。C下、波长X(nm)下的 双折射薄膜的面内的折射率差。Anxy[X]可以通过Anxy[Xpnx-ny求得。
"厚度方向的双折射率(Anxz[ i])"是指在23 。C下、波长X(nm) 下的双折射薄膜的厚度方向的折射率差。Anxz[X]可以通过 Anxz[X]二nx画nz求得。
"面内的相位差值(Re[X])"是指在23。C下、波长X(nm)下的双 折射薄膜的面内的相位差值。Re[X]可以通过将双折射薄膜的厚 度设为d(nm)时的Re[X]=(nx-ny)xd求得。
"厚度方向的相位差值(Rth[X])，，是指在23 °C下、波长X(nm) 下的双折射薄膜的厚度方向的相位差值。Rth[X]可以通过将双 折射薄膜的厚度设为d(nm)时的Rth[X]=(nx-nz) x d求得。
"Nz系数"是指由Rth[X]/Re[X]算出的值。本发明中，Nz系数 为以波长590nm为基准、由Rth[590]/Re[590]算出的值。Rth[590] 和Re[590]如上所述。
另外，这些各值可以通过下述实施例的栏中所述的方法测"溶致液晶性"是指通过使温度、化合物(溶质)的浓度变化 而引起各向同性相-液晶相的相变的性质。液晶相可以通过由偏 光显微镜观察到的液晶相的光学图案进行确认、识另'J 。
<本发明的双折射薄膜〉
本发明的双折射薄膜含有显示出溶致液晶性且由通式(X1) 表示的第l苊并[1 ，2-b]喹喔啉衍生物、显示出溶致液晶性且由通
式(Yl)表示的第2苊并[1 ，2-b]喹喔啉衍生物，折射率椭球体满足 nx ^ nz〉ny的关系。
以下，本说明书中，也将"第l苊并[l，2-b]喹喔啉衍生物" 记为"第l衍生物，，、将"第2苊并[1 ，2-b]喹喔啉衍生物"记为"第2 衍生物"。另外，也将"第l衍生物和第2衍生物"记为"第l和第2 衍生物"。
第l衍生物和第2衍生物在溶液状态下均显示出溶致液晶 性。这些液晶相没特别限定，可列举出向列型液晶相、近晶型 液晶相、胆甾醇型液晶相等。优选液晶相为向列型液晶相。
第l衍生物由下述通式(X1)表示，第2衍生物由下述通式 (Yl)表示。
<formula>formula see original document page 10</formula>…(Y1)
其中，式(X1)和式(Y1)中，A各自独立地表示选自-COOM、 -S03M、 -P03M、 -OM、 -NH2和-CONH2的取代基(M为抗衡离子)， a表示A的取代数(l 3的整数)，B各自独立地表示选自囟素原 子、-COOM、 -S03M、 -P03M、 -OM、 -NH2、 -N02、 -CF3、 -CN、 -OCN、 -SCN、 -CONH2、 -OCOCH3、 -NHCOCH3、碳原子数卜4 的烷基和碳原子数1 4的烷氧基的取代基(M为抗衡离子)，b表 示B的取代数(0 4的整数)。
上述M优选为氬离子、碱金属离子、碱土金属离子、其他 金属离子、或者取代或无取代的铵离子。作为该金属离子，可 列举出例如，Ni2+、 Fe3+、 Cu2+、 Ag+、 Zn2+、 Al3 + 、 Pd2+、 Cd2+、 Sn2+、 Co2+、 Mn2+、 Ce"等。例如，在双折射薄膜由包含上述第 l和第2衍生物的溶液形成的情况下，该第l和第2衍生物的取代 基的M优选为提高对水的溶解性的离子。该第l和第2衍生物易 溶解于水中，因而能够调制良好的水溶液。而且，使用该溶液 形成双折射薄膜后，为了提高该双折射薄膜的耐水性，可以将 上述提高对水的溶解性的离子置换为对水不溶或难溶性的离 子。
_作为第l衍生物，优选使用由下述通式(X2)或通式(X3)表示 的化合物。(X2)
其中，式(X2)中，A与式(X1)的取代基相同，B和b与式(Xl) 相同。
其中，式(X3)中，A和a与式(Xl)相同。
式(X2)中，B优选为选自國COOM、 -S03M、 -P03M、國OM、 -NH2、 -N02、 -CONH2、 -OCOCH3和-NHCOCH3的取代基、或无 取代，更优选为选自画COOM、 -S03M、 -P03M、 -OM、 -NH2、 ->^02和-(:€^112的取代基、或无取代，特别优选-COOM或 -S03M、或无取代。具有该取代基B的第l衍生物或无取代的第1 衍生物对水系溶剂的溶解性优异。
另外，式(X2)和式(X3)中，A优选为选自-COOM、 -S03M 和-NH2的取代基，更优选为-COOM或-S03M,特别优选为 -S O 3 M 。具有该取代基A的第1衍生物对水系溶剂的溶解性优异， 制膜后，能够形成折射率椭球体满足nx ^ nz>ny的关系的薄膜。
进而，式(X3)中，A的取代数a优选为l,其取代位置优选 为2位和5位。接着，作为第2衍生物，优选使用由下述通式(y2)或通式(y3) 表示的化合物。<formula>formula see original document page 13</formula>其中，式(y2)中，A与式(y1)的取代基相同，b和b与式(Yl) 相同。
<formula>formula see original document page 13</formula>
其中，式(y3)中，A和a与式(Yl)相同。
式(y2)中，b优选为选自-coom、 -s03m、 -p03m、國om、
-nh2、 -no2、 -conh2、 -0(:0(:113和-^[11(:0(:113的取代基、或无
取代，更优选为选自-coom、 -s03m、 -p03m、 -om、 -nh2、 -N02和-CONH2的取代基、或无取代，特别优选为-coom或 -s03m、或无取代。具有该取代基b的第2衍生物或无取代的第2 衍生物对水系溶剂的溶解性优异。
另夕卜，式(y2)和式(y3)中，a优选为选自-coom、 -s03m 和-NH2的取代基，更优选为-coom或-S03M,特别优选为-S O 3 M 。具有该取代基A的第2衍生物对水系溶剂的溶解性优异。 进而，通过将包含该第2衍生物和上述第l衍生物的溶液制膜， 能够形成折射率椭球体满足nx^ nz>ny的关系的薄膜。
进而，式(Y3)中，A的取代数a优选为l,其取代位置优选 为2位。
上述由式(X1)表示的第l衍生物和由式(Y1)表示的第2衍生 物在溶液中容易形成締合体，认为由于形成了该締合体的状态 的秩序性高，由该溶液形成的薄膜也显示出高的取向性。特别 是，具有-SOsM基和/或-COOM基的第1衍生物和第2衍生物由于 充分发挥上述效果，故优选。
上述双折射薄膜中，除了第l衍生物和第2书f生物以外，还 可以包含4壬意的添加剂。作为该添加剂，可列举出例如，增塑 剂、热稳定剂、光稳定剂、润滑剂、抗氧化剂、紫外线吸收剂、 阻燃剂、着色剂、抗静电剂、相容剂、交联剂、增稠剂等。该 添加剂的配合比例相对于第1衍生物与第2衍生物的总计100质 量份为超过0且在10质量份以下。
在上述由通式(X1)和式(Y1)表示的第l和第2衍生物中，A 为磺酸的衍生物可以通过例如(a)喹喔啉衍生物的磺化处理、(b) 芳香族二胺化合物与苊醌衍生物的脱水缩合等来获得。
例如，如反应式(a)所示，第l和第24汙生物可以通过对苊并 [1，2-b]喹喔啉(或具有羧酸等的取代基B的苊并[l，2-b]喹喔啉) 进行磺化处理来获得。磺化处理可以使用硫酸、发烟碌u酸或氯 代磺酸等。另外，通过调节该磺化处理的磺化反应温度、反应 时间等，能够从同 一 初始原料分别获得由通式(Xl)表示的第1 衍生物和由通式(Y1)表示的第2书f生物。另夕卜，第l书f生物可以通过例如反应式(b)所示，爿使邻苯二
胺(或具有取代基B的邻苯二胺)与苊醌-2，5-二磺酸等苊醌二磺 化物进行缩合反应来获得。第2衍生物可以通过例如反应式(b) 所示，使邻苯二胺(或具有取代基B的邻苯二胺)与苊醌-2-磺酸 等苊醌磺化物进行缩合反应来获得。
本发明的双折射薄膜可以如下制作例如以规定的比率配 合上述第l衍生物和第2衍生物，使其溶解于适当的溶剂中成为液晶相的状态，将该溶液涂布到基材上并干燥。将前述溶液涂 布到基材上并使其干燥而制膜的涂布膜为本发明的双折射薄 膜。上述第l衍生物和第2衍生物在溶液中形成稳定的液晶相。 因此，通过利用包含第l衍生物和第2衍生物的溶液的溶液浇铸 法，能够得到具有高的面内双折射率、可见光的区域无吸收或 吸收少的透明的双折射薄膜。
本发明的双折射薄膜可以通过溶液涂布进行制膜。因此， 根据本发明，能够提供比较薄的双折射薄膜。
该双折射薄膜的厚度优选为0.05jam以上、更优选为0.1 fim 以上。双折射薄膜的厚度的上限没有特别限定，可以考虑面内 和/或厚度方向的相位差值进行适当设计。双折射薄膜优选薄， 因而其厚度为lOinm以下，优选为8pm以下，更优选为6nm以下。
进而，上述双折射薄膜，其折射率椭球体满足 nx ^ nz>ny(nx>nz>ny或nx=nz〉ny)的关系且具有比净交高的面内 的双折射率。因此，上述双折射薄膜即使比现有的双折射薄膜 格外薄，也具有比较大的相位差值。
另外，上述"nx-nz"不仅是指nx与nz完全相同的情况，还包 括基本相同的情况。nx与nz基本相同的情况是指例如Rth[590] 为-10nm 10nm, 优选为-5nm~5nm。
另外，根据本发明，通过改变第1衍生物与第2衍生物的配 合比，能够获得具有期望的Nz系数的双折射薄膜。具体来说， 通过后述的实施例可知，例如，在提高第l书于生物的配合比时， 能够获得Nz系数低的双折射薄膜，另一方面，在提高第2衍生 物的配合比时，能够获得Nz系数高的双折射薄膜。只要这样改 变配合比，就能简单地获得具有期望的Nz系数的双折射薄膜。 这是本发明人等首次发现的事实。本发明人等推定为如下理由。 即，第l衍生物在萘环的两个苯环上分别具有取代基A。第2衍生物在萘环的一个苯环上具有取代基A。由该第l衍生物形成的
薄膜，Nz系数变低。另一方面，由第2衍生物形成的薄膜，Nz 系数变高。本发明的双折射薄膜中，在能够形成Nz系数低的薄 膜的第1衍生物与能够形成N z系数高的薄膜的第2衍生物相溶 的状态下混合存在第l和第2衍生物。因此，通过改变这些的配 合比，能够获得具有期望的Nz系数的双折射薄膜。
由于能够如上述那样地对第1衍生物与第2衍生物的配合比 进行各种设定，因此，本发明的双折射薄膜所含的第l衍生物与 第2衍生物的量没有特别限定。例如，本发明的双折射薄膜相对 于其100质量份总固体成分，包含1质量份 99质量份前述第l衍 生物，包含1质量份 99质量份前述第2衍生物。
另外，在使用仅包含(不含第1衍生物)第2衍生物的溶液的 情况下，由于制膜时引起第2衍生物的结晶化，因而难以得到透 射率高的双折射薄膜。推定这是由于第2衍生物的显示溶致液晶
相的浓度范围较小。
在这样单独使用第2衍生物时，能够获得透射率低的薄膜。 然而，如上述那样，通过配合第1衍生物与第2衍生物，能够获 得N z系数随配合比而不同且透射率高的双折射薄膜。
本发明的双折射薄膜的N z系数能够调节为0以上且不足1 ， 优选为0 0.9，更优选为0 0.5,进一步优选为0.05 0.45,特别 优选为0.1~0.4,最优选为0.11 0.35。 Nz系数在上述范围的双折 射薄膜能够用于各种驱动模式的液晶单元的光学补偿。
上述双折射薄膜在波长590nm下的单片透射率优选为85% 以上，进一步优选为90%以上。上述双折射薄膜的雾度值优选 为5%以下，更优选为4%以下，特别优选为3%以下。具备该雾 度值的双折射薄膜的图像显示装置的显示特性优异。其中，该 雾度值是基于JIS-K7105测定的值。内的双折射率 (Anxy[590])优选为0.05 0.5 ， 更优选为0.1 0.5 ， 特别优选为 0.15 0.4。另夕卜，上述双折射薄膜在波长590nm下的厚度方向的 双折射率(Anxz[590])优选为0 0.5,更优选为0.001 0.3 ，特别优 选为0.001 0.2。具有该面内和/或厚度方向的双4斤射率的乂又折射 薄膜满足例如对液晶显示装置的显示特性的改善有用的 nx^nz〉ny, 进而，具有比專交大的相位差 <直。
上述双折射薄膜在波长590nm下的面内的相位差值 (Re[590])可以根据目的设定为适当的值。上述Re[590]为10nm 以上，^尤选为20nm 1000nm,更伊乙选为50nm 500nm ，净争另'H尤 选为100nm 400nm。另夕卜，上述双折射薄膜在波长590nm下的 Rth[590]可以在折射率椭球体满足nx^nz〉ny的关系的范围内 设定为适当的值。双折射薄膜的Rth[590]优选为Onm 1 OOOnm, 更优选为Onm 500證，特另'j优选为10證 200證。
上述双折射薄膜的Re[590]与Rth[590]之差优选超过0nm且 在500nm以下，更优选超过Onm且在200nm以下，特别优选超过 0画且在150nm以下。
<本发明的双折射薄膜的制造方法>
在1个实施方式中，本发明的双折射薄膜可以按照具有以下 各工序的制造方法获得。
工序(l):调制至少含有上述第l衍生物、第2衍生物和溶剂并 显示液晶相的;容液的工序。
工序(2):准至少 一 面经亲水处理的基材的工序。
工序(3):将上述工序(1)的溶液涂布到工序(2)的基材的亲水 处理面并使其千燥的工序。
另外，上述工序(1)和工序(2)可以先进行任一个，或者，可 以同时进行，其实施顺序没有限制。[工序("]
工序(l)是调制至少包含第l衍生物和第2衍生物的溶液的工序。
第l书f生物和第2衍生物可以从上述例示的化合物中适当选 择。第l衍生物可以使用选自式(X1)所含的化合物中的单独1种、 或2种以上。第2书f生物可以使用选自式(Y1)所含的化合物中的 单独1种、或2种以上。
溶剂可以选择使第l衍生物和第2衍生物溶解而能够体现液 晶相(优选向列型液晶相)的任意溶剂。
上述溶剂可以为例如水等无机溶剂，醇类、酮类、醚类、 酯类、酰胺类、溶纤剂类等有机溶剂。作为该有机溶剂，可列 举出例如，正丁醇、2-丁醇、环己醇、异丙醇、诛又丁醇、甘油、 乙二醇、丙酮、曱乙酮、甲基异丁基酮、环己酮、环戊酮、2-戊酮、2-己酮、四氢呋喃、二噁烷、醋酸乙酯、醋酸丁酯、乳 酸曱酯、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、N-甲基吡咯烷酮、甲 基溶纤剂、乙基溶纤剂等。这些溶剂可以单独使用l种或使用2 种以上。
上述溶剂优选使用水系溶剂，特别优选使用水。该水的电 导率优选为20^S/cm以下，进一步优选为0.001(iS/cm 10jiS/cm, 特别优选为0.001 nS/cm 5(iS/cm 。上述水的电导率的下限值为 OjiS/cm。通过使用具有前述范围的电导率的水，能够获得具有 高的面内和/或厚度方向的双折射率的双折射薄膜。
上述溶液中的第l和第2衍生物的浓度可以在显示出溶致液 晶相的范围内适当调节。上述溶液中的第l和第2衍生物的总浓 度优选为3质量％~40质量％,更优选为3质量％ 30质量％,特别 优选为5质量％~30质量％,最优选为10质量％ 30质量％。前述 浓度范围的溶液能够显示出稳定的液晶相状态。上述溶液中还可以添加任意适当的添加剂。作为前述添加 剂，可列举出例如，表面活性剂、增塑剂、热稳定剂、光稳定 剂、润滑剂、抗氧化剂、紫外线吸收剂、阻燃剂、着色剂、抗 静电剂、相容剂、交联剂、增稠剂等。添加剂的添加量优选相
对于溶液100质量份为超过0且在10质量〗分以下。
上述溶液中可以添加表面活性剂。表面活性剂是为了提高
包含第l和第2彩f生物的溶液对基材表面的湿润性、涂布性而添 加的。前述表面活性剂优选为非离子表面活性剂。前述表面活 性剂的添加量优选相对于溶液100质量份为超过0且在5质量份 以下。
工序(2)是准备至少一个表面经亲水处理的基材的工序。本 说明书中，"亲水处理，，是指使基材的水的接触角降低的处理。 上述亲水处理是为了提高包含第l和第2衍生物的溶液对基材表 面的湿润性、涂布性而实施的。
上述亲水处理包括将基材在23 。C下的水的接触角比处理前 优选降低10%以上的处理、进一 步优选降低15%~80%的处理、 特别优选降低20% 70%的处理。另外，该降低的比例(％)通过 式{(处理前的接触角-处理后的4妄触角)/处理前的4^触角}xlOO 求得。
进而，上述亲水处理包括将基材在23。C下的水的接触角比 处理前优选降低5 。以上的处理、进 一 步优选降低10 。 6 5 。的处 理、特别优选降^氐20。 60。的处理。
进而，上述亲水处理包括将基材在23。C下的水的接触角优 选处理成5° 60°、进一步优选处理成5。 50。、特别优选处理成 5。 45°。通过使用水的接触角在前述范围的基材，可以获得具 有高的面内的双折射率、且厚度不均小的双折射薄膜。上述亲水处理可以采用任意适当的方法。上述亲水处理可 以是例如干式处理、也可以是湿式处理。作为干式处理，可列 举出例如，电晕处理、等离子体处理、辉光放电处理等的放电
处理；火炎处理；臭氧处理；UV臭氧处理、紫外线处理和电子 射线处理等电离活性线处理等。作为湿式处理，可列举出例如 使用水、丙酮等溶剂的超声波处理、石威性处理、锚涂处理等。 这些处理可以以l种单独进行、也可以组合2种以上进行。
上述亲水处理优选为电晕处理、等离子体处理、碱性处理、 或锚涂处理。通过使用施加了该亲水处理的基材，可以获得具 有高的取向性、且厚度不均小的双折射薄膜。上述亲水处理的 条件(例如处理时间、强度等)可以进行适当调节，以使基材的 水的接触角在上述范围。
作为上述电晕处理的代表，是使基材在电晕放电内通过， 对基材表面进行改性的处理。前述电暈放电如下产生通过对 接地的介质辊(dielectric roll)与绝*彖的电才及之间施加高频率、 高电压，电极间的空气的绝缘被破坏、离子化，产生所述电晕 放电。作为上述等离子体处理的代表，是使基材在低温等离子 体内通过，对基材表面进行改性的处理。前述低温等离子体如 下产生的在低压的惰性气体或氧气、卣素气体等无机气体中 引起辉光放电时， 一部分气体分子离子化，从而产生所述低温 等离子体。作为上述超声波洗涤处理的代表，是通过将基材浸 渍在水、有机溶剂中，对其施加超声波，从而除去基材表面的 污染物、改善基材的湿润性的处理。作为上述碱性处理的代表， 是将基材浸渍在使碱性物质溶解于水或有机溶剂中而成的碱性 处理液中，从而对基材表面进行改性的处理。作为上述锚涂处 理的代表，是将锚涂剂涂布到基材表面的处理。
上述基材是用于将含有上述第l和第2衍生物与溶剂的溶液均匀流延的部件。基材可以选择任意的适当的基材。作为基材， 可列举出例如，玻璃基板、石英基板、高分子薄膜、塑料基板、 铝或铁等金属板、陶瓷基板、硅晶圆等。基材优选使用玻璃基 板或高分子薄膜。
上述玻璃基板没有特别限定，可以选择适当的基板。作为 上述玻璃基板，优选可列举出通常用于液晶单元的玻璃基板。 这样的玻璃基板为例如包含碱性成分的钠石灰(青板)玻璃、或 低碱性硼砂酸玻璃。上述玻璃基板可以直接使用市售品。作为 市售的玻璃基板，可列举出例如- 一 - >夕'公司制玻璃型
号1737、旭硝子(才朱)制的玻璃型号AN635、 NH亍夕乂夕"，X (林)制的玻璃型号NA-35等。
形成上述高分子薄膜的树脂没有特别限定。作为上述高分 子薄膜，优选可列举出含有热塑性树脂的薄膜。作为前述热塑 性树脂，可列举出聚烯烃树脂、环烯烃系树脂、聚氯乙烯基系 树脂、纤维素系树脂、苯乙烯系树脂、聚甲基丙烯酸甲酯、聚 醋酸乙烯酯、聚偏二氯乙烯系树脂、聚酰胺系树脂、聚缩醛系 树脂、聚碳酸酯系树脂、聚对苯二甲酸丁二酯系树脂、聚对苯 二曱酸乙二酯系树脂、聚砜系树脂、聚醚砜系树脂、聚醚醚酮 系树脂、聚芳酯系树脂、聚酰胺酰亚胺系树脂、聚酰亚胺系树 脂等。这些热塑性树脂可以使用单独l种、或者也可以使用2种 以上。另外，热塑性树脂可以由任意适当的聚合物改性而形成。 作为聚合物改性，可列举出例如，共聚、交联、分子末端、立 体规整性等改性。
上述高分子薄膜优选可见光的光线透射率优异、透明性优 异的薄膜。该高分子薄膜的可见光的光线透射率优选为8 0 %以 上、更优选为90%以上。其中，光线透射率是指将以膜厚10(Vm、 用分光光度计(日立制作所制、产品名U-4100型)测定的谱图数，高分子薄膜的雾度值 优选为3%以下，更优选为1%以下。其中，雾度值是指基于
JIS-K7105测定的值。
上述基材为高分子薄膜的情况下，在该基材上形成双折射 薄膜后，可以还将前述基材用作保护膜。
另外，作为上述基材，优选使用含有纤维素系树脂的高分 子薄膜。包含第1和第2衍生物的溶液对该纤维素系树脂的基材 的湿润性优异。因此，若使用该基材，则可以获得厚度不均小 的双折射薄膜。
上述纤维素系树脂没有特别限定，可以选择适当的树脂。
纤维素系树脂优选纤维素的羟基的 一 部分或全部被乙酰基、丙 酰基和/或丁基取代的、纤维素有机酸酯或纤维素混合有机酸 酯。作为上述纤维素有机酸酯，可列举出例如，纤维素乙酸酯、 纤维素丙酸酯、纤维素丁酸酯等。作为上述纤维素混合有机酸 酯，可列举出例如，纤维素乙酸酯丙酸酯、纤维素丙酸酯丁酸 酯等。上述纤维素系树脂可以通过例如，日本国专利申请公开 平2001-188128号公报

记载的方法获得。
上述基材可以直接使用市售的高分子薄膜。或者，可以使 用对市售的高分子薄膜实施2次加工而成的薄膜。作为该2次加 工，可列举出拉伸处理和/或收缩处理等。作为含有纤维素系树 脂的市售的高分子薄膜，可列举出例如，富士写真7 4 ^厶(抹) 制的7 >夕、7夕系列(商品名ZRF80S,TD80UF,TDY-80UL)、 - -力；乂 A夕才7°卜(林)制的商品名"KC8UX2M"等。
上述基材的厚度优选为20(im 100jim。前述厚度的基材的 操作性优异，另外，也可以良好地涂布溶液。
工序(3)为如下所述的工序对在上述工序(2)中准备的基材的施加了亲水处理的表面，涂布上述工序(l)中调制的溶液，并 使其干燥。
上述溶液的涂布速度没有特别限定，优选涂布速度为
10mm/秒以上，更优选为50mm/秒以上，特别优选为100mm/秒 以上。涂布速度的上限优选为8000mm/秒，更优选为6000mm/ 秒，特别优选为4000mm/秒。通过将涂布速度设定在上述范围， 从而在上述溶液中施加适于第和第2书f生物取向的剪切力。因 此，可以得到具有高的面内的双折射率、且厚度不均小的双折 射薄膜。
作为将上述溶液涂布到基材表面的方法，能够酌情采用使 用、适当的涂布才几的涂布方法。作为涂布才几，可列举出例如， 逆辊涂布机、正旋转辊涂机、凹版涂布才几、刮刀涂布机、棒式 涂布机(rod coater )、缝口模头涂布机、槽孔(slot orifice)涂布 机、帘涂器、喷涂器、气刮刀涂布机、辊舔涂布机、浸涂机、 珠涂布机、刮板涂布机、流延涂布机、喷涂机、旋转涂布机、 挤出涂布机、热熔型涂布机等。优选的涂布机是逆辊涂布机、 正旋转辊涂机、凹版涂布一几、棒式涂布一几、缝口一莫头涂布机、 槽孔涂布机、帘涂器、喷涂器。若使用该涂布机涂布溶液，则 可以获得厚度不均小的双折射薄膜。
使上述溶液干燥的装置可以酌情采用、适当的装置。作为 干燥装置，可列举出例如，热风或冷风循环的空气循环式恒温 炉；利用微波或远红外线等的加热器；被加热为温度调节用的 辊、热管辊或金属带等。
使上述溶液干燥的温度优选上述溶液的各向同性相变温度 以下，从低温慢慢升到高温进行干燥。上述干燥温度优选为 10。C 80。C,进一步优选为20。C 60。C。若为上述温度范围，则 可以获得厚度不均小的双折射薄膜。使上述溶液干燥的时间可以根据干燥温度、溶剂的种类适 当设定。为了获得厚度不均小的双折射薄膜，干燥时间为例如l
分钟 30分钟，优选为1分钟 10分钟。 [其他工序]
本发明的双折射薄膜的制造方法优选在上述工序(1) (3)后 还包括下述工序(4)。
工序(4)为如下所述的工序使上述工序(3)中得到的薄膜与 包含选自铝盐、钡盐、铅盐、铬盐、锶盐和分子内具有2个以上 氨基的化合物盐所组成的组中的至少l种化合物盐的溶液接触。
本发明中，上述工序(4)是为了使所得到的双折射薄膜对水 不溶化或难溶化而实施的。作为上述化合物盐，可列举出例如， 氯化铝、氯化钡、氯化铅、氯化铬、氯化锶、4,4，-四甲基二氨 基二苯基甲烷盐酸盐、2,2，-联吡啶盐酸盐、4,4，-联吡啶盐酸盐、 三聚氰胺盐酸盐、四氨基嘧啶盐酸盐等。若使用这样的化合物 盐，则可以获得耐水性优异的双折射薄膜。
包含上述化合物盐的溶液的化合物盐浓度优选为3质量 % 40质量％,特别优选为5质量％ 30质量％。通过使双折射薄 膜与包含前述浓度范围的化合物盐的溶液接触，可以获得耐水 性优异的双折射薄膜。
作为使上述工序(3)中得到的双折射薄膜与包含上述化合 物盐的溶液接触的方法，可釆用任意方法。作为该方法，可列 举出例如，将包含上述化合物盐的溶液涂布到双折射薄膜的表 面的方法、将双折射薄膜浸渍在包含上述化合物盐的溶液的方 法等。进行前述方法后的双折射薄膜优选使用水或任意的溶剂 进行洗涤。进而，通过洗涤后干燥，从而可以获得基材与双折 射薄膜的界面的密合性优异的层压薄膜。
<本发明的双折射薄膜的用途>本发明的双折射薄膜的用途没有特别限定，作为代表，可
列举出液晶显示装置的光学部件。该光学部件包括X/4板、人/2 板、视角扩大膜、平板显示器用防反射膜等。
本发明的l个实施方式中，通过对本发明的双折射薄膜层压 偏振片，能够提供偏光板。
上述偏光板为至少具备本发明的双折射薄膜和偏振片的层 压薄膜。该偏光板可以层压有上述基材、或者可以层压有其他 光学薄膜。作为前述其他光学薄膜，可列举出例如，与本发明 不同的其他双折射薄膜、任意的保护膜等。实用上，在构成上 述偏光板的各层之间设有适当的粘接层，各层被粘合。
上述偏光板的偏振片与双折射薄膜的粘合角度可以根据目 的适当设定。上述偏光板在用作例如防反射膜的情况下，偏振 片与双折射薄膜被贴合成上述偏振片的吸收轴方向与双折射薄 膜的慢轴方向所成角度优选为25。 65。、更优选为35。 55。。另 外，上述偏光板用作例如视角扩大膜的情况下，偏振片与双折 射薄膜被贴合成上述偏振片的吸收轴方向与双折射薄膜的慢轴 方向所成角度为基本上平行或基本上垂直。另外，"基本上平 行"是指偏振片的吸收轴方向与双折射薄膜的慢轴方向所成角 度包括0。士10。的范围、优选0。±5°。"基本上垂直"是指偏振片 的吸收轴方向与双折射薄膜的慢轴方向所成角度包括90。±10° 的范围、优选90°±5°。
上述偏振片为具有使自然光或偏振光转换为直线偏振光的 光学特性的光学薄膜。作为偏振片，优选使用以含有碘或二色 性染料的聚乙烯基醇系树脂为主成分的拉伸膜。偏振片的厚度 通常为5(im 50(xm。
若实用上能以充分的粘接力和粘接时间，使相邻的部件的 面与面接合，以使其一体化的话，上述粘接层可以选择任意适当的粘接层。作为形成粘接层的材料，可列举出例如，粘接剂、 粘结剂、锚涂剂。粘接层可以是在例如被粘体的表面形成锚涂 剂层、在其上形成有粘接剂层或粘结剂层的多层结构，或者，
可以是以肉眼不能识别的薄层(也指细线，hairline)。配置在偏 振片 一侧的粘接层与配置在另 一侧的粘接层可以分别相同，也 可以不同。
另外，本发明的双折射薄膜和包括该双折射薄膜的层压薄 膜能够安装于各种图像显示装置而使用。
本发明的图像显示装置除了液晶显示装置以外，还包括有 机EL显示器和等离子体显示器等。图像显示装置优选的用途为 电视，特别优选为画面尺寸40英寸以上的大型电视。在图像显 示装置为液晶显示装置的情况下，其优选的用途为电视、个人 电脑显示器、笔记本个人电脑、复印机等办公自动化机器；便 携电话、钟表、数字照相机、便携信息末端(PDA)、便携游戏 机等便携机器；摄像机、微波炉等家庭用电机器；后方监视器、 汽车导航系统用监视器、汽车声频装置等车载用机器；商业店 铺用资讯用监视器等展示机器；监视用监视器等警备机器；护 理用监视器、医疗用监视器等护理和医疗机器等。
实施例
以下，示出实施例，进一步说明本发明。但本发明并不仅 限于下述实施例。另夕卜，在实施例中^f吏用的各测定方法如下所述。
(1) 厚度的测定方法
厚度是将形成在基材的表面的双折射薄膜的一部分剥离， 使用三维非接触表面形状计测系统((林)菱化、> X亍厶制、产品
名"Micromap MM5200")测定该基材与双折射薄膜的高度差。
(2) 透射率(T[590])的测定方法T[590]使用日立制作所制的商品名"U-4100"在23。C下测 定而得。观'J定波长为380nm 780nm、以590認为代表值。
(3) Anxy[590]、 Anxz[590]、 nx、 ny、 nz、 Re[590]、 Rth[590] 和Nz系lt的测定方法
Re[590]等使用王子计测机器(抹)制的商品名 "K0BRA21-ADH，，在23。C下测定而得。另夕卜，平均折射率使 用阿贝折射率计(7夕3'(抹)制、产品名"DR-M4")测定而得。
(4) 电导率的测定方法
电导率是如下测得的测定值使用将浓度调节到0.05质量 %的水溶液，将溶液电导率计(京都电子工业(林)制、产品名 "CM-117")的电极洗涤后，将测定试样装满连接到电极的lcm3 的容器中，所示的电导率显示一定的值时，将该值作为测定值。
(5) 水的接触角的测定方法
水的接触角按如下测得使用固液界面解析装置(协和界面 科学(抹)制、产品名"Drop Master300"),将水滴加到薄膜上 后，测定经过5秒钟后的接触角。测定条件为静态接触角测定。 水使用超纯水，水的滴加为0.5ji1。以10次的平均值为测定值。
(6) 液晶相的确i^方法
用2张载玻片夹入溶液，将其设置在热台(乂卜， 一 卜k卜、、 (抹)制、产品名"FP28HT，，)后，使用偏光显微镜(才'J》川X(林) 制、产品名"BX50")边改变温度边进行观察，确认液晶相。
<苊并[1,2-1 ]喹喔啉的合成>
向具备搅拌机的反应容器中添加5升的冰醋酸与纯化后的 490g的苊醌，在氮气鼓泡下搅拌15分钟，得到苊醌溶液。同样 地，向具备搅拌机的其他反应容器中添加7.5升的冰醋酸和275g 的邻苯二胺，在氮气鼓泡下搅拌15分钟，得到邻苯二胺溶液。然后，在氮气氛围下搅拌的同时，用l小时将邻苯二胺溶液緩慢添加到苊醌溶液中，然后，继续搅拌3小时，使其反应。将离子交换水添加到所得到的反应液后，过滤沉淀物，得到包含苊并[1,2 - b ]喹喔啉的粗产物。该粗产物由热冰醋酸进行重结晶并纯化。
<苊并[1,2-13]喹喔啉-2,5-二磺酸的合成>
如下述反应路径所示，将上述合成例1中得到的300g的苊并[1,2-b]喹喔啉加入到30。/。发烟硫酸(2.1升)中，在室温下搅拌24小时后，加热到125。C,搅拌32小时使其反应。将所得到的溶液保持在40。C 50。C的同时，加入4.5升的离子交换水稀释，进一步搅拌3小时。通过过滤沉淀物，用硫酸进行重结晶，从而得到第1衍生物即苊并[1,2 - b ]喹喔啉-2,5 - 二磺酸。
将该反应物溶解在30升的离子交换水(电导率0.1nS/cm)中，向该水溶液加入氬氧化钠水溶液，中和前述水溶液。将所得到的水溶液加入供给罐，使用具备日东电工(林)制的反渗透膜过滤器(商品名"NTR-7430过滤器元件")的高压RO元件试验装置，加入反渗透水的同时进行循环过滤，以使液量保持一定。通过该循环过滤，除去残留硫酸，直至废液的电导率为13勿S/cm。[合成例3]
<苊并[1，2-1 ]喹喔啉-2-磺酸的合成>
下述反应路径所示，将上述合成例l中得到的300g的苊并[1，2-b]喹喔啉加入到30。/。发烟硫酸(2.1升)中，在室温下搅拌48小时，使其反应。将所得到的溶液保持在40。C 50。C的同时，加入4.5升的离子交换水进行稀释，再搅拌3小时。通过过滤沉淀物，得到第2衍生物即苊并[1 ，2-b]喹喔啉-2-磺酸。
将该反应物溶解在30升的离子交换水(电导率0.1(iS/cm)中，向该水溶液加入氬氧化钠水溶液，中和前述水溶液。将所
得到的水溶液加入供给罐，使用具备日东电工(抹)制的反渗透膜过滤器(商品名"NTR-7430过滤器元件")的高压RO元件试验装置，加入反渗透水的同时进行循环过滤，以使液量保持一定。通过该循环过滤，除去残留硫酸，直至废液的电导率为8.1pS/cm。
混合上述合成例2和合成例3中得到的水溶液，以使上述合成例2中合成的荒并[l,2-b]喹喔啉-2,5-二磺酸与上述合成例3中合成的苊并[1,2-b]喹喔啉-2-磺酸的固体成分质量配合比为80:20。接着，使用旋转蒸发器，调制该混合水溶液，以使水溶液中的喹喔啉衍生物的浓度(苊并[1,2-b]喹喔啉-2，5-二磺酸与
苊并[1 ，2-b]p奎喔啉-2-磺酸的总浓度)为25质量％。通过偏光显微镜观察调制后的水溶液，结果在23。C下显示向列型液晶相。
接着，通过将厚度80pm的、以三乙酰基纤维素为主成分的高分子薄膜(富士写真7 4/k厶(抹)制、商品名"ZRF80S，，)浸渍于溶解有氢氧化钠的水溶液中，从而对该膜表面进行碱性处理(也称为皂化处理)。该高分子薄膜在23。C下的水的接触角，在碱性处理前为64.6。，在处理后为26.5。。接着，使用棒涂机(BUSCHMAN公司制、商品名"mayer rot HS1.5"),将上述调制的水溶液涂布到上述高分子薄膜的经过碱性处理的表面(湿厚度2.5jim)。涂布后，在23 °C的恒温室内对涂膜表面吹风的同时使其干燥。这样，在高分子薄膜(基材)的表面制作出双折射薄膜A。该双折射薄膜A满足nx〉nz〉ny的关系。
实施例1的双折射薄膜A的特性示于表1 。
实施例1实施例2实施例3实施例4参考例1参考例2
第1衍生物第2衍生物80:2065:3550:5020:80100:00:100
Nz系数0. 150. 250. 310, 430. 07
厚度(jUm)0. 60, 70. 60. 40. 7—
Anxy[590〗0. 300. 300. 250. 160. 30—
厶nxz[590]0. 050. 070. 080. 070. 02
T[590] (%)9090909090——■
Re[590](nm)19521014163221—
Rth[590] (nm)3248452614—
混合上述合成例2和合成例3中得到的水溶液，以使上述合成例2中合成的苊并[l，2-b]喹喔啉-2，5-二磺酸与上述合成例3中合成的苊并[l，2-b]喹喔啉-2-磺酸的固体成分质量配合比为65:35。接着，使用旋转蒸发器调制该混合水溶液，以使水溶液中的喹喔啉衍生物的浓度为25质量％。通过偏光显微镜观察调制后的水溶液，结果在23。C下显示向列型液晶相。
通过与实施例1同样地将上述调制的水溶液涂布到高分子薄膜并干燥，从而在高分子薄膜(基材)的表面制作出双折射薄膜B。该双折射薄膜B满足nx〉nz〉ny的关系。
实施例2的双折射薄膜B的特性示于表1 。
混合上述合成例2和合成例3中得到的水溶液，以使上述合成例2中合成的苊并[l，2-b]喹喔啉-2，5-二磺酸与上述合成例3中合 成的苊并[1 ，2-b]会喔啉-2 J黄酸的固体成分质量配合比为50:50。接着，使用旋转蒸发器调制该混合水溶液，以使水溶液中的会喔啉衍生物的浓度为22质量％。通过偏光显微镜观察调制后的水溶液，结果在23 °C下显示向列型液晶相。
通过与实施例1同样地将上述调制的水溶液涂布于高分子薄膜并干燥，从而在高分子薄膜(基材)的表面制作出双折射薄膜C。该双折射薄膜C满足nx〉nz〉ny的关系。
实施例3的双折射薄膜C的特性示于表1 。
混合上述合成例2和合成例3中得到的水溶液，以使上述合成例2中合成的苊并[1 ，2-b]喹喔啉-2，5-二磺酸与上述合成例3中合成的苊并[1，2-b]喹喔啉-2-磺酸的固体成分质量配合比为20:80。接着，使用旋转蒸发器调制该混合水溶液，以使水溶液中的会喔啉衍生物的浓度为13质量％。通过偏光显微镜观察调制后的水溶液，结果在23 °C下显示向列型液晶相。
通过与实施例l同样地将上述调制的水溶液涂布于高分子薄膜并干燥，从而在高分子薄膜(基材)的表面制作出双折射薄膜D。该双折射薄膜D满足nx〉nz〉ny的关系。实施例4的双折射薄膜D的特性示于表1 。[参考例l]
使用包含上述合成例2中得到的苊并[l,2-b]喹喔啉-2，5-二磺酸的水溶液。使用旋转蒸发器调制该水溶液，以使水溶液中的苊并[l，2-b]会喔啉-2,5-二磺酸的浓度为25质量o/。。通过偏光显微镜观察调制后的水溶液，结果在23 °C下显示向列型液晶相。
通过与实施例l同样地将上述调制的水溶液涂布于高分子薄膜并干燥，从而在高分子薄膜(基材)的表面制作出双折射薄膜F。该双折射薄膜F满足nx〉nz〉ny的关系。
参考例1的双折射薄膜F的特性示于表1 。
使用包含上述合成例3中得到的苊并[l,2-b]喹喔啉-2-磺酸的水溶液。使用旋转蒸发器调制该水溶液，以使水溶液中的苊并[1 ，2-b]喹喔啉-2-磺酸的浓度为12质量％ 。通过偏光显微镜观察调制后的水溶液，结果在23 °C下显示向列型液晶相。
与实施例l同样地将上述调制的水溶液涂布于高分子薄膜并干燥。然而，干燥时喹喔啉衍生物结晶化，不能得到能够用作双折射薄膜的薄膜。
从实施例1 4的结果来看，Nz系数较低的双折射薄膜可以通过提高第1衍生物(苊并[1,2 - b ]喹喔啉-2 ， 5 - 二磺酸)的配合比而获得。另一方面，Nz系数比较高的双折射薄膜可以通过提高第2衍生物(苊并[1 ，2-b]喹喔啉-2-磺酸)的配合比而获得。这样，可知根据第1和第2衍生物的配合比，双折射薄膜的Nz系数相对变化。因此，通过适当设定第1和第2衍生物的配合比，从而可以得到具有期望的Nz系数的双折射薄膜。另外，从参考例2的结果来看，单独使用第2衍生物(苊并[l，2-b]喹喔啉-厶磺酸)，贝'J不能制作双折射薄膜。
权利要求
1.一种双折射薄膜，其含有显示出溶致液晶性且由下述通式(X1)表示的第1苊并[1，2-b]喹喔啉衍生物和显示出溶致液晶性且由下述通式(Y1)表示的第2苊并[1，2-b]喹喔啉衍生物，折射率椭球体满足nx≥nz＞ny的关系，其中，式(X1)和式(Y1)中，A各自独立地表示选自-COOM、-SO3M、-PO3M、-OM、-NH2和-CONH2的取代基，其中，M为抗衡离子；a表示A的取代数，为1～3的整数；B各自独立地表示选自卤素原子、-COOM、-SO3M、-PO3M、-OM、-NH2、-NO2、-CF3、-CN、-OCN、-SCN、-CONH2、-OCOCH3、-NHCOCH3、碳原子数1～4的烷基和碳原子数1～4的烷氧基的取代基，其中，M为抗衡离子；b表示B的取代数，为0～4的整数。
2.根据权利要求l所述的双折射薄膜，前述第l苊并[l,2-b] 喹喔啉衍生物由下述通式(X2)表示，(X2)其中，式(X2)中，A、 B和b与式(Xl)相同。
3.根据权利要求l所述的双折射薄膜，前述第l苊并[l，2-b] 喹喔啉衍生物由下述通式(X3)表示，(X3)其中，式(X3)中，A和a与式(Xl)相同。
4. 根据权利要求3所述的双折射薄膜，前述通式(X3)的A 为-COOM或-S03M。
5. 根据权利要求1 4任一项所述的双折射薄膜，前述第2 苊并[1 ，2-b]喹喔啉衍生物由下述通式(Y2)表示，《b…(Y2)其中，式(Y2)中，A、 B和b与式(Yl)相同。
6.根据权利要求1 4任一项所述的双折射薄膜，前述第2苊并[l，2-b]喹喔啉衍生物由下述通式(Y3)表示，…(Y3)其中，式(Y3)中，A和a与式(Yl)相同。
7. 根据权利要求6所述的双折射薄膜，前述通式(Y3)的A 为-COOM或-S03M。
8. 根据权利要求1 7任一项所述的双折射薄膜，其中，相 对于100质量份总固体成分，包含1质量份 99质量〗分前述第l苊 并[1 ，2-b]喹喔啉衍生物、包含1质量份~99质量份前述第2苊并 [1,2-b]会喔p林书f生物。
9. 根据权利要求1 8任一项所述的双折射薄膜，其通过将 包含前述第l苊并[l，2-b]喹喔啉衍生物和前述第2苊并[l，lb]喹 喔啉衍生物的溶液涂布到基材上、干燥而获得。
10. 根据权利要求1 9任一项所述的双折射薄膜，Nz系数 为0 0.5。
11. 根据权利要求1 10任一项所述的双折射薄膜，波长 590賺下的面内的相位差值(Re[590])为20画 1000腿。
12. 根据权利要求1 11任一项所述的双折射薄膜，波长 590nm下的厚度方向的相位差值(Rth[590])为0nm 1000nm。
13. —种层压薄膜，其具有权利要求1 12任一项所述的双 折射薄膜和其他薄膜。
14. 根据权利要求13所述的层压薄膜，前述其他薄膜包含 偏振片。
15. —种图像显示装置，其具备权利要求1 12任一项所述 的双折射薄膜。
全文摘要
本发明提供一种双折射薄膜，其折射率椭球体满足nx≥nz＞ny的关系，薄且轻量，进而具有期望的Nz系数。本发明的双折射薄膜含有显示出溶致液晶性的第1苊并[1，2-b]喹喔啉衍生物和显示出溶致液晶性的第2苊并[1，2-b]喹喔啉衍生物，折射率椭球体满足nx≥nz＞ny的关系。该双折射薄膜的Nz系数优选为0～0.5。
文档编号G02B5/30GK101627325SQ20088000762
公开日2010年1月13日 申请日期2008年3月3日 优先权日2007年3月30日
发明者井上彻雄, 宫崎顺三, 松田祥一 申请人:日东电工株式会社